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信息記錄介質(zhì)和裝置,信息重現(xiàn)裝置和記錄/重現(xiàn)裝置的制作方法

文檔序號(hào):6752669閱讀:131來源:國(guó)知局
專利名稱:信息記錄介質(zhì)和裝置,信息重現(xiàn)裝置和記錄/重現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于信息記錄介質(zhì)的技術(shù)領(lǐng)域,比如具有高密度記錄和高容量記錄能力的光盤,以及屬于具有從信息記錄介質(zhì)上讀取或向其寫入的信息重現(xiàn)和信息記錄能力的信息重放裝置、信息記錄裝置和信息記錄/重放裝置的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
常規(guī)的,用于高密度信息記錄和大信息容量的信息記錄介質(zhì)的發(fā)展,和使用該信息記錄介質(zhì)的信息記錄裝置和重放裝置已經(jīng)在研發(fā)中。尤其是,隨著信息社會(huì)的發(fā)展,不僅是處理的信息數(shù)量而且移動(dòng)應(yīng)用或可便攜用途都增加了,且增加了對(duì)壓縮的、高容量信息記錄介質(zhì)的需求。這樣的情況下,用作光學(xué)記錄和重現(xiàn)的相對(duì)易于操作的光盤的使用增加了,比如CD-ROM(壓縮光盤-只讀存儲(chǔ)器)、MD(迷你光盤)、DVD(數(shù)字多用-只讀存儲(chǔ)器)。
這些光盤的記錄密度和記錄容量由特定因素決定。這些因素包括用于記錄和重現(xiàn)的光的類型,比如半導(dǎo)體激光器的波長(zhǎng);該波長(zhǎng)實(shí)際可用的光學(xué)系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑);相應(yīng)于所記錄信息的凹陷、凸起和坑點(diǎn)(pit)的形狀和深度;從用于裝置控制的坑點(diǎn)獲得的誤差信號(hào)的質(zhì)量。
比如,對(duì)于常規(guī)的光盤,軌道槽的深度或坑點(diǎn)的深度設(shè)定為λ/4n,該數(shù)值下,坑點(diǎn)處重現(xiàn)的信息的信號(hào)或者RF信號(hào)升高到最大水平。另一方面,在λ/4n下,作為伺服應(yīng)用的錯(cuò)誤信號(hào)的推挽信號(hào)不能被探測(cè)到,并且該推挽信號(hào)在λ/8n下升至最大水平??疾焐鲜鰞煞N條件,使用接近λ/6n的數(shù)值作為坑點(diǎn)的實(shí)際深度。應(yīng)注意,λ是激光的波長(zhǎng),n是所使用的記錄介質(zhì)的折射率。
然而,根據(jù)發(fā)明者的研究,當(dāng)光學(xué)系統(tǒng),比如具有0.75或更大的NA,即采用具有高NA透鏡的光學(xué)系統(tǒng)作為光盤裝置中的重現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng),以增加記錄密度,具有常規(guī)的坑點(diǎn)深度(接近λ/6n)的光盤引起一個(gè)技術(shù)問題,其使得很難有效的產(chǎn)生RF信號(hào)和推挽信號(hào)。特別是,當(dāng)具有短波的藍(lán)光激光被用作光源,具有NA小于0.75的透鏡常規(guī)的光學(xué)系統(tǒng)和具有常規(guī)坑點(diǎn)深度(接近λ/6n)的光盤使得很難有效的產(chǎn)生具有大的幅值的RF信號(hào)和推挽信號(hào)。

發(fā)明內(nèi)容
因而,本發(fā)明的目的是提供一種適用于高記錄密度和高記錄容量、以及能夠產(chǎn)生對(duì)于使用NA為0.75或更大的光學(xué)系統(tǒng)的光盤裝置幅值足夠大的RF信號(hào)和推挽信號(hào)的信息記錄介質(zhì),以及用于重現(xiàn)在該信息記錄介質(zhì)上記錄的信息的信息重現(xiàn)裝置、用于在該信息記錄介質(zhì)上記錄信息的信息記錄裝置,和用于在該信息記錄介質(zhì)上記錄信息或者從其上讀取信息的信息記錄/重現(xiàn)裝置。
為了解決問題,第一發(fā)明提供一種信息記錄介質(zhì),該介質(zhì)被通過NA為0.75或更大的光學(xué)系統(tǒng)的光束所照射,以在記錄部分坑點(diǎn)上重現(xiàn)信息或記錄信息。在信息記錄介質(zhì)中,如果光束的光學(xué)波長(zhǎng)是λ,記錄部分的折射率是n,坑點(diǎn)的深度d是d,坑點(diǎn)的深度d落入下限為λ/8n和上限為λ/4.5n的范圍內(nèi),即λ/8n≤d≤λ/4.5n。
根據(jù)第一發(fā)明的信息記錄介質(zhì),用于記錄信息的坑點(diǎn)的深度d限定在大于λ/8n、小于λ/4.5n的范圍內(nèi),即λ/8n≤d≤λ/4.5n。從光束入射側(cè)看,這樣的坑點(diǎn)可以在記錄部分上形成或者凹陷形狀或者凸起形狀。在記錄部分上的坑點(diǎn)的深度d是相對(duì)一側(cè)計(jì)算的,它也可以被處理為相對(duì)另一側(cè)的高度。
根據(jù)發(fā)明者對(duì)信息重現(xiàn)裝置、信息記錄裝置和信息記錄/重現(xiàn)裝置的研究,比如對(duì)使用NA大于等于0.75(即具有高NA透鏡)的光學(xué)系統(tǒng)的光盤裝置的研究,確定的是,坑點(diǎn)越深,其深度看起來越淺,并且可以在即使為λ/4n的情況下獲得作為誤差信號(hào)的推挽信號(hào)。這種現(xiàn)象也被向量分析所證實(shí)。在前述條件下,深度d落入λ/8n≤d≤λ/4.5n的范圍內(nèi),作為對(duì)記錄在信息記錄介質(zhì)上的信息的重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào),和作為光學(xué)系統(tǒng)控制信號(hào)的推挽信號(hào)都能夠輸出足夠大的數(shù)值??梢允褂冒雽?dǎo)體激光,比如,作為具有這樣的光學(xué)波長(zhǎng)λ的光學(xué)系統(tǒng)的光源。特別是優(yōu)選的使用短波發(fā)射的半導(dǎo)體激光,比如藍(lán)光束,以滿足高記錄密度的需求。根據(jù)本發(fā)明,即使這樣的一束藍(lán)光足以獲得具有足夠幅值的RF信號(hào)和推挽信號(hào)。
