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光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法

文檔序號(hào):6741162閱讀:158來源:國知局
專利名稱:光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾波致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)方法,具體涉及這樣一種光學(xué)拾波致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)方法,其中在繞線管兩側(cè)設(shè)置分別在聚焦方向、軌跡方向和傾斜方向上驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波器的聚焦線圈、軌跡線圈和傾斜線圈,以保證繞線管的剩余側(cè)邊和聚焦線圈也用作傾斜線圈。
背景技術(shù)
通常在光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置中采用光學(xué)拾波器。對于以非接觸方式放置在轉(zhuǎn)盤上的諸如光盤的記錄介質(zhì)來說,光學(xué)拾波器在沿光盤的徑向方向移動(dòng)的同時(shí)執(zhí)行信息的記錄和/或再現(xiàn)。
光學(xué)拾波器包括通過對光源發(fā)出的光進(jìn)行聚焦從而在光盤上形成光斑的物鏡;以及沿軌跡方向、聚焦方向和傾斜方向控制物鏡,以便使通過物鏡形成的光斑能準(zhǔn)確地定位在光盤上的致動(dòng)器。
光學(xué)拾波致動(dòng)器包括在軌跡方向和聚焦方向上驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波器的雙軸驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器。近來,為了實(shí)現(xiàn)高密度記錄,隨著物鏡的N/A近來不斷提高和激光的波長不斷降低,光學(xué)拾波致動(dòng)器的傾斜邊緣也減少了。為了補(bǔ)償減少的傾斜邊緣,除現(xiàn)有的雙軸驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器外,還需要能在傾斜方向上驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波器的三軸或四軸驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器。三軸驅(qū)動(dòng)意味著在聚焦方向、軌跡方向和傾斜方向驅(qū)動(dòng)。四軸驅(qū)動(dòng)意味著在聚焦方向、軌跡方向、傾斜徑向方向和傾斜切線方向上驅(qū)動(dòng)。參照圖1,聚焦方向、軌跡方向、傾斜徑向方向和傾斜切線方向分別用L-L’、M-M’、N、和O表示。
參照圖1,通常的光學(xué)拾波致動(dòng)器包括基座100、固定到基座100上的保持器103、上面安裝了物鏡的繞線管107、連接繞線管107和保持器103的導(dǎo)線109,以及用于沿軌跡方向、聚焦方向或傾斜方向移動(dòng)繞線管107的磁驅(qū)動(dòng)部分。
磁驅(qū)動(dòng)部分包括設(shè)置在繞線管107的每個(gè)相對側(cè)面107a上的一對聚焦線圈110和傾斜線圈112(參照圖2A);設(shè)置在未設(shè)置聚焦線圈110和傾斜線圈112的另一側(cè)面107b上的軌跡線圈115;安裝在基座100上的第一和第二磁體117和119,它們以一定間隔面向聚焦線圈110、傾斜線圈112和軌跡線圈115。另外,在基座100上安裝了用于固定第一和第二磁體117和119的外磁軛118和120。在基座100上在面向第一磁體117的位置安裝內(nèi)磁軛122,用以導(dǎo)引繞線管107。外磁軛118和120以及內(nèi)磁軛122導(dǎo)引第一和第二磁體117和119產(chǎn)生的磁路指向所希望的位置。
每根導(dǎo)線109的一端焊接到繞線管107的兩個(gè)側(cè)面上,另一端接到保持器103上,并且每根導(dǎo)線與向磁驅(qū)動(dòng)部分施加電流的電路部分電連接。
在圖2A中示意性地示出了磁體極化和電流方向的例子,用以揭示聚焦線圈110和傾斜線圈112以及與其對應(yīng)的第一磁體117之間相互作用的力關(guān)系。在此,通過Fleming左手定律可知,在繞線管107四個(gè)側(cè)面的每個(gè)相對側(cè)面107a上設(shè)置的聚焦線圈110受到力Ff的作用,從而繞線管107沿聚焦方向L移動(dòng)。當(dāng)電流方向變?yōu)榉捶较驎r(shí),聚焦線圈110受到相反方向L’的力作用。
與此同時(shí),在繞線管107的兩個(gè)側(cè)面107a上設(shè)置傾斜線圈112,它與聚焦線圈110形成耦合,并與第一磁體117相互作用。在此,當(dāng)向傾斜線圈112施加反向流動(dòng)的相同電流時(shí),由兩個(gè)傾斜線圈112承受的力Fti變成相反方向,由此沿傾斜方向、特別是沿徑向傾斜方向(N)驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波器。
