專利名稱：盤片濺鍍遮罩的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種濺鍍遮罩，特別是一種用于制造盤片的濺鍍制程的盤片濺鍍遮罩。
背景技術：
近年來，由于光學記錄媒體可以儲存大量的資料、具有可攜帶性、且能夠長久保存資料，所以利用光學記錄媒體來儲存資料已經是越來越普及的資料儲存方式，其應用的領域包括儲存影像、音樂或大筆資料等用途。
一般而言，在光學記錄媒體的制造過程中必須使用到數(shù)種制程技術，如濺鍍制程；以光學記錄媒體中的DVD光盤片為例，當要形成DVD光盤片中的反射層時，由于所使用的材料以具反射性的金屬材料為主，所以通常利用濺鍍制程來形成所須的反射層；此時，必須確保盤片基板上濺鍍有反射層材料的區(qū)域位置，所以在進行濺鍍制程時會使用濺鍍遮罩將不需濺鍍的區(qū)域遮蔽住。請參照圖1所示，現(xiàn)有的濺鍍遮罩1具有一開口11，其尺寸必須略小于盤片的面積，亦即是欲形成的反射層的面積；如圖2所示，當進行濺鍍制程時，盤片2會設置于開口11的一側，而濺鍍鈀材3會設置于開口11的另一側，接著，濺鍍鈀材3的物質會被濺鍍至盤片2透過開口11所暴露出的區(qū)域。
然而，濺鍍鈀材3的物質同樣會沉積在濺鍍遮罩1上(如圖3A所示)，結果會影響開口11的正確尺寸，進而造成所濺鍍形成的反射層不符規(guī)格，所以當濺鍍鈀材3的物質在濺鍍遮罩1上累積一定程度時，必須將累積的物質清除，其通常使用噴砂的方式進行，如利用玻璃珠或金剛砂，可是此一步驟會間接造成濺鍍遮罩1的磨損，使得開口11的尺寸越來越大(如圖3B所示)，最后會無法遮蔽到盤片2上不需濺鍍的區(qū)域，此時，濺鍍遮罩1就需要報廢，造成其制造成本的增加。
因此，如何提供一種能夠節(jié)省濺鍍遮罩報廢的成本的盤片濺鍍遮罩，正是當前盤片產業(yè)的重要課題之一。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足與缺陷，提供一種能夠節(jié)省濺鍍遮罩報廢的成本的盤片濺鍍遮罩。
為達上述目的，本發(fā)明提供一種盤片濺鍍遮罩，包括一遮罩主體以及一遮罩內環(huán)。在本發(fā)明中，遮罩主體具有一第一開口及一連接部，連接部環(huán)設于第一開口周圍；遮罩內環(huán)具有一第二開口、并以部分重疊的方式固設于連接部，且第二開口相對位于第一開口中。
承上所述，因依本發(fā)明的盤片濺鍍遮罩將遮罩整體設計成具備有可分離、可替換的遮罩內環(huán)，所以當遮罩內環(huán)無法遮蔽到盤片上不需濺鍍的區(qū)域時，只需要將不敷使用的遮罩內環(huán)卸下、并換裝上新的遮罩內環(huán)，則整個盤片濺鍍遮罩便能夠繼續(xù)使用，因此能夠有效節(jié)省濺鍍遮罩報廢的成本。


圖1為一示意圖，顯示現(xiàn)有的濺鍍遮罩；圖2為一示意圖，顯示利用現(xiàn)有的濺鍍遮罩進行盤片的濺鍍制程的示意；圖3A為一示意圖，顯示于現(xiàn)有的濺鍍遮罩上累積濺鍍靶材的情形；圖3B為一示意圖，顯示于現(xiàn)有的濺鍍遮罩于清除累積的濺鍍靶材后的磨損情形；
圖4為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實施例的盤片濺鍍遮罩的分解圖；圖5為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實施例的盤片濺鍍遮罩的剖面圖。
圖中符號說明1濺鍍遮罩11 開口2盤片3濺鍍鈀材4盤片濺鍍遮罩41 遮罩主體411 第一開口413 連接部415 排氣孔43 遮罩內環(huán)431 第二開口433 螺絲具體實施方式
以下將參照相關附圖，說明依本發(fā)明較佳實施例的盤片濺鍍遮罩，其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
請參照圖4與圖5所示，依本發(fā)明較佳實施例的盤片濺鍍遮罩4包括一遮罩主體41以及一遮罩內環(huán)43。
遮罩主體41具有一第一開口411以及一連接部413，在本實施例中，連接部413為環(huán)設于第一開口411周圍的環(huán)形凹陷部；此外，遮罩主體41更包含至少一排氣孔415，其用于在進行濺鍍制程時，提供排氣的通道，以便進行真空濺鍍。在本實施例中，遮罩主體41通常由散熱快的材料所制成，如銅、或鉻銅合金。