結(jié)果,即使在比如使用NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光盤裝置中,可實(shí)現(xiàn)能夠產(chǎn)生具有足夠幅值的RF信號(hào)和推挽信號(hào)的高密度、高容量信息記錄介質(zhì)。
第一發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的一方面,坑點(diǎn)的深度d的下限被設(shè)定為d=λ/5.5n。
根據(jù)該方面,坑點(diǎn)的深度d的下限是d=λ/5.5n,坑點(diǎn)的深度d被限定在小于等于λ/4.5n的范圍內(nèi),即λ/5.5n≤d≤λ/4.5n。在這種條件下,作為信息的重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)和作為光學(xué)系統(tǒng)控制信號(hào)的推挽信號(hào)可以在優(yōu)選的水平上輸出。
第一發(fā)明的另一方面,坑點(diǎn)的深度d的上限被設(shè)定為d=λ/4.7n。
根據(jù)該方面,坑點(diǎn)的深度d的下限是d=λ/4.7n,坑點(diǎn)的深度d被限定在大于等于λ/8n和小于等于4.7n的范圍內(nèi),即λ/8n≤d≤λ/4.7n。在這種條件下,作為信息的重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)和作為光學(xué)系統(tǒng)控制信號(hào)的推挽信號(hào)可以在優(yōu)選的水平上輸出。
更優(yōu)選的是將坑點(diǎn)的深度限制在大于等于d=λ/5.5n、小于等于d=λ/4.7n的范圍內(nèi),即λ/5.5n≤d≤λ/4.7n。在這種條件下,作為信息的重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)和作為光學(xué)系統(tǒng)控制信號(hào)的推挽信號(hào)可以在更優(yōu)選的水平上輸出。
在第一發(fā)明的再一方面,如果坑點(diǎn)的平均寬度是W[nm],坑點(diǎn)的錐度為θ度,且坑點(diǎn)的實(shí)際深度是D[nm],坑點(diǎn)的深度是由該公式所代表的近似深度所決定的d=W×D/(W+D/tanθ)。
根據(jù)該方面,當(dāng)相應(yīng)于所記錄信息的坑點(diǎn)以錐型在一盤基上形成的時(shí)候,坑點(diǎn)的近似深度d由上述公式給出。
應(yīng)注意到,該坑點(diǎn)在盤基上形成的形狀可以是凹陷或者凸起。
第一發(fā)明的再一方面,信息記錄介質(zhì)被通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光束所照射,以在記錄部分坑點(diǎn)上重現(xiàn)信息或記錄信息。另外,推挽調(diào)制比大于等于0.13。
根據(jù)該方面,當(dāng)坑點(diǎn)的近似深度d限定在λ/5.5n≤d≤λ/4.7n的范圍內(nèi),如果推挽調(diào)制比大于等于0.13,作為光學(xué)系統(tǒng)控制信號(hào)的推挽信號(hào)可以在最優(yōu)水平上輸出。
下面,為了解決問題,第二發(fā)明提供一種信息重現(xiàn)裝置,其將記錄在上述第一發(fā)明(包括第一發(fā)明的每個(gè)方面)的信息記錄介質(zhì)上的信息重現(xiàn)。該信息重現(xiàn)裝置設(shè)置有一種重現(xiàn)光學(xué)裝置,其通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng),使用重現(xiàn)光束照射記錄部分,并接收從記錄部分返回的基于該光束的光;一種用于控制該重現(xiàn)光學(xué)裝置的重現(xiàn)操作的重現(xiàn)控制裝置;一種解調(diào)由該重現(xiàn)光學(xué)裝置所產(chǎn)生的光接收信號(hào)的信號(hào)解調(diào)裝置。
根據(jù)第二發(fā)明的信息重現(xiàn)裝置,該重現(xiàn)光學(xué)裝置使用重現(xiàn)光束照射該信息記錄介質(zhì)的記錄部分,并接收從記錄部分返回的基于該光束的光以產(chǎn)生光接收信號(hào)。“從記錄部分返回的基于該光束的光”可以是例如反射光,但它也可以是透射光或者衍射光。大致上該信號(hào)解調(diào)裝置解調(diào)由該重現(xiàn)光學(xué)裝置產(chǎn)生的光接收信號(hào)。因?yàn)樵撝噩F(xiàn)光學(xué)裝置通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)照射本發(fā)明的信息記錄介質(zhì),其滿足λ/8n≤d≤λ/4.5n的條件,具有大幅值的推挽信號(hào)和RF信號(hào)可以從由重現(xiàn)信號(hào)產(chǎn)生的光接收信號(hào)產(chǎn)生。
該信息重現(xiàn)裝置也包括用于操作該信息重現(xiàn)裝置的裝置,用于顯示該信息重現(xiàn)裝置的操作狀態(tài)的裝置等等適合于通常用途的裝置。
在第二發(fā)明的信息重現(xiàn)裝置的另一方面,該重現(xiàn)控制裝置還設(shè)置有尋軌伺服裝置,以基于由該重現(xiàn)光學(xué)裝置產(chǎn)生的光接收信號(hào)來執(zhí)行尋軌伺服。
根據(jù)該方面,基于該光接收信號(hào)產(chǎn)生足夠大的尋軌信號(hào),使得可以執(zhí)行高性能的尋軌。
在該方面,尋軌伺服裝置可以設(shè)置為通過推挽或差動(dòng)推挽方法來執(zhí)行尋軌伺服。
根據(jù)這種設(shè)置,具有足夠幅值的RF信號(hào)和推挽信號(hào)能夠基于該光接收信號(hào)獲得。另外,這樣大幅值的推挽信號(hào)使得可以執(zhí)行高性能的尋軌。
