專利名稱：在信息層中包括菁染料作為吸光性化合物的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在信息層中包括菁染料(cyaninfarbstoff)作為吸光性化合物的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體，涉及它的生產(chǎn)方法和涉及由旋涂或汽相沉積將上述染料施涂于聚合物基材(尤其聚碳酸酯)上的方法。
采用特定的吸光物質(zhì)或其混合物的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體特別適合用于以藍(lán)色激光二極管、尤其GaN或SHG激光二極管(360-460nm)操作的高密度可寫光學(xué)數(shù)據(jù)儲存介質(zhì)(Datenspeicher)和/或用于以紅色(635-660nm)或紅外(780-830nm)激光二極管操作的DVD-R或CD-R盤片。
一次寫入型光盤(CD-R，780nm)最近實(shí)現(xiàn)了巨大容量的生長并代表了技術(shù)上成熟的系統(tǒng)。
下一代的光學(xué)數(shù)據(jù)儲存介質(zhì)-DVD系列-目前已經(jīng)引入到市場。由于短波激光照射(635-660nm)和較高的數(shù)值孔徑NA的使用，該存儲密度能夠提高。在這種情況下可寫格式是DVD-R。
今天，已經(jīng)開發(fā)出了使用高激光功率的藍(lán)色激光二極管(基于GaN，JP08 191171或二次諧波發(fā)生SHG，JP09 050 629)(360nm-460nm)的光數(shù)據(jù)存儲格式?？蓪懝鈱W(xué)數(shù)據(jù)儲存介質(zhì)因此也用于這一代。能實(shí)現(xiàn)的存儲密度取決于激光焦點(diǎn)在該信息面上的聚焦。焦點(diǎn)尺寸用激光波長λ/NA定標(biāo)。NA所使用的物鏡的數(shù)值孔徑。為了獲得最高可能的存儲密度，最小可能的波長λ的使用是目標(biāo)。目前，基于半導(dǎo)體激光二極管，390nm是可能的。
該專利文獻(xiàn)描述了染料型可寫光學(xué)數(shù)據(jù)儲存介質(zhì)，它們同樣地適合于CD-R和DVD-R系統(tǒng)(JP-A 11 043 481和JP-A 10 181 206)。為了實(shí)現(xiàn)高反射率和讀出信號的高調(diào)制高度和實(shí)現(xiàn)足夠的寫入敏感性，可利用以下事實(shí)CD-R的780nm的IR波長位于染料的吸收峰的長波長側(cè)翼(Flanke)的根部和DVD-R的635nm或650nm的紅色波長位于染料的吸收峰的短波長側(cè)翼的根部。在JP-A 02 557 335，JP-A 10058 828，JP-A 06336086，丁P-A 02 865 955，WO-A 09 917284和US-A 5 266699中，這一概念延伸到在吸收峰的短波長側(cè)翼上的450nm工作波長區(qū)域和在長波長側(cè)翼上的紅色和IR區(qū)域。
除該上述的光學(xué)性質(zhì)外，得自吸光性有機(jī)物質(zhì)的可寫信息層需要具有盡可能無定形的形態(tài)，以便在寫或讀過程中保持盡可能小的噪音信號。因此之故，特別優(yōu)選的是，在隨后的減壓下的金屬或電介質(zhì)層覆蓋中，在通過從溶液旋涂、通過汽相淀積(Aufdampfen)和/或升華來施涂吸光物質(zhì)的操作防止該吸光物質(zhì)的結(jié)晶。
得自吸光物質(zhì)的無定形層優(yōu)選具有高度耐熱變形性，因?yàn)橥ㄟ^噴濺或汽相淀積被施涂于吸光性信息層中的有機(jī)或無機(jī)材料的其它附加層將由于散射而形成變模糊的邊界，因此不利地影響反射率。此外，具有不夠的耐熱變形性的吸光物質(zhì)能夠在聚合物載體的界面，擴(kuò)散到該載體中，和再次不利地影響該反射率。
蒸汽壓力太高的吸光性物質(zhì)能夠在利用高真空下的上述噴濺或汽相淀積附加層的過程中發(fā)生升華和因此將層厚度降低到低于所需要的值。這進(jìn)而不利地影響該反射率。
因此本發(fā)明的目的是提供滿足可用于在一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體中的信息層中，尤其用于在340-830nm的激光波長范圍內(nèi)的高密度可寫光學(xué)數(shù)據(jù)存儲格式的高要求(例如光穩(wěn)定性，有益的信號/噪聲比，對基材的無損害式施涂，等)的合適的化合物。
令人吃驚地已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，選自菁染料類的吸光性化合物能夠特別充分地滿足上述要求范圍(profil)。
因此本發(fā)明涉及包括優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，任選地該基材已涂敷了一個(gè)或多個(gè)反射涂層和在該基材的表面上已經(jīng)涂敷了光可寫型信息層、任選的一個(gè)或多個(gè)反射涂層和任選的保護(hù)層或附加基材或覆蓋層，其能夠利用藍(lán)色、紅色或紅外光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫和讀，其中信息層包括吸光性化合物和任選的粘結(jié)劑，特征在于至少一種菁染料用作吸光性化合物。
吸光性化合物應(yīng)該優(yōu)選能夠以加熱途徑來改變。熱改變(thermische Vernderung)優(yōu)選在＜600℃的溫度下，特別優(yōu)選在＜400℃的溫度下，非常特別優(yōu)選在＜300℃的溫度下，尤其＜200℃下發(fā)生。該變化能夠是，例如，吸光性化合物的發(fā)色中心的分解或化學(xué)變化。
優(yōu)選的是通式(I)的菁染料
其中X1和X3表示氮或X1-R1和X3-R2彼此獨(dú)立地表示S，X2表示O，S，N-R6，CR8或CR8R9，X4表示O，S，CR10或N-R7，Y表示N或C-R5，R1，R2，R6和R7彼此獨(dú)立地表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，R3，R4和R5彼此獨(dú)立地表示氫，C1-C16-烷基或氰基或當(dāng)m＝0和p＞0時(shí)，R1和R3一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，或當(dāng)m＝0和p＝0時(shí)，R1和R5一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，或當(dāng)n＝0時(shí)，R2和R5一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，R8，R9和R10彼此獨(dú)立地表示氫或C1-C16-烷基或CR8R9表示下式的二價(jià)基團(tuán) 或 其中兩個(gè)鍵是從星號(*)標(biāo)記的環(huán)中原子上引出，m和n彼此獨(dú)立地表示0或1，p表示0，1或2，包括X1、X2和連接X1和X2的基團(tuán)的環(huán)A和包括X3、X4和連接X3和X4的基團(tuán)的環(huán)B彼此獨(dú)立地表示五元或六元芳族或準(zhǔn)芳族(quasiaromatischen)或部分氫化的雜環(huán)，該雜環(huán)可含有1-4個(gè)雜原子和/或是苯并-或萘并-稠合的和/或被非離子基團(tuán)取代，其中環(huán)A和B優(yōu)選是不同的，和
