專(zhuān)利名稱(chēng)：光盤(pán)片刻錄機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種光盤(pán)片刻錄機(jī)，且特別是有關(guān)于一種能穩(wěn)定內(nèi)部流場(chǎng)(flow-field)的光盤(pán)片刻錄機(jī)。
背景技術(shù)：
光盤(pán)片具有儲(chǔ)存容量大、保存容易、保存期限長(zhǎng)、成本低廉與資料不易損害等優(yōu)點(diǎn)，因此目前已逐漸取代一般傳統(tǒng)的磁性?xún)?chǔ)存媒體而成為現(xiàn)代人不可或缺的光學(xué)儲(chǔ)存媒體之一。一般來(lái)說(shuō)，使用者會(huì)使用只讀光驅(qū)(CD-ROM)來(lái)讀取這些光盤(pán)片中所記錄的數(shù)據(jù)，但只讀光驅(qū)并無(wú)法將數(shù)據(jù)記錄在光盤(pán)片上。因此，同時(shí)具備數(shù)據(jù)讀取與記錄功能的刻錄機(jī)(CD Recording Device)已逐漸成為市場(chǎng)的主流。
圖1A繪示為現(xiàn)有32倍速光盤(pán)片刻錄機(jī)的分解示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1A，現(xiàn)有光盤(pán)片刻錄機(jī)100主要是由一外殼110、一光學(xué)讀寫(xiě)模塊120、一傳動(dòng)模塊130以及一前面板160所構(gòu)成。其中，外殼110包括底殼112及上蓋150，而光學(xué)讀寫(xiě)模塊120與傳動(dòng)模塊130是分別配置于外殼110內(nèi)。此外，前面板160是與上蓋150以及底殼112連接，且前面板160通常具有一進(jìn)/退片口162，以利加載或退出光盤(pán)片。另外，在現(xiàn)有光盤(pán)片刻錄機(jī)100中，為了使上蓋150具有較佳的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，制造者通常會(huì)在上蓋150的外表面154上沖出結(jié)構(gòu)性強(qiáng)化凹槽154a以及154b。
一般而言，光盤(pán)片刻錄機(jī)100的寫(xiě)入模式可分為多種，如固定線性速度模式(Constant Linear Velocity Mode，CLV Mode)、固定角速度模式(Constant Angular Velocity Mode，CAV Mode)、區(qū)域固定線性速度模式(Zone-Constant Linear Velocity Mode，Z-CLV Mode)、部分固定角速度模式(Partial-Constant Angular Velocity Mode，P-CAVMode)等，而在高倍速刻錄機(jī)中，以區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLVMode)的應(yīng)用最為廣泛。
以32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的刻錄機(jī)為例，一般是以16倍速、24倍速(光盤(pán)片上約10分鐘的位置)以及32倍速(光盤(pán)片上約30分鐘的位置)分段進(jìn)行刻錄。當(dāng)光盤(pán)片刻錄機(jī)100以32倍速寫(xiě)入至光盤(pán)片上約44-48分鐘的位置時(shí)(此時(shí)光盤(pán)片的轉(zhuǎn)速約為每分鐘7600轉(zhuǎn))，由于光盤(pán)片的高速旋轉(zhuǎn)會(huì)在光盤(pán)片刻錄機(jī)100內(nèi)部產(chǎn)生不穩(wěn)定流場(chǎng)，而光盤(pán)片刻錄機(jī)100內(nèi)部不穩(wěn)定流場(chǎng)與光盤(pán)片之間的耦合效應(yīng)，會(huì)讓光盤(pán)片發(fā)生振顫(Flutter)或是變形，使得此處的寫(xiě)入品質(zhì)(writing quality)變差，進(jìn)而造成光盤(pán)片在其44-48分鐘位置上的數(shù)據(jù)存取失敗。
圖1B繪示為現(xiàn)有32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)在刻錄時(shí)，第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的測(cè)量結(jié)果。由圖1B可知，光盤(pán)片刻錄機(jī)100的第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2皆有一明顯的峰值。
然而，若第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2太大，則表示此時(shí)的寫(xiě)入品質(zhì)變差，進(jìn)而造成光盤(pán)片在長(zhǎng)度44-48分鐘處的資料存取失敗。因此，第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的值愈小，光盤(pán)片的寫(xiě)入品質(zhì)愈佳。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提出一種光盤(pán)片刻錄機(jī)，其可改善光盤(pán)片刻錄機(jī)內(nèi)部的流場(chǎng)，以有效提高光盤(pán)片刻錄機(jī)的寫(xiě)入品質(zhì)。