另外,在圖2B中示意性地示出了磁體極化和電流方向的例子,用以揭示軌跡線圈115和與其相對應(yīng)的第二磁體119之間相互作用的力關(guān)系。用Fleming左手定律確定磁體與線圈之間力的方向和大小。由此,在繞線管107第四側(cè)面上未設(shè)置聚焦線圈110和傾斜線圈112的兩側(cè)面107b中的每一個(gè)上設(shè)置的軌跡線圈115受到第二磁體119沿軌跡方向的力Ft的作用,由此繞線管107沿軌跡方向M移動(dòng)。在此,當(dāng)電流I的方向變?yōu)橄喾磿r(shí),軌跡線圈115受到反方向M’的力的作用。
通常,為了沿聚焦方向、軌跡方向和傾斜方向進(jìn)行驅(qū)動(dòng),設(shè)置六根致動(dòng)器導(dǎo)線109。另外,對于四軸驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器來說需要更多的導(dǎo)線。然而,由于光學(xué)拾波致動(dòng)器非常小,因此在按照傳統(tǒng)技術(shù)將繞線管107的所有四個(gè)側(cè)面都用于安裝聚焦線圈、軌跡線圈或傾斜線圈時(shí),留不下足夠空間用于安裝導(dǎo)線109。另外,當(dāng)導(dǎo)線數(shù)量增加時(shí),很難在小空間內(nèi)連接導(dǎo)線,從而使缺陷率相應(yīng)增加。
另外,當(dāng)利用繞線管107的所有四個(gè)側(cè)面設(shè)置線圈時(shí),線圈的布線很復(fù)雜。此外,由于磁體設(shè)置在每個(gè)聚焦線圈、傾斜線圈和軌跡線圈上,因此增加了部件數(shù)量,從而降低了生產(chǎn)率。另外,由于對用于盤轉(zhuǎn)動(dòng)的主軸電機(jī)(未示出)的干擾是由用于設(shè)置在繞線管107的左右側(cè)面上的聚焦線圈的第一磁體117產(chǎn)生的,因此不能準(zhǔn)確地控制主軸電機(jī)。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法,其中將用于沿聚焦方向、軌跡方向和傾斜方向驅(qū)動(dòng)物鏡的聚焦線圈、傾斜線圈和軌跡線圈布置在繞線管的兩個(gè)側(cè)面上,由此在繞線管的其它側(cè)面上獲得充分空間,并可通過一個(gè)線圈一起控制聚焦方向和傾斜方向上的驅(qū)動(dòng)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,提供了這樣一種驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波致動(dòng)器的方法,其包括以下步驟將繞線管布置到基座上使其能被支撐部件移動(dòng);在繞線管的相對側(cè)面安裝至少一個(gè)沿聚焦與傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管的聚焦與傾斜線圈以及至少一個(gè)沿軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管的軌跡線圈;布置磁體,使其面向聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈,并將聚焦與傾斜線圈中的至少一個(gè)分成至少兩組線圈,并向每組線圈施加輸入信號(hào)。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,在施加輸入信號(hào)的步驟中,將第一和第三聚焦線圈和傾斜線圈布置在繞線管的一側(cè)面上,將第二和第四聚焦與傾斜線圈布置在另一側(cè)面上,且第一和第二輸入信號(hào)輸入到通過連接第一到第四聚焦與傾斜線圈中的兩個(gè)線圈形成的第一和第二組線圈中。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,第一組線圈由第一和第三聚焦與傾斜線圈構(gòu)成,而第二組線圈由第二和第四聚焦與傾斜線圈構(gòu)成。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,第一組線圈由第一和第二聚焦與傾斜線圈構(gòu)成,而第二組線圈由第三和第四聚焦與傾斜線圈構(gòu)成。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,將相同的聚焦驅(qū)動(dòng)輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,將相位彼此不同的輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,將聚焦信號(hào)和相位與該聚焦信號(hào)的相位不同的傾斜信號(hào)的總信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,磁體是一種具有四極的磁體。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,磁體至少是每個(gè)具有兩個(gè)磁極的兩個(gè)磁體。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,輸入信號(hào)輸入到獨(dú)立于聚焦與傾斜線圈的軌跡線圈中。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈中的至少一個(gè)由精細(xì)圖案(fine pattern)線圈構(gòu)成。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,支撐部件布置在繞線管的另一相對側(cè)面上,在此未布置聚焦與傾斜線圈以及軌跡線圈。