An-表示陰離子。
可能的非離子基團(tuán)是，例如，C1-C4-烷基，C1-C4-烷氧基，鹵素，氰基，硝基，C1-C4-烷氧基羰基，C1-C4-烷硫基，C1-C4-鏈烷酰基胺基，苯甲?；坊瑔位蚨?C1-C4-烷基胺基。
烷基，烷氧基，芳基和雜環(huán)基可以任選地?cái)y帶其它基團(tuán)，如烷基，鹵素，硝基，氰基，CO-NH2，烷氧基，三烷基甲硅烷基，三烷基硅氧基或苯基，該烷基和烷氧基基團(tuán)可以是直鏈或支化的，該烷基可以部分地鹵化或全鹵化，該烷基和烷氧基基團(tuán)可以是乙氧基化或丙氧基化或甲硅烷基化的，在芳基或雜環(huán)基團(tuán)上的相鄰?fù)榛?或烷氧基基團(tuán)可以一起形成三元或四元橋連基和該雜環(huán)基可以是苯并稠合的和/或季化的(quaterniert)。
通式II的基團(tuán) 特別優(yōu)選表示苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，噻唑啉-2-基，苯并噁唑-2-基，噁唑-2-基，噁唑啉-2-基，苯并咪唑-2-基，咪唑-2-基，咪唑啉-2-基，二氫吡咯-2-基，3-H-吲哚-2-基，苯并[c，d]吲哚-2-基，2-或4-吡啶基或2-或4-喹啉基，其中X1表示N，其中該上述的環(huán)可以各自被C1-C6-烷基，C1-C6-烷氧基，氟，氯，溴，碘，氰基，硝基，C1-C6-烷氧基羰基，C1-C6-烷硫基，C1-C6-酰胺基，C6-C10-芳基，C6-C10-芳氧基或C6-C10-芳基羰基胺基取代。
通式III的基團(tuán) 特別優(yōu)選表示苯并噻唑-2-叉基，噻唑-2-叉基，噻唑啉-2-叉基，異噻唑-3-叉基，1，3，4-噻二唑-2-叉基，1，2，4-噻二唑-5-叉基，苯并噁唑-2-叉基，噁唑-2-叉基，噁唑啉-2-叉基，1，3，4-噁二唑-2-叉基，苯并咪唑-2-叉基，咪唑-2-叉基，咪唑啉-2-叉基，二氫吡咯-2-叉基，1，3，4-三唑-2-叉基，3H-吲哚-2-叉基，苯并[c，d]吲哚-2-叉基，2-或4-吡啶基或2-或4-喹啉基，它們中的每一個(gè)在表示為N的X3上攜帶如以上所定義的基團(tuán)R2，其中所提及的環(huán)可以各自被C1-C6-烷基，C1-C6-烷氧基，氟，氯，溴，碘，氰基，硝基，C1-C6-烷氧基羰基，C1-C6-烷硫基，C1-C6-酰胺基，C6-C10-芳基，C6-C10-芳氧基，C6-C10-芳基羰基胺基，單或二-C1-C6-烷基胺基，N-C1-C6-烷基-N-C6-C10-芳基胺基，吡咯烷基，嗎啉基或哌嗪基取代。
在特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(I)的染料，其中環(huán)A和環(huán)B表示不同的雜環(huán)。
在同樣特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(I)的染料，其中Y表示N。
在同樣特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(I)的染料，其中Y表示C-CN。
在同樣特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(I)的染料，其中p表示0或1。
可能的陰離子An-包括全部單價(jià)的陰離子或一當(dāng)量的多價(jià)陰離子或一當(dāng)量的低聚物或聚合物陰離子。優(yōu)選的是無色陰離子。合適陰離子的例子是氯離子，溴離子，碘離子，四氟硼酸根，高氯酸根，六氟硅酸根，六氟磷酸根，甲硫酸根，乙硫酸根(Ethosulfat)，C1-C10-鏈烷烴磺酸根，C1-C10-全氟鏈烷烴磺酸根，未被取代的或被氯-，羥基-或C1-C4-烷氧基-取代的C1-C10-鏈烷酸根，未被取代的或被硝基-，氰基-，羥基-，C1-C25-烷基-，全氟C1-C4-烷基-，C1-C4-烷氧基羰基-或氯-取代的苯磺酸根，或萘磺酸根或聯(lián)苯磺酸根，未被取代的或被硝基-，氰基-，羥基-，C1-C4-烷基-，C1-C4-烷氧基-，C1-C4-烷氧基羰基-或氯-取代的苯二磺酸根，萘二磺酸根或聯(lián)苯二磺酸根，未被取代的或被硝基-，氰基-，C1-C4-烷基-，C1-C4-烷氧基-，C1-C4-烷氧基羰基-，苯甲?；?，氯苯甲?；?或甲苯基-取代的苯甲酸根，萘二羧酸的陰離子，(二苯醚)二磺酸根，四苯基硼酸根，氰基三苯基硼酸根，四-C1-C20-烷氧基硼酸根，四苯氧基硼酸根，7，8-或7，9-dicarba-nido-undecaborat(1-)或(2-)，其可以任選地在B和/或C原子上被一個(gè)或兩個(gè)C1-C12-烷基或苯基取代，十二氫-dicarbadodecaborat(2-)或B-C1-C12-烷基-C-苯基-十二氫-dicarbadodecaborate(1-)，聚苯乙烯磺酸根，聚(甲基)丙烯酸根，聚烯丙基磺酸根。
優(yōu)選的是溴離子，碘離子，四氟硼酸根，高氯酸根，六氟磷酸根，甲烷磺酸根，三氟甲烷磺酸根，苯磺酸根，甲苯磺酸根，十二烷基苯磺酸根，十四烷磺酸根，聚苯乙烯磺酸根。
在非常特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(IV)到(XII)的染料

其中X21表示O，S，N-R12或CR13R14，X41和X43獨(dú)立地表示O，S，N-R22或CR23R14，X42表示N或C-R25，R11，R12，R21和R22彼此獨(dú)立地表示甲基，乙基，丙基，丁基，戊基，己基，芐基，苯乙基，環(huán)己基，氯乙基，氰基甲基，氰基乙基，羥乙基，2-羥丙基，甲氧基乙基，乙氧基乙基或以下通式的基團(tuán) 或，R11和R21表示-(CH2)2-或-(CH2)3-橋連基，R23和R24表示氫，甲基或乙基或CR23R24表示下式的二價(jià)基團(tuán) 其中兩個(gè)鍵是從星號(*)標(biāo)記的環(huán)原子上引出，R15表示氫，甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬坊酋；?，R16表示氫或R15和R16一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基或
