專利名稱：在光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤上保存附加數(shù)據(jù)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤讀取設(shè)備、一種用于制作光盤壓模的方法、一種光盤、一種控制設(shè)備、一種計(jì)算機(jī)程序以及一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備。
背景技術(shù)：
通常，光盤讀取設(shè)備從類似致密盤(CD)或數(shù)字通用盤(DVD)的光盤上讀取數(shù)據(jù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是在光學(xué)數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)載體盤上存儲(chǔ)更多數(shù)據(jù)并且能夠從這種盤上讀取更多數(shù)據(jù)。
為了存儲(chǔ)更多數(shù)據(jù)，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤。為了對(duì)這種盤進(jìn)行讀取，提供了一種根據(jù)權(quán)利要求5所述的光盤讀取器、一種根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法和一種根據(jù)權(quán)利要求11所述的計(jì)算機(jī)程序。為了制造能夠制造這種盤的壓模，本發(fā)明提供了一種根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法。
本發(fā)明的特定實(shí)施例在從屬權(quán)利要求中進(jìn)行了說明。
下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)、方面和實(shí)施例進(jìn)行說明。


圖1概略地示出沿根據(jù)本發(fā)明的光盤的一個(gè)例子的數(shù)據(jù)軌道的剖面圖；圖2概略地示出根據(jù)本發(fā)明的光盤讀取器裝置的例子；圖3概略地示出圖2的光盤讀取器中使用的讀取設(shè)備；圖4示出在根據(jù)本發(fā)明的光盤上的激光輻射的模擬反射的、作為時(shí)間的函數(shù)的曲線圖；圖5示出作為從圖4的反射獲得的函數(shù)的、在根據(jù)本發(fā)明的光盤上的切向推挽信號(hào)的曲線圖；圖6-10示出用于制造根據(jù)本發(fā)明的光盤壓模的方法的例子的幾個(gè)階段的分解、透視圖。
圖1示出的根據(jù)本發(fā)明的光盤7的一個(gè)例子包括一基層71、一帶有反射界面68的反射層72和一保護(hù)層73。從所述盤的讀取側(cè)觀看，反射層72具有凸起75。當(dāng)然，從另一側(cè)現(xiàn)看，所述凸起為凹坑。所述凸起從一基準(zhǔn)面77突出到一突出面69。在該平面上的反射層區(qū)域?yàn)椤鞍伎印?8。凸起75代表寫入到光盤上的數(shù)據(jù)并且構(gòu)成一螺旋數(shù)據(jù)軌道，該軌道在圖2中用79表示。
在使用中，從讀取側(cè)76通過將激光輻射束投射到盤上并在一檢測(cè)器處檢測(cè)反射的輻射量來讀取光盤7。在所示的例子中，凸起75從平臺(tái)78突出的高度h大約為投射的輻射的波長(zhǎng)的四分之一左右。當(dāng)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，從平臺(tái)上反射到檢測(cè)器上的輻射比從凸起75反射的輻射多行進(jìn)了1/4+1/4＝1/2波長(zhǎng)。因此從平臺(tái)上反射的輻射相對(duì)于從凸起反射的光(可見的或不可見的)偏移1/2波長(zhǎng)，并且因此與從凸起反射的輻射異相。因此，如果凸起75被光束照射，則從凸起反射的光與從平臺(tái)上反射的光相抵消，從而沒有或基本上只有很少的輻射反射到檢測(cè)器上。如果輻射束只到達(dá)平臺(tái)上，則沒有干涉發(fā)生。
在本文中，基準(zhǔn)面77和凸起面的平面表示為水平面，而與其垂直的面表示為垂面。