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,提供了一種驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波致動(dòng)器的方法,其包括以下步驟在基座上布置能被支撐部件移動(dòng)的繞線管;在繞線管的相對側(cè)面上安裝至少一個(gè)用于沿聚焦與傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管的聚焦與傾斜線圈以及至少一個(gè)用于沿軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管的軌跡線圈;且面向聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈布置磁體;以及獨(dú)立地向每個(gè)聚焦與傾斜線圈輸入信號(hào)。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,將同樣的輸入信號(hào)輸入到至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈中,以沿聚焦方向驅(qū)動(dòng)繞線管。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,將不同的輸入信號(hào)施加給至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈,以沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管。
在本發(fā)明中優(yōu)選的是,在施加輸入信號(hào)的步驟中,將第一和第三聚焦與傾斜線圈布置在繞線管的一個(gè)側(cè)面上,將第二和第四聚焦與傾斜線圈布置在與該側(cè)面相對的另一側(cè)面上,分別將第一和第二輸入信號(hào)輸入到第一組線圈和第二組線圈中,每組線圈由從第一到第四聚焦與傾斜線圈中選擇的一對線圈組成。


通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,將使本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)變得更加清楚,在這些附圖中圖1是傳統(tǒng)光學(xué)拾波致動(dòng)器的分解透視圖;圖2A和2B是表示圖1的光學(xué)拾波致動(dòng)器的磁體與線圈之間關(guān)系的視圖;圖3是依照本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)致動(dòng)器的分解透視圖;
圖4是本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器的平面圖;圖5是表示本發(fā)明光學(xué)拾波致動(dòng)器的磁體與線圈布置關(guān)系的視圖;圖6是表示依照本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器的磁體與精細(xì)圖案線圈之間作用力的關(guān)系的視圖;圖7A到7C和圖8A到8C是表示實(shí)施依照本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法的輸入信號(hào)波形的視圖;以及圖9是實(shí)施依照本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法的電路圖。
具體實(shí)施例方式
在描述依照本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法之前對本發(fā)明所采用的光學(xué)拾波致動(dòng)器描述如下。
參照圖3和4,依照本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波致動(dòng)器包括基座10、在基座10的一側(cè)布置的保持器12、上面安裝有物鏡14的繞線管15,以及用于沿聚焦方向、傾斜方向和軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管14的磁力驅(qū)動(dòng)部件。
磁力驅(qū)動(dòng)部件包括至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈、一軌跡線圈,它們設(shè)置在繞線管15的每個(gè)相對側(cè)15a上;磁體22,其安裝得與聚焦與傾斜線圈以及軌跡線圈相對。例如,聚焦與傾斜線圈可以是第一、第二、第三和第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4,而軌跡線圈可以是第一和第二軌跡線圈TC1和TC2,它們每一個(gè)都設(shè)置在繞線管15的每一相對側(cè)面上。在此,第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及第一和第二軌跡線圈TC1和TC2都布置在繞線管15的相對側(cè)面15a上。用于支撐能夠移動(dòng)并同時(shí)向第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及第一和第二軌跡線圈TC1和TC2施加電流的繞線管15的支撐部件30布置在繞線管15的每個(gè)不布置線圈的另一相對側(cè)面15b上。支撐部件30可以是導(dǎo)線或簧片。