X21和R16一起表示*C＝CH-CH＝CH-，其中兩個(gè)鍵從星號(*)標(biāo)記的原子上引出，R17和R18表示氫或一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，R25表示氫，甲基，苯基，氯，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基或甲硫基，R26表示氫，甲基，苯基，甲氧基，乙氧基，苯氧基，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基，甲硫基，二甲基胺基，二乙基胺基，二丙基胺基，二丁基胺基，吡咯烷基，哌啶基，N-甲基哌嗪基或嗎啉基或R25和R26一起表示-(CH2)3-，-(CH2)4-，-S-(CH2)2-S-或-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，它可以被甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬被酋；〈?，R27和R28彼此獨(dú)立地表示氫或甲基或一起形成-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，q表示0或1，Y表示CH，C-CN或N和An-表示四氟硼酸根，高氯酸根，六氟磷酸根，碘離子，硫氰酸根，氰酸根，羥基乙酸根，甲氧基乙酸根，乳酸根，檸檬酸根，甲烷磺酸根，乙烷磺酸根，三氟甲烷磺酸根，苯磺酸根，甲苯磺酸根，丁基苯磺酸根，氯苯磺酸根，十二烷基苯磺酸根，萘磺酸根或表示一當(dāng)量的聚苯乙烯磺酸根，其中對于通式(IV)的的菁染料而言，當(dāng)X42表示C-R25和R25和R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基時(shí)，X21和X41不可以是相同的。
在該通式(IV)到(XII)中，尤其優(yōu)選的是X21表示O或S，X41表示S或C(CH3)2，X42表示N或C-R25，R25表示氫或與R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，X43表示S或CH2，R27和R28表示氫，q表示0和Y表示N或CH，其中其它的基團(tuán)如以上所定義。
在同樣地非常特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是具有通式(XIII)到(XXV)的染料

其中X21表示O，S，N-R12或CR13R14，X22，X41和X43獨(dú)立地表示O，S，N-R22或CR23R24，X42表示N或C-R25R11，R12，R21和R22彼此獨(dú)立地表示甲基，乙基，丙基，丁基，戊基，己基，芐基，苯乙基，環(huán)己基，氯乙基，氰基甲基，氰基乙基，羥乙基，2-羥丙基，甲氧基乙基，乙氧基乙基或以下通式的基團(tuán) R23和R24表示氫，甲基或乙基或CR23R24表示下式的二價(jià)基團(tuán) 其中兩個(gè)鍵是從星號(*)標(biāo)記的環(huán)原子上引出，R15表示氫，甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬被酋；?，R16表示氫或R15和R16一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基或X21和R16-起表示*C＝CH-CH＝CH-，其中兩個(gè)鍵從星號(*)標(biāo)記的原子上引出，R17和R18表示氫或一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，R25表示氫，甲基，苯基，氯，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基或甲硫基，R26表示氫，甲基，苯基，甲氧基，乙氧基，苯氧基，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基，甲硫基，二甲基胺基，二乙基胺基，二丙基胺基，二丁基胺基，吡咯烷基，哌啶基，N-甲基哌嗪基或嗎啉基或R25和R26一起表示-(CH2)3-，-(CH2)4-，-S-(CH2)2-S-或-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，其可以被甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬被酋；〈?，R27到R30彼此獨(dú)立地表示氫或甲基或R27和R28或R29和R30一起表示-(CH2)3-，-(CH2)4-橋連基，q和s彼此獨(dú)立地表示0或1，Y表示CH，C-CN或N和An-表示四氟硼酸根，高氯酸根，六氟磷酸根，碘離子，硫氰酸根，氰酸根，羥基乙酸根，甲氧基乙酸根，乳酸根，檸檬酸根，甲烷磺酸根，乙烷磺酸根，三氟甲烷磺酸根，苯磺酸根，甲苯磺酸根，丁基苯磺酸根，氯苯磺酸根，十二烷基苯磺酸根，萘磺酸根或一當(dāng)量的聚苯乙烯磺酸根，其中對于通式(XIII)的菁染料，當(dāng)X42表示C-R25，R25和R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基和Y表示CH時(shí)，X21和X41優(yōu)選不是相同的，和對于通式(XXV)的菁染料，當(dāng)q和s是相同的和Y表示CH時(shí)，X22和X43不可以是相同的。
在通式(XIII)到(XXV)中，尤其優(yōu)選的是X21表示O，S或C(CH3)2，X41表示S或C(CH3)2，X42表示N或C-R25，R25表示氫或與R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，X22和X43彼此獨(dú)立地表示S或CH2，R27到R30表示氫，q和s表示0和Y表示N，CH或C-CN，其中其它的基團(tuán)如以上所定義，其中對于通式(XIII)的菁染料，當(dāng)X42表示C-R25，R25和R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基和Y表示CH時(shí)，X21和X41優(yōu)選是不相同的，和對于通式(XXV)的菁染料，當(dāng)Y表示CH時(shí)，X22和X43不可以是相同的。
在同樣非常特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，所使用的菁染料是通式(XXVI)到(XXXVII)的染料