本發(fā)明提出一種光盤(pán)片刻錄機(jī)，此光盤(pán)片刻錄機(jī)包括一外殼、一光學(xué)讀寫(xiě)模塊以及一傳動(dòng)模塊。其中，外殼包括一底殼與一上蓋，而光學(xué)讀寫(xiě)模塊及傳動(dòng)模塊是分別配置于外殼內(nèi)。承上述，光學(xué)讀寫(xiě)模塊包括一光學(xué)讀寫(xiě)頭，且光學(xué)讀寫(xiě)頭適于沿著一尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)，而傳動(dòng)模塊適于使一光盤(pán)片以一旋轉(zhuǎn)軸為軸心轉(zhuǎn)動(dòng)。值得注意的是，上蓋具有一內(nèi)表面與一外表面，且上蓋的內(nèi)表面上具有一第一凸出以及一第二凸出，其中第一凸出與第二凸出是位于尋軌路徑的上方，且第一凸出較第二凸出靠近旋轉(zhuǎn)軸。此外，第一凸出的高度較第二凸出的高度低。
本實(shí)施例中，光學(xué)讀寫(xiě)模塊更包括一固定基座、一組導(dǎo)桿以及一第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)。其中，固定基座是配置于外殼內(nèi)，而一組導(dǎo)桿是配置于固定基座上。此外，光學(xué)讀寫(xiě)頭是配置于一組導(dǎo)桿上，以沿著尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)，而第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)用以驅(qū)動(dòng)光學(xué)讀寫(xiě)頭沿著尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)。
本實(shí)施例中，傳動(dòng)模塊包括一第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)、一下夾持件以及一上夾持件。其中，第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)是配置于外殼內(nèi)，而下夾持件與第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接。此外，上夾持件則配置于下夾持件上方，且下夾持件適于與上夾持件共同夾住光盤(pán)片。承上述，下夾持件與上夾持件例如是借由磁力吸附的方式共同夾住光盤(pán)片。
本實(shí)施例中，上蓋的外表面上例如更具有至少一結(jié)構(gòu)性強(qiáng)化凹槽。
本實(shí)施例中，第一凸出例如為一條狀凸出，且條狀凸出的延伸方向與尋軌路徑垂直。此外，第一凸出分布于距離旋轉(zhuǎn)軸30-40毫米的區(qū)域上，第一凸出的高度為0.8-1.2毫米。
本實(shí)施例中，第二凸出例如為一條狀凸出，且條狀凸出的延伸方向與尋軌路徑垂直。此外，第二凸出分布于距離旋轉(zhuǎn)軸45-55毫米的區(qū)域上，第二凸出的高度為1.6-2.4毫米。
依照本發(fā)明的較佳實(shí)施例所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)例如更包括一與底殼及上蓋連接的前面板，而此前面板通常具有一進(jìn)/退片口，以利光盤(pán)片進(jìn)出。
基于上述，本發(fā)明于光盤(pán)片刻錄機(jī)的上蓋的適當(dāng)位置上設(shè)計(jì)第一凸出及第二凸出，以在光盤(pán)片高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，穩(wěn)定光盤(pán)片刻錄機(jī)內(nèi)部的流場(chǎng)，進(jìn)而提高光盤(pán)片刻錄機(jī)的寫(xiě)入品質(zhì)。


圖1A繪示為現(xiàn)有32倍速光盤(pán)片刻錄機(jī)的分解示意圖。
圖1B繪示為現(xiàn)有32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)在刻錄時(shí)，第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的測(cè)量結(jié)果。
圖2A繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)的分解示意圖。
圖2B繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)中光學(xué)讀寫(xiě)模塊及傳動(dòng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3A繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)中上蓋的上視圖。