下面,為解決問題,第三發(fā)明提供一種信息記錄裝置,該裝置在上述第一發(fā)明(包括第一發(fā)明的每個(gè)方面)的信息記錄介質(zhì)上記錄信息。該信息記錄裝置設(shè)置有一種記錄光學(xué)裝置,其通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng),使用記錄光束照射記錄部分;一種信號(hào)調(diào)制裝置,用于將代表所記錄信息的信息信號(hào)轉(zhuǎn)換為一記錄信號(hào);一種記錄控制裝置,其將由信號(hào)調(diào)制裝置轉(zhuǎn)換的記錄信號(hào)輸入到記錄光學(xué)裝置中,以控制記錄操作。
根據(jù)第三發(fā)明的信息記錄裝置,信號(hào)調(diào)制裝置將代表所記錄的信息的信息信號(hào)轉(zhuǎn)換為記錄信號(hào),并且記錄控制裝置將記錄信號(hào)輸入到記錄光學(xué)裝置中。在記錄控制裝置的控制下,記錄光學(xué)裝置使用記錄光束照射信息記錄介質(zhì)的記錄部分。因?yàn)橥ㄟ^NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng),記錄光學(xué)裝置使用光束照射本發(fā)明的信息記錄介質(zhì),使得可能制得使用例如藍(lán)光的激光光束的高密度記錄或高容量記錄。在這種情況下,對(duì)激光能量進(jìn)行控制并選擇記錄介質(zhì)的厚度來以下面的方式執(zhí)行記錄使用例如在記錄時(shí)使用激光能量吹去記錄介質(zhì)一定厚度的技術(shù),來滿足λ/8n≤d≤λ/4.5n的條件。
該信息記錄裝置也包括用于操作該信息記錄裝置的裝置,用于顯示該信息記錄裝置的操作狀態(tài)的裝置等等適合于通常用途的裝置。
下面,為了解決問題,第四發(fā)明提供一種信息記錄/重現(xiàn)裝置,該裝置在上述本發(fā)明(包括本發(fā)明的每個(gè)方面)的信息記錄介質(zhì)上記錄和重現(xiàn)信息。該信息記錄/重現(xiàn)裝置設(shè)置有一種記錄和重現(xiàn)光學(xué)裝置,其通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng),使用重現(xiàn)光束照射記錄部分、接收從記錄部分返回的基于該光束的光以在重現(xiàn)時(shí)產(chǎn)生光接收信號(hào),并且在記錄時(shí)使用記錄光束照射記錄部分;一種重現(xiàn)控制裝置,用于控制該記錄/重現(xiàn)裝置的重現(xiàn)操作;一種信號(hào)解調(diào)裝置,用于將代表所記錄的信息的信息信號(hào)轉(zhuǎn)換為記錄信號(hào);一種記錄控制裝置,用于將由信號(hào)調(diào)制裝置轉(zhuǎn)換的記錄信號(hào)輸入到記錄/重現(xiàn)光學(xué)裝置中,以控制記錄操作。
根據(jù)第四發(fā)明的信息記錄/重現(xiàn)裝置,記錄以與上述本發(fā)明的信息記錄裝置相同的方式操作,且重現(xiàn)以與上述本發(fā)明的信息重現(xiàn)裝置相同的方式操作。因?yàn)榫哂写蠓档腞F信號(hào)和推挽信號(hào)可以基于該光接收信號(hào)獲得,信息可以以高密度和高容量被記錄或者重現(xiàn)。
第四發(fā)明的信息記錄/重現(xiàn)裝置可以在某些方面以與前述第二發(fā)明的信息重現(xiàn)裝置相同的方式實(shí)現(xiàn)。
本發(fā)明的操作和其它優(yōu)點(diǎn)將通過下面描述的優(yōu)選實(shí)施例變得清楚。


圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的一實(shí)施例的光盤結(jié)構(gòu)的示意平面圖。
圖2A是根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的實(shí)施例、在光盤上的坑點(diǎn)形狀的部分放大平面圖。
圖2B是沿圖2A的B-B線所取的剖面圖,顯示了坑點(diǎn)深度和光束之間的關(guān)系。
圖3是顯示根據(jù)坑點(diǎn)深度上下限的分類表。
圖4是顯示關(guān)于推挽調(diào)制比和坑點(diǎn)深度的試驗(yàn)數(shù)據(jù)的曲線圖,用于研究本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的坑點(diǎn)深度上限。
圖5顯示關(guān)于讀取能力裕度(playback ability margin)和坑點(diǎn)深度的試驗(yàn)數(shù)據(jù)的直線圖,用于研究本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的坑點(diǎn)深度上限。
圖6是列出坑點(diǎn)深度、推挽調(diào)制比和讀取能力裕度的試驗(yàn)結(jié)果的表。
圖7是顯示關(guān)于底部跳動(dòng)(bottom jitter)和散焦裕度(defocus margin)的試驗(yàn)數(shù)據(jù)的圖,用于研究本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的坑點(diǎn)深度下限。
圖8是顯示關(guān)于底部跳動(dòng)和散焦裕度的試驗(yàn)數(shù)據(jù)的曲線圖,用于研究本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的坑點(diǎn)深度下限。
圖9是根據(jù)本發(fā)明,用于解釋信息記錄裝置、信息重現(xiàn)裝置和信息記錄/重現(xiàn)裝置的結(jié)構(gòu)的框圖。
圖10是一曲線圖,顯示當(dāng)選擇錐度作為參數(shù)的時(shí)候,坑點(diǎn)深度和推挽調(diào)制比之間的關(guān)系。
圖11A顯示凹陷坑點(diǎn)的形狀。
圖11B顯示凸起坑點(diǎn)的形狀。
圖12是一曲線圖,顯示當(dāng)選擇錐度作為參數(shù)的時(shí)候,已轉(zhuǎn)換的坑點(diǎn)深度和推挽調(diào)制比之間的關(guān)系。
圖13是顯示推挽調(diào)制比和坑點(diǎn)深度的曲線圖,用于研究坑點(diǎn)深度的上限。
具體實(shí)施例方式