遮罩內環(huán)43具有一第二開口431，其以部分重疊的方式固設于連接部413，其中第二開口431相對位于第一開口411中。在本實施例中，第二開口431的尺寸配合盤片2的待濺鍍區(qū)的尺寸，亦即是，第二開口431的面積符合盤片2的待濺鍍區(qū)的面積；另外，遮罩內環(huán)43利用數(shù)個螺絲433螺設于遮罩主體41的連接部413。因此，本實施例的遮罩內環(huán)43為可替換，而其材質配合遮罩主體41的材質，如銅、或鉻銅合金。
承上所述，在濺鍍制程中濺鍍鈀材的物質會沉積在盤片濺鍍遮罩4上，而與現(xiàn)有相同者，必須于濺鍍鈀材的物質在盤片濺鍍遮罩4上累積一定程度時，將累積的物質清除(如噴砂方式)，此時，雖然此一步驟會間接造成盤片濺鍍遮罩4的磨損，尤其是遮罩內環(huán)43的磨損，使得第二開口431的尺寸越來越大，但于本發(fā)明中，只需將不能使用的遮罩內環(huán)43卸下，并換裝上新的遮罩內環(huán)，則整組盤片濺鍍遮罩4便可以繼續(xù)使用，而不需整組報廢；換言之，當盤片濺鍍遮罩4有磨損時，只需更換體積較小、重量較輕、成本較低的遮罩內環(huán)43，而遮罩主體41雖有些微磨損，但仍能夠繼續(xù)使用，如此將可有效節(jié)省盤片濺鍍遮罩4的整體成本，并增加其使用期限。除此之外，盤片濺鍍遮罩4亦可以配合所濺鍍的盤片的形狀及尺寸(如不同直徑大小的盤片或名片形盤片等)，選用具有適當?shù)牡诙_口的遮罩內環(huán)(圖中未顯示)，更增添其實用性。
綜上所述，由于依本發(fā)明的盤片濺鍍遮罩將遮罩整體設計成遮罩本體，再加上具備有可分離、可替換的遮罩內環(huán)，所以當遮罩內環(huán)受磨損而無法遮蔽到盤片上不需濺鍍的區(qū)域時，只需要將不敷使用的遮罩內環(huán)卸下、并換裝上新的遮罩內環(huán)，則整個盤片濺鍍遮罩便能夠繼續(xù)使用，因此能夠有效節(jié)省盤片濺鍍遮罩報廢的成本。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進行的等效修改或變更，均應包含于權利要求書的范圍中。
權利要求
1.一種盤片濺鍍遮罩，其特征在于，包含一遮罩主體，其具有一第一開口、以及一連接部，該連接部環(huán)設于該第一開口周圍；以及一遮罩內環(huán)，其具有一第二開口、并以部分重疊的方式固設于該連接部，其中該第二開口相對位于該第一開口中。
2.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該第二開口配合一盤片的待濺鍍區(qū)。
3.如權利要求2所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該第二開口的面積配合該盤片的待濺鍍區(qū)的面積。
4.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該遮罩主體更包含至少一排氣孔。
5.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該遮罩內環(huán)螺設于該遮罩主體的該連接部。
6.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該遮罩內環(huán)為可替換。
7.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該遮罩主體由銅所制成。
8.如權利要求1所述的盤片濺鍍遮罩，其中，該遮罩內環(huán)由銅所制成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種盤片濺鍍遮罩，包含一遮罩主體以及一遮罩內環(huán)，其中，遮罩主體具有一第一開口及一連接部，連接部環(huán)設于第一開口周圍；遮罩內環(huán)具有一第二開口、并以部分重疊的方式固設于連接部，且第二開口相對位于第一開口中。
文檔編號G11B7/26GK1734609SQ20041005744
公開日2006年2月15日 申請日期2004年8月13日 優(yōu)先權日2004年8月13日
發(fā)明者林傳家, 劉近興 申請人:精碟科技股份有限公司