其中X21表示O，S，N-R12或CR13R14，X41和X43獨(dú)立地表示O，S，N-R22或CR23R24，X42表示N或C-R25，R11，R12，R21和R22彼此獨(dú)立地表示甲基，乙基，丙基，丁基，戊基，己基，芐基，苯乙基，環(huán)己基，氯乙基，氰基甲基，氰基乙基，羥乙基，2-羥丙基，甲氧基乙基，乙氧基乙基或以下通式的基團(tuán)
R23和R24表示氫，甲基或乙基或CR23R24表示下式的二價(jià)基團(tuán) 其中兩個(gè)鍵是從星號(*)標(biāo)記的環(huán)原子上引出，R1表示氫，甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬被酋；?，R16表示氫或R15和R16一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基或X21和R16一起表示*C＝CH-CH＝CH-，其中兩個(gè)鍵從星號(*)標(biāo)記的原子上引出，R17和R18表示氫或一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，R25表示氫，甲基，苯基，氯，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基或甲硫基，R26表示氫，甲基，苯基，甲氧基，乙氧基，苯氧基，氰基，甲氧基羰基，乙氧基羰基，甲硫基，二甲基胺基，二乙基胺基，二丙基胺基，二丁基胺基，吡咯烷基，哌啶基，N-甲基哌嗪基或嗎啉基或R25和R26一起表示-(CH2)3-，-(CH2)4-，-S-(CH2)2-S-或-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，其可以被甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基，甲氧基羰基，甲磺?；虬被酋；〈琑27和R28彼此獨(dú)立地表示氫或甲基或一起表示-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，q表示0或1，Y表示CH，C-CN或N和An-表示四氟硼酸根，高氯酸根，六氟磷酸根，碘離子，硫氰酸根，氰酸根，羥基乙酸根，甲氧基乙酸根，乳酸根，檸檬酸根，甲烷磺酸根，乙烷磺酸根，三氟甲烷磺酸根，苯磺酸根，甲苯磺酸根，丁基苯磺酸根，氯苯磺酸根，十二烷基苯磺酸根，萘磺酸根或代表一當(dāng)量的聚苯乙烯磺酸根，其中對于通式(XXVI)的菁染料而言，當(dāng)X42表示C-R25，R25和R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基和Y表示CH時(shí)，X21和X41優(yōu)選是不相同的。
尤其優(yōu)選的是通式(XXVI)到(XXVIII)和(XXXII)到(XXXIV)的菁染料其中X21表示O，S或C(CH3)2，X41表示S或C(CH3)2，X42表示N或C-R25R25表示氫或與R26-起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基，X43表示S或CH2，R27和R28表示氫，q表示0和Y表示N，CH或C-CN，其中其它的基團(tuán)如以上所定義，其中對于通式(XXVI)的菁染料而言，當(dāng)X42表示C-R25，R25和R26一起表示-CH＝CH-CH＝CH-橋連基和Y表示CH時(shí)，X21和X41優(yōu)選是不相同的。
對于可利用藍(lán)光激光器的光來寫和讀的根據(jù)本發(fā)明的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體而言，優(yōu)選的是這樣的菁染料，它的最大吸收λmax1是在340-410nm范圍，其中在波長λmax1處的最大吸收的長波長側(cè)翼中消光值是在λmax1處消光值的一半的那一波長λ1/2和在波長λmax1處的最大吸收的長波長側(cè)翼中消光值是在λmax1處消光值的十分之一的那一波長λ1/10優(yōu)選在各種情況下相隔不超過50nm。此類菁染料優(yōu)選不具有最高達(dá)500nm，特別優(yōu)選550nm，非常特別優(yōu)選600nm的波長的更長波長最大值λmax2。
優(yōu)選的是具有345到400nm的最大吸收λmax1的菁染料。
特別優(yōu)選的是具有350到380nm的最大吸收λmax1的菁染料。
非常特別優(yōu)選的是具有360到370nm的最大吸收λmax1的菁染料。
對于這些染料而言，如以上所定義的λ1/2和λ1/10優(yōu)選相隔不超過40nm，特別優(yōu)選相隔不超過30nm，非常特別優(yōu)選相隔不超過10nm。
在這方面合適的染料是具有其中Y是N的通式(IV)到(VI)和(X)到(XII)的染料，和具有其中Y是CH的通式(VII)到(IX)的染料。
對于利用藍(lán)光激光器的光進(jìn)行寫和讀的根據(jù)本發(fā)明的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體，也優(yōu)選的是這樣的菁染料，它的最大吸收λmax2是在420-550nm范圍，其中在波長λmax2處的最大吸收的短波長側(cè)翼中的消光值是在λmax2處消光值的一半的那一波長λ1/2和在波長λmax2處的最大吸收的短波長側(cè)翼中的消光值是在λmax2處的消光值的十分之一的那一波長λ1/10優(yōu)選在各種情況下相隔不超過50nm。此類菁染料優(yōu)選不具有最高達(dá)350nm，特別優(yōu)選最高達(dá)320nm，非常特別優(yōu)選最高達(dá)290nm的波長下的更短波長最大值λmax1。
優(yōu)選的是具有4 0到530nm的最大吸收λmax2的菁染料。
特別優(yōu)選的是具有420到510nm的最大吸收λmax2的菁染料。
非常特別優(yōu)選的是具有430到500nm的最大吸收λmax2的菁染料。
在這些菁染料中，如以上所定義的λ1/2和λ1/10優(yōu)選相隔不超過40nm，特別優(yōu)選相隔不超過30nm，非常特別優(yōu)選相隔不超過20nm。
在這方面合適的染料是具有其中Y表示CH的通式(IV)到(VI)和(X)到(XII)的染料，和具有通式(XIII)到(XXIV)的染料。