凸起75具有以不同斜度(在本文中，垂直壁也被看作具有一個(gè)斜度)的壁74、74’。例如，一些壁74是基本垂直的，而其它的一些壁74’不是垂直的。因此，在所述盤上存在有若干類型的壁，可通過壁的陡度來彼此區(qū)分這些壁。該區(qū)別可用于在盤上存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。從而提供了額外的數(shù)據(jù)通道。該數(shù)據(jù)通道例如可用于增加盤的數(shù)據(jù)密度或用于版權(quán)保護(hù)。該額外數(shù)據(jù)通道不受由所述凸起表示的信息的限制，并且不會(huì)影響傳統(tǒng)的光盤讀取器中的盤的性能，傳統(tǒng)的光盤讀取器不能彼此區(qū)分不同陡度的壁。因此，額外數(shù)據(jù)通道是完全后向兼容的。
此外，由于兩個(gè)原因，存儲(chǔ)在壁的斜度或陡度中的額外信息不能容易地從所述光盤拷貝到其它的光盤上，所述壁在數(shù)據(jù)軌道的方向上傾斜。首先，已知的光學(xué)數(shù)據(jù)讀取器不會(huì)輸出額外的通道上的信息，所以要在額外數(shù)據(jù)通道上獲得數(shù)據(jù)將需要對(duì)光盤讀取器的硬件進(jìn)行修改。其次，可寫光盤，例如可重寫CD不具有凸起結(jié)構(gòu)，所以不可能在這種類型的盤的凸起的壁上存儲(chǔ)信息。
圖2概略地示出根據(jù)本發(fā)明的光盤讀取器1的例子。所示出的讀取器1例如可以是致密盤(CD)讀取器或數(shù)字通用盤(DVD)讀取器。讀取器1包括一讀取器單元2，用于將光束2’引到光盤7上和用于檢測(cè)從盤7反射的光，以及一數(shù)據(jù)載體支架3。所述讀取器單元2和數(shù)據(jù)載體支架3可以相對(duì)彼此以傳統(tǒng)的方式發(fā)生移動(dòng)，如由箭頭A’、A”、A所示。數(shù)據(jù)載體支架3將光盤7保持在與讀取器單元2相對(duì)的位置上。
數(shù)據(jù)載體支架3和由此支撐的盤7可通過一馬達(dá)32繞假想軸31旋轉(zhuǎn)，如圖2的箭頭A所示。讀取器單元2安裝在滑板4上并且可相對(duì)于它在由箭頭A”表示的方向上移動(dòng)。通過在滑軌5上滑動(dòng)滑板4，滑板4可在由箭頭A’表示的方向(垂直于由箭頭A”和A表示的方向)上移動(dòng)。讀取器2和滑板4的移動(dòng)是通過一個(gè)或多個(gè)合適的致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)的，例如電動(dòng)馬達(dá)，其在附圖中未示出并且其在現(xiàn)有技術(shù)中是公知的。讀取器2和光盤7之間的距離也是可調(diào)節(jié)的，因?yàn)樽x取器單元2也可相對(duì)于光盤7在由箭頭A表示的方向上移動(dòng)。
讀取器單元2、滑板4、馬達(dá)32和致動(dòng)器都被連接到一控制電路6，該控制電路可通過一控制端子63連接到數(shù)據(jù)讀取設(shè)備的內(nèi)部或外部的其它設(shè)備?？刂齐娐?可執(zhí)行各種功能。這些功能之一是處理來自或到達(dá)讀取器2的信號(hào)。其他功能可以是控制馬達(dá)32和光盤7的旋轉(zhuǎn)速度、控制移動(dòng)滑板或讀取器單元2的致動(dòng)器。在圖2中，控制電路是以單一單元進(jìn)行說明的，然而，該裝置在物理上可分成分離的單元。
使用讀取器單元2可從數(shù)據(jù)軌道79上的比特位置讀取數(shù)據(jù)。通過旋轉(zhuǎn)支架3，光盤7可相對(duì)于讀取器單元2旋轉(zhuǎn)。通過相對(duì)于滑板4移動(dòng)讀取器單元2和/或沿滑軌5移動(dòng)滑板4，讀取器裝置2可關(guān)于假想軸31在徑向上移動(dòng)。因此，讀取器單元2可從光盤7的軌道79讀取數(shù)據(jù)。
在所示出的例子中，讀取器單元2將在圖2中由虛線2’表示的激光束引到盤7上。激光束2’通過一激光源產(chǎn)生并通過一物鏡聚焦到光盤7上。所述激光源和透鏡是讀取器單元2的一部分并且在圖2中未示出。激光束2’由光盤7反射并由讀取器單元2檢測(cè)。
讀取器單元2提供有用于檢測(cè)光盤7上的壁的斜度的裝置。然后該確定的斜度可轉(zhuǎn)換成一數(shù)據(jù)信號(hào)。例如，如果確定斜度低于某一確定閾值，則所述斜度可看作二進(jìn)制零，和如果所述壁的斜度在所述閾值之上，則所述斜度可看作為二進(jìn)制一。
讀取器裝置2被如圖3所示的實(shí)現(xiàn)。在圖3中，一激光源29，例如一激光二極管，與光學(xué)系統(tǒng)28同軸定位，該光學(xué)系統(tǒng)在使用中將來自激光源的激光輻射投射到光盤7上并將反射的輻射引導(dǎo)到一組檢測(cè)器21-24上。