參考圖1-3,將描述根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)。圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的一實(shí)施例的光盤結(jié)構(gòu)的示意平面圖。圖2是顯示在光盤上的坑點(diǎn)形狀和坑點(diǎn)的橫截面。圖3是顯示根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所采用的坑點(diǎn)深度的上下限的分類的表。
首先描述本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)應(yīng)用于盤形式。當(dāng)然,該信息記錄介質(zhì)不僅限于盤形式,還可以應(yīng)用比如帶或者卡形式。
如圖1所示,光盤10在比如直徑大約為12cm的盤體上有一個(gè)記錄面,該直徑和DVD的尺寸一樣。在記錄面的周邊上,由內(nèi)圓周到外圓周,繞著中心孔11設(shè)置了導(dǎo)入?yún)^(qū)域12、數(shù)據(jù)區(qū)域13和導(dǎo)出區(qū)域14。如果是ROM類型的盤,相應(yīng)于信息的坑點(diǎn)以螺旋或同心形式繞著中心孔11預(yù)先記錄在數(shù)據(jù)區(qū)域13。在可記錄盤上,信息以螺旋或同心形式記錄。應(yīng)注意,本發(fā)明不限于具有三個(gè)分開區(qū)域的結(jié)構(gòu)。
特別的,本發(fā)明涉及坑點(diǎn)13a的深度。深度通過比較用在使用推挽或差動(dòng)推挽方法的伺服應(yīng)用的推挽信號(hào)(推挽誤差信號(hào))的水平和作為信息重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)的水平而決定??狱c(diǎn)13a的形狀如例如圖2A所示??狱c(diǎn)13a布置在數(shù)據(jù)區(qū)域13,使得相應(yīng)于每段信息的每個(gè)坑點(diǎn)13a的長(zhǎng)度和相鄰坑點(diǎn)13a之間的距離符合其記錄格式而定??狱c(diǎn)13a的剖面如圖2B所示,圖2B是圖2A沿B-B線的剖面圖。如圖示,深度d的凹陷部分設(shè)置在盤基16的介質(zhì)15的背面上(在介質(zhì)15和盤基16相接的一側(cè)上),深度d設(shè)定為用于光盤系統(tǒng)的最優(yōu)值,其中介質(zhì)15的反射率為n,波長(zhǎng)λ,光學(xué)系統(tǒng)的NA為0.75。
如圖3所示,光盤根據(jù)坑點(diǎn)的深度分為No1-No.4類,每個(gè)坑點(diǎn)深度的范圍由坑點(diǎn)深度的上限和下限所組成。最適合推挽信號(hào)水平和作為信息重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)水平的光盤是第4號(hào),其下限為λ/5.5n,上限為λ/4.7n,即坑點(diǎn)深度d限定在λ/5.5n≤d≤λ/4.7n的范圍內(nèi)。第二最適用的是第2號(hào)和第3號(hào)光盤。第2號(hào)光盤下限為λ/5.5n,上限為λ/4.5n,即坑點(diǎn)深度d限定在λ/5.5n≤d≤λ/4.5n的范圍內(nèi)。第3號(hào)光盤下限為λ/8n,上限為λ/4.7n,即落入λ/8n≤d≤λ/4.7n的范圍內(nèi)。第1號(hào)光盤具有最寬的規(guī)格,其下限為λ/8n,上限為λ/4.5n,即落入λ/8n≤d≤λ/4.5n的范圍內(nèi)。
應(yīng)注意,第1號(hào)和第3號(hào)的下限是λ/8n,對(duì)用在常規(guī)光盤中的推挽信號(hào)是最好的條件。即使這個(gè)條件用在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)中會(huì)減小RF信號(hào)水平,這種減小不會(huì)影響光盤的重現(xiàn)控制。
坑點(diǎn)深度的限定范圍的優(yōu)點(diǎn)是實(shí)現(xiàn)了高密度和高容量,特別當(dāng)用于ROM類型光盤時(shí),但是該范圍應(yīng)考慮環(huán)境和其它所有因素而確定。環(huán)境和所有其它因素包括重現(xiàn)裝置使用時(shí)的條件和能力,條件涉及到重現(xiàn)操作(比如,光學(xué)拾波器和光盤之間的傾角的誤差裕度,以及比如軌道跳動(dòng)的重現(xiàn)狀態(tài)),以及大規(guī)模生產(chǎn)其上記錄有信息的ROM類型的光盤的生產(chǎn)條件(比如,光盤厚度的變化)。
下面將基于各種試驗(yàn)數(shù)據(jù)給出如何確定坑點(diǎn)深度d的詳細(xì)描述。
1.確定坑點(diǎn)深度。
下面參考圖4-8,描述如何確定分類的第1號(hào)-第4號(hào)光盤的坑點(diǎn)深度。圖4顯示關(guān)于推挽調(diào)制比和坑點(diǎn)深度之間關(guān)系的試驗(yàn)數(shù)據(jù),用于研究在本發(fā)明信息記錄介質(zhì)上的坑點(diǎn)的深度的上限。圖5顯示關(guān)于讀取能力裕度和坑點(diǎn)深度之間關(guān)系的試驗(yàn)數(shù)據(jù),用于研究坑點(diǎn)深度上限。圖6是列出坑點(diǎn)深度、推挽調(diào)制比和讀取能力裕度的試驗(yàn)結(jié)果的表。圖7顯示底部跳動(dòng)和散焦裕度之間關(guān)系的試驗(yàn)數(shù)據(jù),用于研究在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)上的坑點(diǎn)深度的下限。圖8顯示底部跳動(dòng)和坑點(diǎn)深度之間關(guān)系的試驗(yàn)數(shù)據(jù)。圖8顯示底部跳動(dòng)和坑點(diǎn)深度之間關(guān)系的試驗(yàn)數(shù)據(jù),用于研究坑點(diǎn)深度的下限。
“推挽調(diào)制比”是指推挽信號(hào)和所有RF信號(hào)的比值,“讀取能力裕度”是指在某些條件下,在從光盤上重放所記錄的數(shù)據(jù)時(shí),直到其不能重現(xiàn)的伺服增益的裕度?!暗撞刻鴦?dòng)”是指如果更多的跳動(dòng)發(fā)生了,使其不能正確重構(gòu)信號(hào)的跳動(dòng)量?!吧⒔乖6取笔侵府?dāng)光學(xué)拾取器拾取信號(hào)時(shí),在聚焦方向上的誤差裕度。