對于利用紅光激光器的光進(jìn)行寫和讀的根據(jù)本發(fā)明的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體而言，優(yōu)選的是這樣的菁染料，它的最大吸收λmax2是在500-650nm范圍，其中在波長λmax2處的最大吸收的長波長側(cè)翼中的消光值是在λmax2處消光值的一半的那一波長λ1/2和在波長λmax2處的最大吸收的長波長側(cè)翼中的消光值是在λmax2處的消光值的十分之一的那一波長λ1/10優(yōu)選在各種情況下相隔不超過50nm。此類菁染料優(yōu)選不具有最高達(dá)750nm，特別優(yōu)選最高達(dá)800nm，非常特別優(yōu)選最高達(dá)850nm的更長波長最大值λmax3。
優(yōu)選的是具有530到630nm的最大吸收λmax2的菁染料。
特別優(yōu)選的是具有550到620nm的最大吸收λmax2的菁染料。
非常特別優(yōu)選的是具有580到610nm的最大吸收λmax2的菁染料。
在這些菁染料中，如以上所定義的λ1/2和λ1/10優(yōu)選相隔不超過40nm，特別優(yōu)選相隔不超過30nm，非常特別優(yōu)選相隔不超過20nm。
在這方面合適的染料是具有通式(XIII)到(XV)和(XIX)到(XXI)的染料。
對于利用紅外激光器的光進(jìn)行寫和讀的根據(jù)本發(fā)明的一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體，優(yōu)選的是這樣的菁染料，它的最大吸收λmax3是在650-810nm范圍，其中在波長λmax3處的最大吸收的長波長側(cè)翼中的消光值是在λmax3處消光值的一半的那一波長λ1/2和在波長λmax3處的最大吸收的長波長側(cè)翼中的消光值是在λmax3處的消光值的十分之一的那一波長λ1/10優(yōu)選在各種情況下相隔不超過50nm。
優(yōu)選的是具有660到790nm的最大吸收λmax3的菁染料。
特別優(yōu)選的是具有670到760nm的最大吸收λmax3的菁染料。
非常特別優(yōu)選的是具有680到740nm的最大吸收λmax3的菁染料。
在這些菁染料中，如以上所定義的λ1/2和λ1/10優(yōu)選相隔不超過40nm，特別優(yōu)選相隔不超過30nm，非常特別優(yōu)選相隔不超過20nm。
在這方面合適的染料是具有通式(XXV)到(XXVII)和(XXXI)到(XXXIII)的染料。
該菁染料在最大吸收λmax2處具有＞40000l/mol cm，優(yōu)選＞60000l/mol cm，特別優(yōu)選＞800001/mol cm，非常特別優(yōu)選＞100000l/molcm的摩爾消光系數(shù)ε。
該吸收光譜例如在溶液中測量。
具有所需的光譜性質(zhì)的合適菁染料尤其是其中偶極矩變化Δμ＝|μg-μag|，即在基態(tài)下的偶極矩與在第一激發(fā)態(tài)之間的正的差值盡可能小，優(yōu)選＜5D，特別優(yōu)選＜2D的那些染料。測定該偶極矩變化Δμ的方法例如描述在F.Würthner等，Angew.Chem.1997，109，2933，和其中所列舉的文獻(xiàn)中。低的溶劑-誘導(dǎo)波長偏移(Solvatochromie)(甲醇/二氯甲烷)同樣地是合適的選擇標(biāo)準(zhǔn)。優(yōu)選的是這樣的菁染料，它的溶劑-誘導(dǎo)波長偏移Δλ＝|λ二氯甲烷-λ甲醇|，即在溶劑二氯甲烷和甲醇中的吸收波長之間的正的差異，是＜25nm，特別優(yōu)選＜15nm，非常特別優(yōu)選＜5nm。
通式(I)的一些菁染料例如可從DE-C 883 025，DE-OS 1 070316，DE-A 1170 569，J.Chem.Soc.1951，1087，Ann.Soc.Chim.Pol.1963，225中獲知。
本發(fā)明進(jìn)一步提供以下通式的菁染料
其中R71表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，R72表示C1-C16-烷氧基，C1-C16-烷硫基，二-C1-C16-烷基胺基，N-C1-C16-烷基-N-C6-C10-芳基胺基，吡咯烷基，哌啶基，哌嗪基或嗎啉基，Y表示N和其它的基團(tuán)具有以上對于通式(I)所給出的意義。
優(yōu)選的是具有通式(XL)的菁染料其中R1和R71彼此獨(dú)立地表示甲基，乙基，丙基，丁基或芐基，R72表示二甲基胺基，二乙基胺基，二丙基胺基，二丁基胺基，吡咯烷基，哌啶基或嗎啉基，Y表示N，p表示0或1，R3和R4表示氫和環(huán)A表示苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，噻唑啉-2-基，苯并噁唑-2-基，二氫吡咯-2-基或3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，其中苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，苯并噁唑-2-基和3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基可以被甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基或甲氧基羰基取代，和An-表示陰離子。
特別優(yōu)選的是，p是1和環(huán)A表示3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲氧基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-硝基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-氯-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基或5-甲氧基羰基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，非常特別優(yōu)選表示3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基。
本發(fā)明進(jìn)-步提供以下通式的菁染料
其中R211表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，X44表示S，O或CH，R271和R281彼此獨(dú)立地表示氫或C1-C3-烷基或一起表示-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，u表示0或1，Y表示CH和其它的基團(tuán)具有以上對于通式(I)所給出的意義。