在具有上述結(jié)構(gòu)的光學(xué)拾波致動(dòng)器中,第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4都在聚焦方向和傾斜方向受控,以便驅(qū)動(dòng)物鏡14。
例如,如圖5所示,磁體22可分成四部分。也就是說,磁體22分成適當(dāng)分布N極和S極的四個(gè)部分。為了便于說明,四個(gè)分開的磁極包括第一分開磁極22a,第二分開磁極22b,第三分開磁極22c,以及第四分開磁極22d。第一分開磁極22a是N極,第二分開磁極22b是S極,第三分開磁極22c是N極,第四分開磁極22d是S極。聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及軌跡線圈TC1和TC2都對應(yīng)于磁體22的各磁極22a、22b、22c和22d布置。
例如,如圖5所示,每個(gè)軌跡線圈TC1和TC2被布置得與磁體22的第一和第二磁極22a和22b相對。將一對第一和第三聚焦與傾斜線圈FC1和FC3設(shè)置在繞線管15的一個(gè)側(cè)面上,而將另一對第二和第四聚焦與傾斜線圈FC2和FC4設(shè)置在繞線管15的另一個(gè)側(cè)面上。第一或第二聚焦與傾斜線圈FC1或FC2被布置得面向第二和第三磁極22b和22c兩者,而第三或第四聚焦與傾斜線圈FC3或FC4被布置得面向第一和第四磁極22a和22d兩者。
或者是,磁體22可以是兩極磁體。例如,每個(gè)均具有兩個(gè)磁極的一組兩個(gè)磁體,可布置得彼此分隔預(yù)定距離,以面向聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及軌跡線圈TC1和TC2。
在此,聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及軌跡線圈TC1和TC2可以是繞組線圈。另外,如圖6所示,至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈以及軌跡線圈是精細(xì)圖案線圈20。精細(xì)圖案線圈20通過在薄膜上構(gòu)圖線圈形狀而制成,且其在小空間安裝線圈方面非常有用。
盡管磁體22能夠具有對稱分開的四個(gè)磁極,但為了保證軌跡線圈TC1和TC2的有效面積,可將與軌跡線圈TC1和TC2對應(yīng)的第一和第二磁極22a和22b分開,使其面積大于第三和第四磁極22c和22d的面積。也就是說,由于聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4利用了所有第一到第四磁極22a、22b、22c和22d,而軌跡線圈TC1和TC2僅利用了第一和第二磁極22a和22b,因此能夠調(diào)整每個(gè)磁極面積,以便相對于聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4取得平衡。
另外,在磁體22的各磁極區(qū)22a、22b、22c和22d之間布置了中性區(qū)22。中性區(qū)22設(shè)置在各個(gè)磁極之間的邊界部分上,以防止磁力線在磁極相對的邊界區(qū)域處發(fā)生偏移時(shí),整個(gè)磁力線的下降。
可進(jìn)一步設(shè)置外磁軛25和內(nèi)磁軛27,用以沿所希望的方向引導(dǎo)磁體22產(chǎn)生的磁力線。
接著,在下面描述依照本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾波調(diào)制器的驅(qū)動(dòng)方法。
在繞線管15的兩個(gè)側(cè)面15a上布置了至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4以及軌跡線圈TC1和TC2。將至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈分成至少兩組以接收第一和第二輸入信號(hào)。
例如,如圖7A所示,當(dāng)?shù)谝缓偷诙斎胄盘?hào)是相同方向上的聚焦信號(hào)時(shí),繞線管15沿聚焦方向F移動(dòng)。具體地說,在第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2構(gòu)成了第一組線圈,而第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4構(gòu)成了第二組線圈的情況下,當(dāng)向第一和第二組線圈兩者都施加同樣信號(hào)時(shí),第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4通過與磁體22的相互作用受到向上或向下的方向的相同的力。于是,繞線管15沿聚焦方向F移動(dòng)。
相反,當(dāng)將彼此不同的第一和第二輸入信號(hào)輸入到第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2和第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4中時(shí),聚焦與傾斜線圈受到左右兩側(cè)彼此相反的向上或向下的力的作用。在此,如圖8B所示,當(dāng)圖7B所示的第一輸入信號(hào)輸入到第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2中時(shí),相位與第一輸入信號(hào)相位不同的第二輸入信號(hào)就輸入到第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4中。于是就能夠控制沿傾斜徑向方向Tir的繞線管15的驅(qū)動(dòng)。