檢測(cè)器21-24輸出該讀取的數(shù)據(jù)以及一個(gè)或多個(gè)表示讀取器單元2關(guān)于光盤7的數(shù)據(jù)軌道79的位置的信號(hào)。該信號(hào)還可響應(yīng)由讀取器單元2發(fā)送給數(shù)據(jù)載體裝置3的信號(hào)形成一反饋信號(hào)。
所述光學(xué)系統(tǒng)28包括一衍射光柵281，其將輻射通過一分束器282和一準(zhǔn)直透鏡283投射到四分之一波長(zhǎng)板284上。板284將輻射傳送到物鏡285上，物鏡285將輻射聚焦到光盤7上。
在使用中，光柵281將輻射變換成中心峰加側(cè)峰。這三束光束通過偏振分束器282。所述分束器平行于附圖的平面?zhèn)魉推窆狻Ｈ缓?，平行于附圖平面的偏振的新形成的輻射通過準(zhǔn)直透鏡283校直。
準(zhǔn)直輻射通過1/4波板284。板284將準(zhǔn)直輻射轉(zhuǎn)換成圓偏振輻射。然后圓偏振輻射進(jìn)一步通過物鏡285聚焦到盤7上。如果輻射到達(dá)“平臺(tái)”，則它返回到物鏡中。如果輻射的一部分到達(dá)凸起，則由于干涉，該部分將抵消來自于“平臺(tái)”的反射，如上面參照?qǐng)D1所述的。
反射之后，輻射再次通過1/4波板284。由于它是以相反方向通過的，所以它垂直于原始輻射束(也就是，垂直于附圖平面)被偏振。當(dāng)偏振的返回輻射到達(dá)偏振分束器282時(shí)，它被反射到透鏡系統(tǒng)27并且不會(huì)通過分束器282傳送，然后輻射通過透鏡系統(tǒng)27的一聚焦透鏡271和一圓柱透鏡272反射并且在檢測(cè)器裝置21-24上成像。
簡(jiǎn)單地通過反射輻射在任何檢測(cè)器上出現(xiàn)與否由檢測(cè)器陣列中的檢測(cè)器來檢測(cè)光盤7上凸起的存在?？墒褂酶鳈z測(cè)器之間的差來檢測(cè)壁的斜度。例如，壁的傾斜對(duì)切向推挽(TPP)信號(hào)產(chǎn)生影響，該切向推挽信號(hào)為表示入射到檢測(cè)器21-24上的反射光的前半部和后半部(前和后是在盤關(guān)于輻射束的入射點(diǎn)前進(jìn)的方向上定義的)之間的輻射量之差的信號(hào)。因此，TPP信號(hào)是對(duì)光盤有影響的切向速度，也就是數(shù)據(jù)軌道79的速度的量度。
當(dāng)輻射束通過凸起75時(shí)，最初只有光束的前半部定位在所述凸起75上，并且最后只有所述光束的后面部分入射到凸起75上。因此，反射的輻射的強(qiáng)度分布隨著光束跨越凸起的進(jìn)程變化。因此，獲得了用于形成切向推挽信號(hào)的脈沖型信號(hào)，該信號(hào)表示輻射束到達(dá)凸起或離開凸起的時(shí)刻的所述差，也就是如果所述壁是垂直的，則所述信號(hào)表示在凸起的邊緣處的所述差。如果所述壁的斜度不是垂直的，則TPP信號(hào)的形狀將不同。所述差如圖5所示。
因此，TPP為光盤上的凸起的壁的斜度的量度。在圖3中，檢測(cè)器21-24連接到第一和第二運(yùn)算放大器61、62。所述各檢測(cè)器彼此成對(duì)連接，所述檢測(cè)器例如可以是光電二極管。由所述各檢測(cè)器形成各對(duì)21，23；22，24，所述各檢測(cè)器相對(duì)于箭頭B并排布置，其中箭頭B對(duì)應(yīng)于凸起相對(duì)于讀取器單元2移動(dòng)的方向。第一運(yùn)算放大器61輸出TPP信號(hào)，而第二運(yùn)算放大器62輸出如所指的涉及凸起的存在情況的數(shù)據(jù)信號(hào)。第一運(yùn)算放大器61將在+輸入端處的信號(hào)和-輸入端處的信號(hào)進(jìn)行比較并且輸出涉及該二信號(hào)之間的差的信號(hào)，因此確定入射到各檢測(cè)器對(duì)上的激光輻射的強(qiáng)度差。
通過檢查TPP信號(hào)在普通HF信號(hào)(也就是反射的激光輻射)的零交叉處的高頻含量可進(jìn)行信息的檢測(cè)。由于TPP信號(hào)實(shí)際上在所有光盤讀取器中已經(jīng)是可用的，所以現(xiàn)存的光盤讀取器的電子設(shè)計(jì)需要很少的修改就能讀出包含在所述凸起的壁的陡度差中的額外信息。
在圖4-5的曲線圖中，描述了一模擬結(jié)果，該模擬結(jié)果示出了所述和信號(hào)和TPP信號(hào)。在該模擬中，產(chǎn)生了兩種操作，一種情況是所有壁都具有相同的斜度，而另一種情況是產(chǎn)生信號(hào)部分47和49的凸起被模擬具有50度角，而所有其它凸起仍然具有55度斜度的壁。