優(yōu)選的是具有通式(XLI)的菁染料其中R1和R211彼此獨(dú)立地表示甲基，乙基，丙基，丁基或芐基，X44表示S或CH，R271和R281表示氫，u表示0或1，p表示0或1，R3和R4表示氫和環(huán)A表示苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，噻唑啉-2-基，苯并噁唑-2-基，二氫吡咯-2-基或3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，其中苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，苯并噁唑-2-基和3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基可以被甲基，甲氧基，氯，氰基，硝基或甲氧基羰基取代，和An-表示陰離子。
特別優(yōu)選的是，p是1和環(huán)A表示3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲氧基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-硝基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-氯-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基或5-甲氧基羰基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，非常特別優(yōu)選3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基。
同樣優(yōu)選的是，p是0和環(huán)A表示苯并噻唑-2-基，5-甲氧基-苯并噻唑-2-基，5-氯-苯并噻唑-2-基，5-氰基-苯并噻唑-2-基，3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-甲氧基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-硝基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，5-氯-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基或5-甲氧基羰基-3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基，非常特別優(yōu)選苯并噻唑-2-基或3，3-二甲基-3H-吲哚-2-基。
該菁染料能夠通過本身已知的方法來制備。
如果光的波長是在360-460nm和600-680nm的范圍內(nèi)所述的吸光性化合物確保了未寫狀態(tài)的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的足夠高的反射率(＞10％)和在用聚焦光的點(diǎn)式照射時(shí)足夠高的吸收以實(shí)現(xiàn)信息層的熱降解。在數(shù)據(jù)載體上的寫入和未寫入點(diǎn)之間的對比度可通過根據(jù)入射光的波幅(Amplitude)和位相來說的反射率變化來獲得，這是通過在熱降解之后信息層的變化的光學(xué)性質(zhì)。
該菁染料優(yōu)選通過旋涂方法或真空汽相淀積方法被施涂于光學(xué)數(shù)據(jù)載體上。該菁染料能夠彼此混合或與其它具有類似物光譜性質(zhì)的染料混合。尤其，含有不同的陰離子的染料也可以混合。信息層能夠不僅包括菁染料，而且包括諸如粘結(jié)劑，潤濕劑，穩(wěn)定劑，稀釋劑和增感劑以及其它成分之類的添加劑。
同樣有可能使用與其它染料(優(yōu)選陽離子染料)的混合物。用于混合物的其它染料優(yōu)選是其λmax與通式(I)的染料的λmax2或λmax3相差不超過30nm，優(yōu)選不超過20nm，非常特別優(yōu)選不超過10nm的那些染料?？商峒暗睦邮沁x自菁類，Streptocyanine，Hemicyanine，Diazahemicyanine，Nullmethine，烯胺染料類，腙染料類，二-或三(雜)芳基甲烷染料類，呫噸染料類，吖嗪染料類(吩嗪類，噁嗪類，噻嗪)中或，例如，選自偶氮染料，蒽醌染料，Neutrocyanine，卟啉類或酞菁類中的染料。此類染料例如可從H.Berneth，“CationicDyes”，Ullmann′s Encyclopedia of Industrial Chemistry，VCH，第六版中獲知。
除信息層外，其它的層如金屬層，電介質(zhì)層，阻隔層和保護(hù)層可以存在于該光學(xué)數(shù)據(jù)載體中。金屬和電介質(zhì)和/或阻隔層尤其用于調(diào)節(jié)反射率和熱吸收/保留(Wrmehaushalts)。取決于激光波長，金屬能夠是金，銀，鋁等等。電介質(zhì)層的例子是二氧化硅和氮化硅。阻隔層是電介質(zhì)層或金屬層。保護(hù)層是例如可光致固化的涂層，(壓敏)粘合層和保擴(kuò)膜。
壓敏粘合劑層主要由丙烯酸粘合劑組成。在專利JP-A 11-2731471中公開的Nitto Denko DA-8320或DA-8310能夠例如用于這一目的。
該光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有，例如，下列層狀結(jié)構(gòu)(參見

圖1)透明基材(1)，任選的保護(hù)層(2)，信息層(3)，任選的保護(hù)層(4)，任選的粘合劑層(5)，覆蓋層(6)。
光學(xué)數(shù)據(jù)載體的結(jié)構(gòu)優(yōu)選-包括優(yōu)選透明的基材(1)，它的表面涂敷了能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3)，任選的保護(hù)層(4)，任選的粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1)，它的表面涂敷了保護(hù)層(2)，能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3)，任選的保護(hù)層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1)，它的表面涂敷了任選的保護(hù)層(2)，任選的可利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3)，任選的保護(hù)層(4)，任選的粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1)，它的表面涂敷了能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3)，任選的粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