圖3B繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)中上蓋的側(cè)視圖。
圖4A繪示為區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)中寫(xiě)入速率與光盤(pán)片位置的關(guān)系圖。
圖4B繪示為區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)中轉(zhuǎn)數(shù)與光盤(pán)片位置的關(guān)系圖。
圖5繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)在刻錄時(shí)，第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的測(cè)量結(jié)果。
具體實(shí)施例方式
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下。
本實(shí)施例中，雖以32倍速光盤(pán)片刻錄機(jī)為例進(jìn)行說(shuō)明，但并非限定本發(fā)明的光盤(pán)片刻錄機(jī)必須為32倍速的光盤(pán)片刻錄機(jī)。
圖2A繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)的分解示意圖，而圖2B繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)的光學(xué)讀寫(xiě)模塊及傳動(dòng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D2A以及圖2B，光盤(pán)片刻錄機(jī)200包括一外殼210、一光學(xué)讀寫(xiě)模塊220及一傳動(dòng)模塊230。其中，外殼210包括一底殼212及一上蓋250，而光學(xué)讀寫(xiě)模塊220及傳動(dòng)模塊230是分別配置于外殼210內(nèi)。
承上所述，光盤(pán)片刻錄機(jī)200例如更具有一前面板260，而前面板260是與上蓋250及底殼212連接，且前面板260通常具有一進(jìn)/退片口262，以利加載或退出光盤(pán)片。此外，在上蓋250的外表面254上例如具有結(jié)構(gòu)性強(qiáng)化凹槽254a及254b，用以增加上蓋250的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。
請(qǐng)?jiān)賲⒄請(qǐng)D2A及圖2B，光學(xué)讀寫(xiě)模塊220例如具有一光學(xué)讀寫(xiě)頭222，用以讀取光盤(pán)片的數(shù)據(jù)。此外，光學(xué)讀寫(xiě)模塊220例如更具有一固定基座224、一組導(dǎo)桿226及一第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)228。其中，固定基座224配置于外殼210內(nèi)，一組導(dǎo)桿226是配置于固定基座224上，而光學(xué)讀寫(xiě)頭222是配置于一組導(dǎo)桿226上并借由第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)228透過(guò)導(dǎo)螺桿或齒輪組(圖中未繪示)驅(qū)動(dòng)，以沿著尋軌路徑(Track-seeking，即Y軸方向)作往復(fù)移動(dòng)。
請(qǐng)?jiān)賲⒄請(qǐng)D2A及圖2B，傳動(dòng)模塊230例如具有一第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)232、一下夾持件234及一上夾持件236。其中，第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)232是配置于外殼210內(nèi)并與下夾持件234連接，而上夾持件236(如圖2A所示)則配置于下夾持件234的上方，其中下夾持件234適于與上夾持件236共同夾住光盤(pán)片，而傳動(dòng)模塊230適于使一光盤(pán)片以一旋轉(zhuǎn)軸R為軸心轉(zhuǎn)動(dòng)。此外，下夾持件234與上夾持件236例如是借由磁力吸附的方式共同夾住光盤(pán)片。
圖3A繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)中上蓋的上視圖，而圖3B繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤(pán)片刻錄機(jī)中上蓋的側(cè)視圖。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D2A、圖3A以及圖3B，上蓋250的內(nèi)表面252上具有一第一凸出256a以及一第二凸出256b，而第一凸出256a與第二凸出256b是皆位于尋軌路徑的上方，且第一凸出256a較第二凸出256b靠近旋轉(zhuǎn)軸R，而第一凸出256a的高度較第二凸出256b的高度低。