2.關(guān)于坑點(diǎn)深度d的上限的描述。
1)依據(jù)推挽調(diào)制比的描述圖4是顯示測(cè)得的推挽信號(hào)的總幅值和所有光學(xué)探測(cè)信號(hào)的總幅值之比的曲線圖。該測(cè)量是在光盤和光學(xué)拾取器之間的對(duì)準(zhǔn)和角度沒有誤差的情況下進(jìn)行的。
縱坐標(biāo)代表推挽調(diào)制比,橫坐標(biāo)代表λ/(d×n),涉及坑點(diǎn)深度d。也就是說,給出下面的關(guān)系推挽調(diào)制比=推挽幅值P-P/軌道上總水平(On-Track SUM Level)坑點(diǎn)深度d由下面的公式確定d=λ/(N×n),因此N=λ/(d×n),其中d是坑點(diǎn)深度,λ是光波長(zhǎng),n是介質(zhì)折射率,N是系數(shù)。設(shè)定N的最優(yōu)范圍確??狱c(diǎn)深度d的最優(yōu)范圍。
符合需要的為伺服應(yīng)用產(chǎn)生誤差信號(hào)的推挽調(diào)制比大于等于0.12。這種情況下,從圖4顯見N=λ/(d×n)為大約4.2或更大,即d取值為λ/(4.2×n)或更小。從對(duì)推挽調(diào)制比的研究可以得出坑點(diǎn)深度d的上限為λ/(4.2×n)。那么,將所用的盤系統(tǒng)的實(shí)際光波長(zhǎng)λ和介質(zhì)的實(shí)際折射率n代入公式以得到實(shí)際值,比如d=60nm。
2)讀取能力試驗(yàn)的研究讀取能力試驗(yàn)用于當(dāng)在重現(xiàn)條件下有錯(cuò)誤(比如各種在光盤和光學(xué)拾取器之間的光盤誤差和相對(duì)誤差)的時(shí)候,判斷是否能夠重放。這些條件稱為擾動(dòng)條件(perturbative condition)。
在下面兩種擾動(dòng)條件下進(jìn)行試驗(yàn)擾動(dòng)條件A散焦 +/-0.2μm厚度誤差 +/-2μm徑向傾斜角 0.5度切向傾斜角 0.3度擾動(dòng)條件B散焦 +/-0.2μm厚度誤差 +/-4μm徑向傾斜角 0.44度切向傾斜角 0.2度“散焦”是指聚焦深度的誤差,“厚度誤差”是指由介質(zhì)厚度變化導(dǎo)致的誤差。而且,“徑向傾斜角”是指光盤在徑向的傾斜角度,“切向傾斜角”是指光盤在光盤上的軌道的切向的傾斜角度。
3.讀取能力試驗(yàn)條件分別在上述的擾動(dòng)條件A和擾動(dòng)條件B下進(jìn)行下面三種試驗(yàn)。
1)重復(fù)開始尋軌和停止尋軌,并確認(rèn)是否從停止到開始的切換的完成是可靠的。在這種情況下,尋軌伺服通過DPP(差動(dòng)推挽)方法執(zhí)行。
2)重復(fù)重放靜止圖像,即重復(fù)同樣的軌道,并確認(rèn)是否重復(fù)重放可靠的完成。
3)單軌反向跳動(dòng)(one track reverse jump)。即,完成從一個(gè)軌道到緊接著的前面的軌道的單軌跳動(dòng),并確認(rèn)是否跳動(dòng)可靠的完成。對(duì)跳動(dòng)操作,使用正常的急沖和制動(dòng)(kick-brake)跳動(dòng)方法。這個(gè)試驗(yàn)條件比前面的兩個(gè)讀取能力試驗(yàn)條件要嚴(yán)格。
4.讀取能力試驗(yàn)結(jié)果已確定的是,分別在上述擾動(dòng)條件下完成的這三種讀取能力試驗(yàn)顯示所有的操作成功完成。然后,為了檢查在各個(gè)擾動(dòng)條件下的裝置的重現(xiàn)操作的穩(wěn)定程度,我們減小了擾動(dòng)條件下尋軌伺服增益,以測(cè)量引起每次讀取能力試驗(yàn)失敗的增益衰減量。圖5顯示了讀取能力裕度的結(jié)果。圖5中,縱坐標(biāo)表示分貝為單位的讀取能力裕度,橫坐標(biāo)表示了涉及坑點(diǎn)深度d的λ/(d×n)。
圖6列出了關(guān)于推挽調(diào)制比的試驗(yàn)和讀取能力的試驗(yàn)的所有結(jié)果,其使用坑點(diǎn)深度d作為參數(shù)。讀取能力裕度A代表在擾動(dòng)條件A下的讀取能力試驗(yàn)結(jié)果,讀取能力裕度B代表在擾動(dòng)條件B下的讀取能力試驗(yàn)結(jié)果。推挽調(diào)制比取無量綱數(shù)字。另一方面,讀取能力裕度A和讀取能力裕度B的行表示了分貝(dB)為單位的讀取能力裕度。表列出的數(shù)字實(shí)際上是對(duì)每個(gè)坑點(diǎn)深度d進(jìn)行測(cè)量的,這些數(shù)字值用于考慮適合于坑點(diǎn)深度d上限的特定值。
這里假設(shè)前述的三種讀取能力試驗(yàn)條件分別在上述正常使用中發(fā)生的擾動(dòng)條件下進(jìn)行試驗(yàn)。如果大約3dB的增益裕度被設(shè)定為讀取能力的增益裕度以保證裝置操作的穩(wěn)定性,因?yàn)閺膱D5顯見在擾動(dòng)條件A下λ/(d×n)=4.5或更大,坑點(diǎn)深度的上限是λ/(4.5×n),另一方面,因?yàn)樵跀_動(dòng)條件B下λ/(d×n)=4.7或更大,坑點(diǎn)深度的上限是λ/(4.7×n)。
從推挽調(diào)制比的研究和讀取能力試驗(yàn)顯示坑點(diǎn)深度d的上限優(yōu)選取值由λ/(4.5×n)決定,更優(yōu)選的,由λ/(4.7×n)決定。
5.坑點(diǎn)深度下限的描述。
由對(duì)底部跳動(dòng)的研究確定坑點(diǎn)深度下限。底部跳動(dòng)是指如果更多的重放信號(hào)的基于時(shí)間的偏移,即更多跳動(dòng)發(fā)生在光盤裝置中,使得不能正確重構(gòu)信號(hào)的跳動(dòng)量。為了確定在光盤裝置的重放系統(tǒng)中的底部跳動(dòng)(即,確定坑點(diǎn)深度的下限為結(jié)果),必須考慮某些因素,比如散焦量、光盤厚度誤差、徑向傾斜、切向傾斜。其中,盡管散焦量對(duì)底部跳動(dòng)的影響最大,這些因素也并不是相互獨(dú)立的,它們對(duì)各自的裕度有影響。