另外地，光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有例如下列層狀結(jié)構(gòu)(參見圖2)優(yōu)選透明的基材(11)，信息層(12)，任選的反射層(13)，任選的粘合劑層(14)，附加的優(yōu)選透明的基材(15)。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及利用藍(lán)光或紅光，尤其激光寫的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)數(shù)據(jù)載體。
下列實(shí)施例用于說明本發(fā)明的主題。
實(shí)施例實(shí)施例18.1g的2-氨基-3-甲基-5-二異丙基胺基-1，3，4-噻二唑鎓甲硫酸鹽(從2-氨基-5-二異丙基胺基-1，3，4-噻二唑和硫酸二甲酯制得)和5g的1，3，3-三甲基-2-亞甲基-3H-吲哚-ω-醛在25ml的甲苯和2.3g的甲磺酸的混合物中通過使用分水器來沸煮12小時(shí)。在冷卻之后，添加50ml的己烷和分離所析出的油。將它置入在200ml的水中。該水相用每次200ml氯仿來萃取3次。該氯仿相在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器上蒸發(fā)。這得到2.3g(理論值的19％)的以下通式的紅色粉
m.p.＝115℃λmax(甲醇)＝544nmε＝96235l/mol cmλ1/2-λ1/10(短波長側(cè)翼)＝36nmλ1/2-λ1/10(長波長側(cè)翼)＝13nm溶解度在TFP(2，2，3，3-四氟丙醇)中＞2％玻璃狀膜實(shí)施例23.1g的1-甲基-2-甲硫基-苯并噻唑鎓甲硫酸鹽(從2-甲硫基苯并噻唑和硫酸二甲酯制得)，和2.6g的1-乙基-2-甲基-噻唑啉鎓碘化物(從2-甲基噻唑啉和乙基碘制得)在50ml的吡啶中沸煮3小時(shí)。在冷卻之后進(jìn)行抽濾，用5ml的吡啶洗滌并干燥。這得到1.1g(理論值的27％)的以下通式的無色粉 m.p.＝250-254℃λmax(甲醇)＝384nmε＝54621l/mol cmλ1/2-λ1/10(長波長側(cè)翼)＝10nm溶解度在TFP(2，2，3，3-四氟丙醇)中5％0.4g的上述產(chǎn)物在15ml的甲醇中與0.1g的高氯酸鋰一起在回流狀態(tài)下攪拌1小時(shí)。在冷卻之后進(jìn)行抽濾，用3ml的甲醇洗滌并干燥。這得到0.3g(理論值的80％)的以下通式的無色粉
m.p.220-225℃λmax(甲醇)＝384nmε＝56117l/mol cmλ1/2-λ1/10(長波長側(cè)翼)＝10nm溶解度在TFP(2，2，3，3-四氟丙醇)中5％玻璃狀膜同樣合適的菁染料示于下列表中




1)在甲醇中，除非另外說明。
2)Δλ＝|λ二氯甲烷-λ甲醇|3)在短波長側(cè)翼上4)在長波長側(cè)翼上5)在甲醇/氯仿1∶1中6)在丙酮中7)在NMP中實(shí)施例39在室溫下制備在2，2，3，3-四氟丙醇中由66.7wt％的實(shí)施例24的染料和33.3wt％的以下通式的染料組成的2wt％濃度溶液。
這一溶液利用旋涂法被施涂于預(yù)先刻槽的(pregrooved)聚碳酸酯基材上。預(yù)先刻槽的聚碳酸酯基材已經(jīng)利用注射模塑法作為盤片形式制得。盤片和凹槽結(jié)構(gòu)的尺寸對應(yīng)于通常用于DVD-R的那些。作為信息載體的具有染料層的盤片涂敷了120nm的金和然后在金層上通過汽相淀積法涂敷了200nm的SiO。UV可固化的丙烯酸涂料隨后通過旋涂法進(jìn)行涂敷和利用UV燈來固化。該盤片通過建造在光測試儀工作臺(Bank)上的動態(tài)寫入試驗(yàn)裝置來測試，該裝置由用于產(chǎn)生線式偏振光的二極管激光器(λ＝656nm)，偏振-敏感的光束分裂器，λ/4板和具有數(shù)值孔徑NA＝0.6的可移動的懸掛式會聚透鏡(激勵(lì)器透鏡)組成。從盤片的反射層上反射的光利用上述偏振-敏感的光束分裂器從射束路徑中取出(ausgekoppelt)并利用像散透鏡聚焦在四象限的(Vierquadranten)檢測器上。在線性速度V＝3.5m/s和寫功率Pw＝21mW下，測量信/噪比C/N＝42dB。這里，該寫功率是按照振蕩脈沖序列來施加，該盤片交替地用上述寫功率Pw輻射1μs和用讀取功率Pr≈0.6mW輻射4μs。該盤片用這一振蕩脈沖序列輻射，直至它繞自身旋轉(zhuǎn)一次。以這種方式產(chǎn)生的標(biāo)記然后使用讀取功率Pr來讀取和測量上述的信/噪比C/N。
權(quán)利要求
1.包括優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，該基材任選的已涂敷了一個(gè)或多個(gè)反射涂層，在該基材的表面上已經(jīng)涂敷了光可寫的信息層、任選的一個(gè)或多個(gè)反射層和任選的保護(hù)層或附加基材或覆蓋層，其能夠利用藍(lán)色、紅色或紅外光，優(yōu)選激光進(jìn)行寫和讀，其中信息層包括吸光性化合物和任選的粘結(jié)劑，特征在于至少一種菁染料用作吸光性化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，特征在于該菁染料具有通式(I) 其中X1和X3表示氮或X1-R1和X3-R2彼此獨(dú)立地表示S，X2表示O，S，N-R6，CR8或CR8R9，X4表示O，S，CR10或N-R7，Y表示N或C-R5，R1，R2，R6和R7彼此獨(dú)立地表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，R3，R4和R5彼此獨(dú)立地表示氫，C1-C16-烷基或氰基或當(dāng)m＝0和p＞0時(shí)，R1和R3一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，或當(dāng)m＝0和p＝0時(shí)，R1和R5一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，或當(dāng)n＝0時(shí)，R2和R5一起表示-(CH2)2-，-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，R8，R9和R10彼此獨(dú)立地表示氫或C1-C16-烷基或CR8R9表示下式的二價(jià)基團(tuán) 或 其中兩個(gè)鍵是從星號(*)標(biāo)記的環(huán)原子上引出，m和n彼此獨(dú)立地表示0或1，p表示0，1或2，包括X1、X2和連接X1和X2的基團(tuán)的環(huán)A和包括X3、X4和連接X3和X4的基團(tuán)的環(huán)B彼此獨(dú)立地表示五元或六元芳族或準(zhǔn)芳族或部分氫化的雜環(huán)，該雜環(huán)可含有1-4個(gè)雜原子和/或是苯并-或萘并-稠合的和/或被非離子基團(tuán)取代，其中環(huán)A和B優(yōu)選是不同的，和An-表示陰離子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，特征在于，在通式(I)中，以下通式的環(huán)A 