在圖4的曲線圖中，從兩種操作產(chǎn)生的兩個(gè)全反射輻射信號(hào)都被劃分成小塊。如所看到的，在兩種操作之間實(shí)際上對(duì)所述信號(hào)沒有影響。
在圖5中，示出了相應(yīng)的TPP信號(hào)。實(shí)線表示所有凸起的壁都具有55度角的情況，虛線為這樣一種情況產(chǎn)生由47和49表示的脈沖的凸起的壁的斜度從55度變?yōu)?0度。在信號(hào)的零交叉處，也就是反射信號(hào)與線Z交叉的時(shí)刻，兩種情況的TPP信號(hào)之間的差是最明顯的。該模擬示出了凹坑的斜度角度的變化不會(huì)改變反射的輻射信號(hào)的質(zhì)量并且對(duì)抖動(dòng)只產(chǎn)生了輕微的增加。
在圖6-8中，以用于制造壓膜的方法的連續(xù)階段示出了用于制造根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤的壓模8。圖6示出帶有感光層81的玻璃板80，所述感光層對(duì)激光輻射曝光。在必須產(chǎn)生凹坑(用于在盤上形成凸起)的位置，投射激光輻射。在必須形成平臺(tái)的地方，不將激光輻射投射到感光層上。通過改變所述輻射的焦點(diǎn)，所述激光輻射的深度輪廓被調(diào)節(jié)。隨著激光沿所述表面在由箭頭C表示的方向上移動(dòng)，焦點(diǎn)發(fā)生變化。焦點(diǎn)在感光層中的深度確定了形成的凹坑壁的傾斜度，如圖6中在點(diǎn)N和O所示的。
如圖7所示，在曝光之后，所述感光層具有曝光部分811、812，該二部分具有不同斜度的前界面和后界面。曝光之后，對(duì)所述感光層81進(jìn)行顯影。從而，除去在曝光部分的感光層，由此在層81中產(chǎn)生缺口，如圖8所示。下面，所述顯影層被覆蓋一壓膜層82。在多數(shù)壓模制造處理中，壓模層82為金屬層。接著，將玻璃板80和層81從壓模層82分離并且使用壓模層82就獲得了所述壓模。如圖10所示，壓模82具有凸起811、812，其具有斜度不同的壁。
本發(fā)明不局限于實(shí)現(xiàn)所公開的設(shè)備的例子，而是本發(fā)明可以應(yīng)用于其它設(shè)備。尤其是，本發(fā)明并不局限于物理設(shè)備，而是還可以應(yīng)用于更加抽象的邏輯設(shè)備或者是應(yīng)用于一計(jì)算機(jī)程序中，其中當(dāng)在計(jì)算機(jī)上運(yùn)行該程序時(shí)，其能夠使計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的光盤讀取器或根據(jù)本發(fā)明的方法的功能。此外，前壁和后壁從所述基準(zhǔn)面到所述凸起或凹坑面不需要是直的，而例如可以是階梯狀的、凹入的或凸起的。通過區(qū)分不同形狀的壁而不是壁的陡度可在不同形狀的壁之間進(jìn)行識(shí)別。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤(7)，具有用于確定基準(zhǔn)面(77)的光反射界面(68)并且包括可通過光盤讀取器進(jìn)行讀取的數(shù)據(jù)軌道(79)，所述數(shù)據(jù)軌道(79)至少包括位于所述界面(68)中的連續(xù)的凹坑或凸起(75)，所述凹坑或凸起中的每一個(gè)分別具有位于凹坑上的界面部分或者位于不同于所述基準(zhǔn)面的凸起面(69)上的界面部分以及用于形成前壁和后壁(74、74′)以及形成各個(gè)凹坑或凸起(75)的各個(gè)前端或后端的界面部分，所述前壁和后壁用于連接所述凹坑或各個(gè)凸起面的界面部分與所述基準(zhǔn)面(77)上的界面部分，所述壁中的每個(gè)都具有一個(gè)陡度并且每個(gè)都屬于至少兩種壁類型中的一種，所述壁類型中的第一種類型的壁(74)具有第一斜度，而所述壁類型中的第二種類型的壁(74′)具有不同于所述第一斜度的第二斜度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤(7)，其中在從基準(zhǔn)面(77)到凹坑面或凸起面(69)的平均陡度方面所述第一斜度與所述第二斜度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光盤(7)，其中所述第一斜度和所述第二斜度具有基本相同的形狀。