此外，其中第一凸出256a分布于距離旋轉(zhuǎn)軸R的30-40毫米的區(qū)域上，且第一凸出256a的高度為0.8-1.2毫米。另外，第一凸出256a例如為一條狀凸出，且條狀凸出的延伸方向與尋軌路徑垂直。第二凸出256b分布于距離旋轉(zhuǎn)軸R的45-55毫米的區(qū)域上，且第二凸出256b的高度為1.6-2.4毫米，而第二凸出亦例如為一條狀凸出，且條狀凸出的延伸方向亦與尋軌路徑垂直。
圖4A繪示為區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)中寫(xiě)入速率與光盤(pán)片位置的關(guān)系圖。請(qǐng)參照?qǐng)D4A，一般而言，光盤(pán)片刻錄機(jī)200的寫(xiě)入模式可分為多種，如固定線性速度模式(CLVMode)、固定角速度模式(CAV Mode)、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLVMode)、部分固定角速度模式(P-CAV Mode)等，而在高倍速刻錄機(jī)中，以區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的應(yīng)用最為廣泛，因此在本實(shí)施例中亦將以32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的刻錄機(jī)為例。
圖4B繪示為區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)中轉(zhuǎn)數(shù)與光盤(pán)片位置的關(guān)系圖。請(qǐng)同時(shí)參考圖4A及圖4B，現(xiàn)有的光盤(pán)片刻錄機(jī)100以32倍速寫(xiě)入至光盤(pán)片長(zhǎng)度44-48分鐘(此時(shí)光盤(pán)片的轉(zhuǎn)速亦通過(guò)7600 RPM附近)的位置時(shí)，由于光盤(pán)片的高速旋轉(zhuǎn)會(huì)在光盤(pán)片刻錄機(jī)100內(nèi)部產(chǎn)生一不穩(wěn)定流場(chǎng)，而此不穩(wěn)定流場(chǎng)將與光盤(pán)片之間產(chǎn)生耦合效應(yīng)，而使得此處的寫(xiě)入品質(zhì)(writing quality)變差，進(jìn)而造成光盤(pán)片在其44-48分鐘位置上的數(shù)據(jù)存取失敗。
本發(fā)明的上蓋250的內(nèi)表面252具有第一凸出256a及第二凸出256b。借由上蓋250的內(nèi)表面252上的第一凸出256a及第二凸出256b，可以在光盤(pán)片高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，穩(wěn)定光盤(pán)片刻錄機(jī)200內(nèi)部的流場(chǎng)，進(jìn)而使光盤(pán)片能穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
圖5繪示為本發(fā)明的實(shí)施例的32倍速、區(qū)域固定線性速度模式(Z-CLV Mode)的光盤(pán)片刻錄機(jī)在刻錄時(shí)，第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1以及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的測(cè)量結(jié)果。由圖5可知，光盤(pán)片刻錄機(jī)200的第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1與圖1B中現(xiàn)有的第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1相較之下有明顯的下降，而第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2，其測(cè)量結(jié)果幾乎為0。
基于上述的第一層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C1及第二層RS碼譯碼輸出的錯(cuò)誤率C2的測(cè)量結(jié)果，可得知借由上蓋250的內(nèi)表面252上的第一凸出256a及第二凸出256b，可以穩(wěn)定光盤(pán)片刻錄機(jī)200內(nèi)部的流場(chǎng)，進(jìn)而提高光盤(pán)片刻錄機(jī)200的寫(xiě)入品質(zhì)。
綜上所述，本發(fā)明的光盤(pán)片刻錄機(jī)至少具有下列優(yōu)點(diǎn)
(一)本發(fā)明光盤(pán)片刻錄機(jī)中，上蓋的內(nèi)表面上具有第一凸出及第二凸出，借由第一凸出及第二凸出可改善光盤(pán)片刻錄機(jī)內(nèi)部的流場(chǎng)，進(jìn)而提高光盤(pán)片刻錄機(jī)的寫(xiě)入品質(zhì)。
(二)本發(fā)明光盤(pán)片刻錄機(jī)中，上蓋的特殊設(shè)計(jì)可使得光盤(pán)片刻錄機(jī)的噪音值(Sound Pressure Level)降低0.6分貝(dBA)(相較于現(xiàn)有的光盤(pán)片刻錄機(jī))。