表示苯并噻唑-2-基，噻唑-2-基，噻唑啉-2-基，苯并噁唑-2-基，噁唑-2-基，噁唑啉-2-基，苯并咪唑-2-基，咪唑-2-基，咪唑啉-2-基，二氫吡咯-2-基，3-H-吲哚-2-基，苯并[c，d]吲哚-2-基，2-或4-吡啶基或2-或4-喹啉基，其中X1表示N，其中該上述的環(huán)可以各自被C1-C6-烷基，C1-C6-烷氧基，氟，氯，溴，碘，氰基，硝基，C1-C6-烷氧基羰基，C1-C6-烷硫基，C1-C6-酰胺基，C6-C10-芳基，C6-C10-芳氧基或C6-C10-芳基羰基胺基取代，和下式的環(huán)B 表示苯并噻唑-2-叉基，噻唑-2-叉基，噻唑啉-2-叉基，異噻唑-3-叉基，1，3，4-噻二唑-2-叉基，1，2，4-噻二唑-5-叉基，苯并噁唑-2-叉基，噁唑-2-叉基，噁唑啉-2-叉基，1，3，4-噁二唑-2-叉基，苯并咪唑-2-叉基，咪唑-2-叉基，咪唑啉-2-叉基，二氫吡咯-2-叉基，1，3，4-三唑-2-叉基，3H-吲哚-2-叉基，苯并[c，d]吲哚-2-叉基，2-或4-吡啶基或2-或4-喹啉基，它們中的每一個(gè)在表示為N的X3上攜帶如權(quán)利要求2中所定義的基團(tuán)R2，其中所提及的環(huán)可以各自被C1-C6-烷基，C1-C6-烷氧基，氟，氯，溴，碘，氰基，硝基，C1-C6-烷氧基羰基，C1-C6-烷硫基，C1-C6-酰胺基，C6-C10-芳基，C6-C10-芳氧基，C6-C10-芳基羰基胺基，單或二-C1-C6-烷基胺基，N-C1-C6-烷基-N-C6-C10-芳基胺基，吡咯烷基，嗎啉基或哌嗪基取代。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3中一項(xiàng)或多項(xiàng)的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，特征在于該菁染料對應(yīng)于通式(I)其中環(huán)A和環(huán)B表示不同的雜環(huán)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到4中一項(xiàng)或多項(xiàng)的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，特征在于該菁染料對應(yīng)于通式(I)其中Y表示N。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到4中一項(xiàng)或多項(xiàng)的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，特征在于該菁染料對應(yīng)于通式(I)其中Y表示C-CN。
7.菁染料在一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體的信息層中的應(yīng)用，其中該菁染料具有在340-410nm范圍的最大吸收λmax1。
8.菁染料在一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體的信息層中的應(yīng)用，其中該菁染料具有在420-650nm范圍的最大吸收λmax2。
9.菁染料在一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體的信息層中的應(yīng)用，其中該數(shù)據(jù)載體能夠利用藍(lán)光激光來寫和讀。
10.菁染料在一次寫入型光學(xué)數(shù)據(jù)載體的信息層中的應(yīng)用，其中該數(shù)據(jù)載體能夠利用紅光激光器光來寫和讀。
11.生產(chǎn)根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的方法，其特征在于，優(yōu)選透明的、任選已涂敷了反射層的基材涂敷了菁染料，任選地與合適粘結(jié)劑和添加劑和任選地合適溶劑相結(jié)合，以及任選地還提供了反射層，附加的中間層和任選地保護(hù)層或附加基材或覆蓋層。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，它是利用藍(lán)光，紅光或紅外光，尤其是藍(lán)光或紅光，尤其是藍(lán)光或紅光激光光線來寫的。
13.以下通式的菁染料 其中R71表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，R72表示C1-C16-烷氧基，C1-C16-烷硫基，二-C1-C16-烷基胺基，N-C1-C16-烷基-N-C6-C10-芳基胺基，吡咯烷基，哌啶基，哌嗪基或嗎啉基，Y表示N和其它的基團(tuán)如權(quán)利要求2中所定義。
14.以下通式的菁染料 其中R211表示C1-C16-烷基，C3-C6-鏈烯基，C5-C7-環(huán)烷基或C7-C16-芳烷基，X44表示S，O或CH，R271和R281彼此獨(dú)立地表示氫或C1-C3-烷基或一起表示-(CH2)3-或-(CH2)4-橋連基，u表示0或1，Y表示CH和其它的基團(tuán)如權(quán)利要求2中所定義。
全文摘要
本發(fā)明涉及含有優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體，該基材任選已涂敷了一層或多層反射層，在其表面上施涂能夠用光進(jìn)行寫的信息層，任選的一層或多層的反射層和任選的保護(hù)層或附加的基材或覆蓋層。該光學(xué)數(shù)據(jù)載體能夠利用藍(lán)光，紅光或紅外光，優(yōu)選激光來進(jìn)行寫和讀，并且信息層包括吸光性化合物和任選的粘結(jié)劑。本發(fā)明的數(shù)據(jù)載體進(jìn)一步的特征在于至少一種菁染料用作該吸光性化合物。
文檔編號G11B7/246GK1513171SQ02810883
公開日2004年7月14日 申請日期2002年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月28日
發(fā)明者H·伯內(nèi)斯, H 伯內(nèi)斯, F·-K·布魯?shù)? げ悸車, W·黑澤, 攬, R·哈根, 固羋廾啄, K·哈森呂克, 遣 , S·科斯特羅米尼, 蠖 , P·蘭登伯格, な┧ , R·奧澤爾, 指穸, T·索默曼, J·－W·施塔維茨, T·比林格爾 申請人:拜爾公司