4.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求所述的光盤(7)，其中所述第一和第二類型的所述壁(74、74′)每個(gè)都具有基本上恒定的、從基準(zhǔn)面(77)到凹坑面或凸起面(69)的陡度。
5.一種用于從光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤(7)讀取數(shù)據(jù)的光盤讀取器(1)，所述光盤讀取器具有盤支架(3)和讀取組件(2)，所述讀取組件包括用于將光束引導(dǎo)到位于所述讀取組件(2)所經(jīng)過的所述盤(7)的反射界面(68)上的數(shù)據(jù)軌道(79)的連續(xù)部分上的裝置；用于檢測(cè)從所述界面(68)反射的光的變化的檢測(cè)器，所述反射光的變化至少是由所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的連續(xù)的凹坑或凸起(75)引起的；并且包括用于根據(jù)所述光變化產(chǎn)生一信號(hào)并輸出所述信號(hào)的裝置，所述信號(hào)至少對(duì)應(yīng)于所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述連續(xù)的凹坑或凸起；還包括用于檢測(cè)和區(qū)別由具有第一斜度的第一壁類型的所述凹坑或凸起的前壁和后壁(74、74′)引起的反射光的變化和由具有第二斜度的第二壁類型的所述凹坑或凸起的前壁和后壁(74′)引起的所述反射光的變化的裝置，所述第二斜度不同于所述第一斜度，用于根據(jù)所述光變化產(chǎn)生一信號(hào)的所述裝置適于根據(jù)所檢測(cè)和區(qū)別的所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述第一和第二壁類型的壁(74、74′)來產(chǎn)生和輸出所述信號(hào)或另一信號(hào)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光盤讀取器(1)，其中所述讀取組件(2)包括至少兩個(gè)光電檢測(cè)器(21，23和22，24)，每個(gè)所述光電檢測(cè)器用于響應(yīng)入射到其上的電磁輻射產(chǎn)生一信號(hào)；所述光電檢測(cè)器中的第一個(gè)被定位以接收所述光束在沿所述數(shù)據(jù)軌道(79)前進(jìn)的方向上的前面部分的反射光，而所述光電檢測(cè)器中的第二個(gè)被定位以接收所述光束在沿所述數(shù)據(jù)軌道(79)前進(jìn)的方向上的后面部分的反射光，和連接到第一和第二光電檢測(cè)器(21，23和22，24)的減法裝置(61)，用于產(chǎn)生表示在由所述第一光電檢測(cè)器(21，23或22，24)檢測(cè)到的光和由所述第二光電檢測(cè)器(22，24或21，23)檢測(cè)到的光之間的強(qiáng)度差的信號(hào)。
7.一種用于從光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤(7)讀取數(shù)據(jù)的方法，包括使光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤(7)的光反射界面(68)的數(shù)據(jù)軌道(79)的連續(xù)部分通過一光束(2’)，所述數(shù)據(jù)軌道(79)至少包括連續(xù)的凹坑或凸起(75)；檢測(cè)從所述數(shù)據(jù)軌道(79)的所述界面(68)反射的光的強(qiáng)度，所述界面(68)至少包括所述連續(xù)的凹坑或凸起(75)；和根據(jù)所述光的變化產(chǎn)生一信號(hào)并輸出所述信號(hào)，所述信號(hào)至少對(duì)應(yīng)于所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述連續(xù)的凹坑或凸起(75)，其中由所述凹坑或凸起的前壁和后壁(74、74′)引起的反射光的強(qiáng)度被檢測(cè)；和其中通過具有第一斜度的第一壁類型的前壁和后壁(74、74′)所引起的所述強(qiáng)度的一部分與通過具有不同于所述第一斜度的第二斜度的第二壁類型的前壁和后壁(74′)所引起的所述強(qiáng)度的另一部分區(qū)別開；和根據(jù)所檢測(cè)和區(qū)別的所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述第一和第二壁類型的壁(74、74′)，產(chǎn)生并輸出所述信號(hào)或另一信號(hào)。