圖7顯示了對(duì)底部跳動(dòng)和散焦量的測(cè)量,其中通過應(yīng)用了預(yù)定的徑向傾斜、切向傾斜、磁盤厚度誤差作為在要求的擾動(dòng)條件下的最重要因素,以察看散焦和底部跳動(dòng)之間的關(guān)系。實(shí)際測(cè)量值被繪制為在擾動(dòng)條件下的信號(hào)重構(gòu)限制的底部跳動(dòng)和散焦量之間的關(guān)系。橫軸指示散焦量,縱軸指示底部跳動(dòng)??紤]作為決定在擾動(dòng)條件下的系統(tǒng)裕度的因素的散焦量,圖7顯示在上述擾動(dòng)條件下、散焦量為+/-0.2μm時(shí)、具有6.5%或更小的底部跳動(dòng),信號(hào)能夠被重構(gòu)。
圖8顯示了跳動(dòng)量和坑點(diǎn)深度d之間的關(guān)系,作為在從原版盤制造(mastering)到模壓制作或光盤模制的光盤的制造過程中的累積的制造裕度的結(jié)果。從圖7可以看出,如果底部跳動(dòng)落入6.5%的范圍內(nèi),因?yàn)榭狱c(diǎn)深度d由d=λ/(N×n)決定,從圖8顯示由N=λ/(d×n)決定N=5.5或更小,確定下限為d=λ/(5.5×n)。注意到λ/8n或更淺的坑點(diǎn)深度對(duì)系統(tǒng)裕度是有害的,因?yàn)樗鼈儺a(chǎn)生RF信號(hào)輸出,使得不能保證系統(tǒng)裕度。
如上詳細(xì)討論,根據(jù)本發(fā)明在信息記錄介質(zhì)上的坑點(diǎn)深度d落入λ/8n≤d≤λ/4.5n的范圍內(nèi),優(yōu)選的在λ/8n≤d≤λ/4.7n的范圍內(nèi),并更優(yōu)選的λ/5.5n≤d≤λ/4.5n范圍內(nèi)。
下面描述錐型坑點(diǎn)在盤基上形成時(shí)的推挽調(diào)制比。這種情況下,每個(gè)坑點(diǎn)的形狀也可以是凹陷或者凸起的。
如圖10所示,發(fā)現(xiàn)相對(duì)于坑點(diǎn)深度[nm]的推挽調(diào)制比依賴于錐型角。換句話說,上述坑點(diǎn)深度d的范圍能夠因錐型角而變化。圖11顯示了錐型坑點(diǎn)的尺寸。圖11A代表凹陷的坑點(diǎn),其具有頂部寬度Wm和底部寬度Wi(Wm>W(wǎng)i),以及錐型角θ,其在剖面41的徑向方向和剖面42的磁盤尋軌方向上。而且,圖11B代表凸起的坑點(diǎn),其具有頂部寬度Wi和底部寬度Wm(Wm>W(wǎng)i),以及和圖11A相同的錐型角θ。
錐型的發(fā)生在實(shí)際坑點(diǎn)形成過程中是相當(dāng)普遍的,相對(duì)于坑點(diǎn)深度(nm)的推挽調(diào)制比隨著錐型角θ而變化。為減小推挽調(diào)制比對(duì)錐型角θ的依賴,本發(fā)明引入如下近似坑點(diǎn)深度的想法。
如果平均坑點(diǎn)寬度是W[nm],坑點(diǎn)的錐型角是θ(度deg.),并且坑點(diǎn)的實(shí)際深度是D[nm],坑點(diǎn)深度限定為由下面公式給出的近似深度d=W×D/(W+D/tanθ)從圖12顯然可見,這種限定大致上減小了相對(duì)于已轉(zhuǎn)換的坑點(diǎn)深度[nm]的推挽調(diào)制比對(duì)錐型角的依賴。
比較圖10和圖12可更清楚。
因而,引入上述限定的坑點(diǎn)深度d使得可以設(shè)定坑點(diǎn)深度d的最優(yōu)范圍,而不需要考慮坑點(diǎn)的錐型角。圖13是橫軸為λ/(d×n)、縱軸為推挽調(diào)制比的曲線圖。因?yàn)榭狱c(diǎn)深度d落入λ/5.5n≤d≤λ/4.5n的范圍內(nèi),從圖13顯然可見必須推挽調(diào)制比為0.13或更小。
6.信息記錄/重放裝置的實(shí)施例參考圖9,將描述本發(fā)明的信息記錄/重放裝置的實(shí)施例。應(yīng)注意本發(fā)明的信息重放裝置由信息記錄/重放裝置的重放特征構(gòu)成,本發(fā)明的信息記錄裝置由信息記錄/重放裝置的記錄特征構(gòu)成。
信息記錄/重放裝置20從具有坑點(diǎn)深度d的光盤10上重放所記錄的信息,并在深度為d的坑點(diǎn)上記錄信息。信息記錄/重放裝置20具有主軸電動(dòng)機(jī)21、光學(xué)拾取器22、滑動(dòng)件23等作為機(jī)械部分。也包括RF信號(hào)處理器24、解調(diào)器25、調(diào)制器33、激光激勵(lì)器34等作為信令系統(tǒng)。而且,其也包括誤差信號(hào)探測(cè)器26、尋軌伺服單元27、聚焦伺服單元28、滑動(dòng)件伺服單元29、主軸伺服單元30等作為伺服系統(tǒng)。另外,輸出單元31、輸入單元32、操作輸入單元36、顯示器37等也被包括作為接口系統(tǒng),設(shè)置控制單元35作為控制每個(gè)上述組件。
主軸電動(dòng)機(jī)21驅(qū)動(dòng)已載入光驅(qū)的光盤10以預(yù)定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn),即以預(yù)定的RPM,或以預(yù)定的線速度。通過如下方法控制旋轉(zhuǎn)誤差信號(hào)探測(cè)器26從基于各種同步信號(hào)的重現(xiàn)信號(hào)中探測(cè)到旋轉(zhuǎn)誤差,主軸伺服單元30基于該旋轉(zhuǎn)誤差產(chǎn)生控制信號(hào),將該控制信號(hào)輸入到主軸電動(dòng)機(jī)21中。
光學(xué)拾取器22是用于從光盤10上讀出信息或者寫入信息的裝置。光學(xué)拾取器20通??梢杂糜谧x和寫,也可以分別為讀和寫設(shè)置的單獨(dú)的光學(xué)拾取器。這里使用的激光波長(zhǎng)λ大約和藍(lán)色激光波長(zhǎng)相等,比如,NA(數(shù)值孔徑)大約為0.75。在這些條件下,大約可以在光盤10上記錄25GB的信息。
光學(xué)拾取器22將激光束聚焦在光盤10的坑點(diǎn)13b上,并探測(cè)到反射光以讀取信息,使得必須將激光束聚焦到坑點(diǎn)13b上并追蹤該軌跡,因而在聚焦和尋軌方向上控制激光束的聚焦位置。聚焦和尋軌控制通過如下方式進(jìn)行誤差信號(hào)探測(cè)器26從在光學(xué)拾取器22處重現(xiàn)的信號(hào)中探測(cè)到聚焦和尋軌誤差,聚焦伺服單元28和尋軌伺服單元27分別基于該探測(cè)到的信號(hào)產(chǎn)生控制信號(hào),并將該控制信號(hào)輸入到光學(xué)拾取器22中。