(三)本發(fā)明的光盤(pán)片刻錄機(jī)中，上蓋的特殊設(shè)計(jì)可使得光盤(pán)片刻錄機(jī)的振動(dòng)量減少41％(相較于現(xiàn)有的光盤(pán)片刻錄機(jī))。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求書(shū)所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于包括一外殼，包括一底殼與一上蓋；一光學(xué)讀寫(xiě)模塊，配置于該外殼內(nèi)，其中該光學(xué)讀寫(xiě)模塊包括一光學(xué)讀寫(xiě)頭，且該光學(xué)讀寫(xiě)頭適于沿著一尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)；以及一傳動(dòng)模塊，配置于該外殼內(nèi)，其中該傳動(dòng)模塊適于使一光盤(pán)片以一旋轉(zhuǎn)軸為軸心轉(zhuǎn)動(dòng)；其中，該上蓋具有一內(nèi)表面與一外表面，且該上蓋的內(nèi)表面上具有一第一凸出以及一第二凸出，其中該第一凸出與該第二凸出是位于該尋軌路徑的上方，且該第一凸出較該第二凸出靠近該旋轉(zhuǎn)軸，該第一凸出的高度較該第二凸出的高度低。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該第一凸出為一條狀凸出，且該條狀凸出的延伸方向與該尋軌路徑垂直。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該第二凸出為一條狀凸出，且該條狀凸出的延伸方向與該尋軌路徑垂直。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該第一凸出分布于距離該旋轉(zhuǎn)軸30-40毫米的區(qū)域上，該第一凸出的高度為0.8-1.2毫米。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該第二凸出分布于距離該旋轉(zhuǎn)軸45-55毫米的區(qū)域上，該第二凸出的高度為1.6-2.4毫米。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該光學(xué)讀寫(xiě)模塊更包括一固定基座，配置于該外殼內(nèi)；一組導(dǎo)桿，配置于該固定基座上，其中該光學(xué)讀寫(xiě)頭是配置于該組導(dǎo)桿上，以沿著該尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)；以及一第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，用以驅(qū)動(dòng)該光學(xué)讀寫(xiě)頭沿著該尋軌路徑往復(fù)移動(dòng)。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該傳動(dòng)模塊包括一第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，配置于該外殼內(nèi)；一下夾持件，與該第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接；以及一上夾持件，配置于該下夾持件上方，其中該下夾持件適于與該上夾持件共同夾住該光盤(pán)片。
8.如權(quán)利要求7所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該下夾持件與該上夾持件是借由磁力吸附的方式共同夾住該光盤(pán)片。
9.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，其中該上蓋的該外表面上更具有至少一結(jié)構(gòu)性強(qiáng)化凹槽。
10.如權(quán)利要求1所述的光盤(pán)片刻錄機(jī)，其特征在于，更包括一前面板，與該底殼及該上蓋連接，其中該前面板具有一進(jìn)/退片口，以利該光盤(pán)片進(jìn)出。
全文摘要
一種光盤(pán)片刻錄機(jī)，其包括一外殼、一光學(xué)讀寫(xiě)模塊及一傳動(dòng)模塊，其中光學(xué)讀寫(xiě)模塊及傳動(dòng)模塊皆配置于外殼內(nèi)。此外，外殼包含一底殼與一上蓋，且上蓋的內(nèi)表面上具有一第一凸出以及一第二凸出。借由上蓋的內(nèi)表面上的第一凸出及第二凸出可以穩(wěn)定光盤(pán)片刻錄機(jī)內(nèi)部的流場(chǎng)，進(jìn)而使光盤(pán)片能穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
文檔編號(hào)G11B33/08GK1747051SQ20041007702
公開(kāi)日2006年3月15日 申請(qǐng)日期2004年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月9日
發(fā)明者謝志忠, 陳徵君, 陳伯睿, 呂惠中 申請(qǐng)人:建興電子科技股份有限公司