正如上面所述,通過分別將第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2以及第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4構(gòu)成第一和第二組線圈,就可以沿聚焦方向F、軌跡方向T和徑向傾斜方向Tir的三個(gè)軸驅(qū)動(dòng)繞線管。圖9是上述情形的電路圖。
與上述情況不同,第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4中的第一和第三聚焦與傾斜線圈FC1和FC3可形成第一組線圈,而第二和第四聚焦與傾斜線圈FC2和FC4可形成第二組線圈。在此,當(dāng)分別將相位彼此不同的第一和第二輸入信號(hào)輸入到第一組線圈和第二組線圈中時(shí),就可以沿切線傾斜方向Tit進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
除上述獨(dú)立地控制聚焦方向的驅(qū)動(dòng)和傾斜方向的驅(qū)動(dòng)方法外,還有這樣一種方法,它通過將沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)的第一和第二輸入信號(hào)的總信號(hào)作為聚焦方向的驅(qū)動(dòng)信號(hào)來施加,可同時(shí)控制聚焦方向上的驅(qū)動(dòng)和傾斜方向上的驅(qū)動(dòng)。也就是說,向第一組線圈輸入聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)(圖7A)和沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)的第一輸入信號(hào)(圖7B)的總信號(hào)(圖7C)。向第二組線圈輸入聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)(圖8A)和沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)的第二輸入信號(hào)(圖7C)的總信號(hào)。由此就能同時(shí)控制聚焦方向F、傾斜徑向方向Tir或傾斜徑向方向上的驅(qū)動(dòng)。
在此,第一組線圈由第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2組成,而第二組線圈由第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4組成。通過這樣做,就能一起控制聚焦方向F的驅(qū)動(dòng)和徑向傾斜方向Tir的驅(qū)動(dòng)?;蛘呤牵谝唤M線圈能夠由第一和第三聚焦與傾斜線圈FC1和FC3組成,而第二組線圈由第二和第四聚焦與傾斜線圈FC2和FC4組成。通過這樣做,就能一起控制聚焦方向F上的驅(qū)動(dòng)和切向傾斜方向Tit上的驅(qū)動(dòng)。
作為另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,存在這樣一種獨(dú)立地向第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4中每一個(gè)施加信號(hào)的方法。當(dāng)向第一到第四聚焦與傾斜線圈同樣施加聚焦信號(hào)(圖7A和8A)時(shí),繞線管15上下移動(dòng),且其在聚焦方向F上接受驅(qū)動(dòng)。
相反,可通過選擇性地向第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4中的每一個(gè)輸入輸入信號(hào)來控制傾斜徑向方向Tir上的驅(qū)動(dòng)和傾斜切向方向Tit上的驅(qū)動(dòng)。例如,第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4中的第一和第二聚焦與傾斜線圈FC1和FC2能夠組成第一組,而第三和第四聚焦與傾斜線圈FC3和FC4能夠組成第二組。另外,第一和第三聚焦與傾斜線圈FC1和FC3能夠組成第一組,而第二和第四聚焦與傾斜線圈FC2和FC4能夠組成第二組。
在此,通過向第一組輸入預(yù)定的第一輸入信號(hào)(圖7B)和向第二組輸入相位與第一輸入信號(hào)不同的第二輸入信號(hào),就能選擇性地控制傾斜徑向方向Tir上的驅(qū)動(dòng)和傾斜切向方向Tit上的驅(qū)動(dòng)。
另外,能夠選擇性地向第一到第四聚焦與傾斜線圈FC1、FC2、FC3和FC4輸入聚焦信號(hào)與用于傾斜驅(qū)動(dòng)的第一或第二輸入信號(hào)的總信號(hào)。通過這樣做,就能一起控制聚焦方向上的驅(qū)動(dòng)、徑向傾斜方向上的驅(qū)動(dòng)或切向傾斜方向上的驅(qū)動(dòng)。
與此同時(shí),軌跡線圈TC1和TC2通過與第一分離磁極22a和第二分離磁極22b的相互作用而沿軌跡方向T移動(dòng)繞線管15。由此,就可以實(shí)現(xiàn)在聚焦方向F、軌跡方向T、徑向傾斜方向Tir、以及切向傾斜方向Tit上的四軸驅(qū)動(dòng)。