特別的,在本實(shí)施例中,誤差信號(hào)探測(cè)器26通過推挽方法或差動(dòng)推挽方法產(chǎn)生作為控制信號(hào)之一的推挽信號(hào)(即,推挽誤差信號(hào)或?qū)ぼ壵`差信號(hào)),并且尋軌伺服單元27執(zhí)行基于該推挽信號(hào)的尋軌伺服。在本實(shí)施例中,因?yàn)楣獗P10的坑點(diǎn)深度滿足上述的λ/8n≤d≤λ/4.5n的條件,能夠產(chǎn)生足夠幅值的推挽信號(hào),使得可以進(jìn)行高性能的尋軌。
尋軌控制也可以通過在磁盤徑向方向控制滑動(dòng)件23的位置來執(zhí)行?;瑒?dòng)件23是用于在光盤10的徑向方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器22的進(jìn)給機(jī)構(gòu)(feedmechanism)?;瑒?dòng)件23很快的將光學(xué)拾取器移動(dòng)到目標(biāo)位置。比如,通常使用這樣的機(jī)構(gòu)使得載入光學(xué)拾取器22的基座臺(tái)通過螺旋方式(a screw)移動(dòng)?;瑒?dòng)件23不僅通過將光學(xué)拾取器22快速移動(dòng)到目標(biāo)位置,也通過將光學(xué)拾取器22慢慢的從光盤10的內(nèi)徑送到光盤10的外徑作為重現(xiàn)過程,這兩種方式來控制光學(xué)拾取器22的位置。可以通過如下方式執(zhí)行控制誤差信號(hào)探測(cè)器26從重現(xiàn)信號(hào)中探測(cè)到累積尋軌誤差(尋軌誤差的直接當(dāng)前組件(direct current component)),滑動(dòng)件伺服單元29基于該探測(cè)誤差產(chǎn)生控制信號(hào),并將該控制信號(hào)輸入的滑動(dòng)件23中。
RF信號(hào)處理器24執(zhí)行由光學(xué)拾取器22重現(xiàn)的RF信號(hào)的整形,使得整形后的信號(hào)適于下游信號(hào)處理。特別的,在本實(shí)施例中,因?yàn)楣獗P10的坑點(diǎn)深度滿足λ/8n≤d≤λ/4.5n的條件,能夠產(chǎn)生足夠幅值的RF信號(hào)。最終允許以高的S/N(信號(hào)比噪聲)比率進(jìn)行重現(xiàn)。
解調(diào)器25對(duì)在RF信號(hào)處理器24中上游處理的信號(hào)進(jìn)行解調(diào),即,其基于已調(diào)制格式將信號(hào)返回為原始信息。解調(diào)器25也具有誤差糾正功能,使得當(dāng)從信號(hào)中解調(diào)的信息是音頻信息、圖片信息或數(shù)據(jù)信息時(shí),解調(diào)器25通過輸出單元31分別將信息輸出到揚(yáng)聲器、監(jiān)視器、或個(gè)人電腦中。
調(diào)制器33將從輸入單元32中輸入的作為記錄信號(hào)的信號(hào)轉(zhuǎn)換為預(yù)定的格式以產(chǎn)生記錄信號(hào)。調(diào)制器33也執(zhí)行用于誤差糾正的信號(hào)處理。已調(diào)制為記錄信號(hào)的信號(hào)輸入到激光激勵(lì)器34中,以調(diào)制來自光學(xué)拾取器22的激光束。然后已調(diào)制的激光束照射到光盤10上以記錄信息。
控制單元35包括CPU等??刂茊卧?5基于來自每個(gè)功能單元的信息和來自操作輸入單元36的操作指示來控制信息記錄/重現(xiàn)裝置20的全部操作,并將信息記錄/重現(xiàn)裝置20的操作狀態(tài)顯示到顯示器37上。操作輸入單元36可以設(shè)置為某種機(jī)械輸入裝置或遠(yuǎn)程控制的形式。顯示器37可以是CRT、LCD、EL顯示器等。
如上所述關(guān)于信息記錄/重現(xiàn)裝置的結(jié)構(gòu),信息重現(xiàn)裝置可以由除了輸入單元32、調(diào)制器33和激光激勵(lì)器34以外的系統(tǒng)構(gòu)成。另一方面,信息記錄裝置可以由除了RF信號(hào)處理器24、解調(diào)器25和輸出單元31以外的系統(tǒng)構(gòu)成。而且,替代控制激光強(qiáng)度以形成落入本發(fā)明限定的范圍內(nèi)的深度為d的坑點(diǎn)的方法是,作為介質(zhì)的記錄層的厚度可以和坑點(diǎn)深度d一樣大,以形成記錄層和盤片的多層結(jié)構(gòu),使得記錄層在記錄中可以被完全的吹去。
信息記錄/重現(xiàn)裝置的結(jié)構(gòu)不僅僅限于上述結(jié)構(gòu),任何其它的結(jié)構(gòu)只要能夠基于根據(jù)本發(fā)明的坑點(diǎn)深度的條件、從光盤上重現(xiàn)或在光盤上記錄信息就可以。
而且,本發(fā)明不僅限于上述實(shí)施例,不背離權(quán)利要求和說明書表達(dá)的本發(fā)明的范圍和精神的適當(dāng)?shù)淖兓托薷亩际强梢缘?。任何其它的具有這樣變化的信息記錄介質(zhì)、信息記錄裝置、信息重現(xiàn)裝置和信息記錄/重現(xiàn)裝置包括在本發(fā)明的技術(shù)特征中。
如上詳述,根據(jù)本發(fā)明,可以產(chǎn)生適用于使用NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光盤裝置的具有足夠幅值的RF信號(hào)和推挽信號(hào),因而實(shí)現(xiàn)具有高記錄密度和高記錄容量的信息記錄介質(zhì)。本發(fā)明也實(shí)現(xiàn)了信息重現(xiàn)裝置、信息記錄裝置和信息記錄/重現(xiàn)裝置,其適用于從這樣的信息記錄介質(zhì)上讀取信號(hào)或重現(xiàn)信息。
權(quán)利要求