8.一種用于制造壓膜的方法，所述壓膜用于制造光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤，所述方法包括使用電磁輻射束和粒子束之一對(duì)感光層(81)中的數(shù)據(jù)軌道的連續(xù)部分(811，812)進(jìn)行曝光，所述束的焦點(diǎn)(N，O)位于所述感光層(81)中；隨著所述數(shù)據(jù)軌道的前進(jìn)改變所述焦點(diǎn)(N，O)的深度；對(duì)所述感光層(81)進(jìn)行顯影；用壓膜層(82)覆蓋所述顯影的感光層(81)；將所述顯影的感光層(81)從所述壓模層(82)分離。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述束有選擇地進(jìn)行開關(guān)，同時(shí)隨著所述數(shù)據(jù)軌道的前進(jìn)改變和不改變所述焦點(diǎn)(N，O)的深度，從而使所述感光層(81)的曝光部分(811；812)的壁具有不同的斜度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其中，隨著所述數(shù)據(jù)軌道的前進(jìn)有選擇地改變每個(gè)單元的焦點(diǎn)深度，從而使獲得的所述感光層(81)的曝光部分(811；812)的壁具有不同的斜度。
11.一種用于控制數(shù)據(jù)處理器的計(jì)算機(jī)程序，所述數(shù)據(jù)處理器用于解釋來自讀取組件的、與從光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤反射的光的光強(qiáng)度變化相對(duì)應(yīng)的信號(hào)，所述程序包括用于讀取表示從所述界面(68)反射的光的強(qiáng)度的信號(hào)的指令，所述界面(68)至少包括位于所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的連續(xù)的凹坑或凸起(75)；用于根據(jù)所述光強(qiáng)度產(chǎn)生信號(hào)并輸出所述信號(hào)的指令，所述信號(hào)至少對(duì)應(yīng)于所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述連續(xù)的凹坑或凸起；用于讀取所檢測(cè)的反射光的強(qiáng)度的指令，所述反射光是由所述凹坑或凸起的前壁和后壁(74、74′)引起的；用于將由具有第一斜度的第一壁類型的前壁和后壁(74、74′)引起的檢測(cè)強(qiáng)度與由具有不同于所述第一斜度的第二斜度的第二壁類型的前壁和后壁(74′)引起的檢測(cè)強(qiáng)度區(qū)別開來的指令；和用于根據(jù)所檢測(cè)和區(qū)分的所述數(shù)據(jù)軌道(79)中的所述第一和第二壁類型的壁(74、74′)來產(chǎn)生并輸出信號(hào)或另一信號(hào)的指令。
12.一種數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)載體，包括表示如權(quán)利要求11所述的計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)。
全文摘要
一種光學(xué)數(shù)據(jù)載體盤讀取器，其適用于檢測(cè)一光盤的數(shù)據(jù)軌道中的壁的斜度。一種光盤，在其數(shù)據(jù)軌道中具有凹坑(811，812)，所述凹坑具有至少兩種不同陡度的壁。該陡度表示寫入到所述光盤上的信息。還描述了一種用于制造光盤壓模(8)的方法，所述方法包括用電磁輻射對(duì)一部分感光層進(jìn)行曝光的步驟。通過控制在曝光過程中的焦點(diǎn)變化，則可控制在所述凸起(811，812)或凹坑形成部分與光盤壓模(8)的表面的“平臺(tái)”形成部分之間的壁的斜度。
文檔編號(hào)G11B7/24085GK1608287SQ02824741
公開日2005年4月20日 申請(qǐng)日期2002年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月12日
發(fā)明者B·范索梅倫, W·R·科佩斯 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司