1.一種信息記錄介質(zhì),其被通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光束所照射,以從作為坑點(diǎn)的記錄部分重現(xiàn)信息或在該記錄部分上記錄信息,其特征在于,如果光束的光波長(zhǎng)為λ,所述記錄部分的折射率是n,所述坑點(diǎn)的深度是d,坑點(diǎn)深度d落入下限為λ/8n、上限為λ/4.5n的范圍內(nèi),即為λ/8n≤d≤λ/4.5n。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的信息記錄介質(zhì),其中所述坑點(diǎn)深度d的下限設(shè)置為d=λ/5.5n。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的信息記錄介質(zhì),其中所述坑點(diǎn)深度d的上限設(shè)置為d=λ/4.7n。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任何一個(gè)的信息記錄介質(zhì),其中所述坑點(diǎn)的平均深度W[nm],坑點(diǎn)的錐型角是θ[deg.],坑點(diǎn)的實(shí)際深度是D[nm],坑點(diǎn)深度d的近似深度由如下公式確定d=W×D/(W+D/tanθ)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的信息記錄介質(zhì),即被通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光束所照射,以從作為坑點(diǎn)的記錄部分重現(xiàn)信息或在該記錄部分上記錄信息的信息記錄介質(zhì),其中推挽調(diào)制比是0.13或更多。
6.一種用于將記錄在根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任何一個(gè)的信息記錄介質(zhì)上的信息重現(xiàn)的信息重現(xiàn)裝置,其中包括一重現(xiàn)光學(xué)裝置,其通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)使用重現(xiàn)光束照射該記錄部分,并接收基于該光束的來自記錄部分的光;一重現(xiàn)控制裝置,其用于控制該重現(xiàn)光學(xué)裝置的重現(xiàn)操作;一信號(hào)解調(diào)裝置,其用于解調(diào)由該重現(xiàn)光學(xué)裝置產(chǎn)生的光接收信號(hào)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的信息重現(xiàn)裝置,其中該重現(xiàn)控制裝置還包括尋軌伺服裝置,其用于基于由該重現(xiàn)光學(xué)裝置產(chǎn)生的光接收信號(hào)執(zhí)行尋軌伺服。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的信息重現(xiàn)裝置,其中該尋軌伺服裝置通過推挽方式或者差動(dòng)推挽方式來執(zhí)行尋軌伺服。
9.一種用于在根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任何一個(gè)的信息記錄介質(zhì)上記錄信息的信息記錄裝置,其特征在于該信息記錄裝置包括一記錄光學(xué)裝置,其通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)使用記錄光束照射該記錄部分;一信號(hào)調(diào)制裝置,其用于將代表所記錄的信息的信息信號(hào)轉(zhuǎn)換為記錄信號(hào);一記錄控制裝置,其用于將由信號(hào)調(diào)制裝置轉(zhuǎn)換的記錄信號(hào)輸入到該記錄光學(xué)裝置中,以控制記錄操作。
10.一種用于在根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任何一個(gè)的信息記錄介質(zhì)上記錄信息、或從其上重現(xiàn)信息的信息記錄/重現(xiàn)裝置,其特征在于該信息記錄/重現(xiàn)裝置包括一記錄/重現(xiàn)光學(xué)裝置,其在重現(xiàn)中通過NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)使用重現(xiàn)光束照射該記錄部分,并接收基于該光束的來自記錄部分的光以產(chǎn)生光接收信號(hào),并且在記錄中使用記錄光束照射記錄部分;一重現(xiàn)控制裝置,其用于控制該記錄/重現(xiàn)光學(xué)裝置的重現(xiàn)操作;一信號(hào)解調(diào)裝置,其用于解調(diào)由該記錄/重現(xiàn)光學(xué)裝置產(chǎn)生的光接收信號(hào);一信號(hào)調(diào)制裝置,其用于將代表所記錄的信息的信息信號(hào)轉(zhuǎn)換為記錄信號(hào);一記錄控制裝置,其用于將由信號(hào)調(diào)制裝置轉(zhuǎn)換的記錄信號(hào)輸入到該記錄/重現(xiàn)光學(xué)裝置中,以控制記錄操作。
全文摘要
一種信息記錄介質(zhì),例如光盤,由其,使用NA大于等于0.75的光學(xué)系統(tǒng)的光盤裝置產(chǎn)生足夠大的RF信號(hào)和推挽信號(hào),以獲得高記錄密度和大記錄容量??紤]推挽伺服的情況下的推挽信號(hào)水平和作為信息重現(xiàn)信號(hào)的RF信號(hào)水平,來確定介質(zhì)(15)的坑點(diǎn)(13a)的深度,使得該深度最適合于介質(zhì)(15)的折射率為n、光波長(zhǎng)為λ、光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為0.75的盤系統(tǒng)。對(duì)于該推挽信號(hào)水平和RF信號(hào)水平最優(yōu)選的深度d在λ/5.5n≤d≤λ/4.7n的范圍內(nèi)。該深度d的第二優(yōu)選范圍是λ/5.5n≤d≤λ/4.5n。最寬松的限制為λ/8n≤d≤λ/4.5n。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1647166SQ0380822
公開日2005年7月27日 申請(qǐng)日期2003年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月17日
發(fā)明者荒木良嗣, 佐藤充 申請(qǐng)人:日本先鋒公司
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