顯而易見的是,在不改變本發(fā)明技術(shù)內(nèi)容的范圍內(nèi)可以修改磁體極性和線圈的布置。
正如上面所述,在依照本發(fā)明的光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法中,由于將聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈設(shè)置在繞線管的相對側(cè)面上以確保繞線管另一相對側(cè)面的自由空間,因此能通過單個(gè)線圈一起控制聚焦方向上的驅(qū)動(dòng)和傾斜方向上的驅(qū)動(dòng)。由此,能夠容易地將支撐部件安裝在繞線管的另一相對側(cè)面上,并能減少支撐部件的數(shù)量。于是能夠降低缺陷率并穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)三軸驅(qū)動(dòng)和四軸驅(qū)動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾波致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)方法,其包括以下步驟在基座上布置繞線管,該繞線管能夠由支撐部件移動(dòng);在繞線管的相對側(cè)面上安裝至少一個(gè)沿聚焦與傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管的聚焦與傾斜線圈和至少一個(gè)沿軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管的軌跡線圈,并且面向該聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈布置一塊磁體;以及將至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈分成至少兩組線圈,并向每組線圈施加輸入信號(hào)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在施加輸入信號(hào)的過程中,將第一和第三聚焦與傾斜線圈布置在繞線管的一個(gè)側(cè)面上,將第二和第四聚焦與傾斜線圈布置在另一側(cè)面上,向通過連接第一到第四聚焦與傾斜線圈中的兩個(gè)線圈形成的第一和第二組線圈輸入第一和第二輸入信號(hào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中第一組線圈由第一和第三聚焦與傾斜線圈組成,而第二組線圈由第二和第四聚焦與傾斜線圈組成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中第一組線圈由第一和第二聚焦與傾斜線圈組成,而第二組線圈由第三和第四聚焦與傾斜線圈組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法,其中將相同的聚焦驅(qū)動(dòng)輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法,其中將相位彼此不同的輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
7.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法,其中將聚焦信號(hào)和相位不同于該聚焦信號(hào)的傾斜信號(hào)的總信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中磁體是具有四個(gè)磁極的磁體。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中磁體是至少兩個(gè)磁體,每個(gè)磁體有兩個(gè)磁極。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中輸入信號(hào)輸入到獨(dú)立于聚焦與傾斜線圈的軌跡線圈中。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈中的至少一個(gè)由精細(xì)圖案線圈構(gòu)成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中在繞線管的未布置聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈的其它相對側(cè)面上布置支撐部件。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中支撐部件由導(dǎo)線或簧片構(gòu)成。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中支撐部件的數(shù)目至少為6個(gè)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,進(jìn)一步包括其上固定磁體的外磁軛和與外磁軛相對應(yīng)的內(nèi)磁軛。
16.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中在繞線管上安裝物鏡。
17.一種驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波致動(dòng)器的方法,其包括以下步驟在基座上安裝能夠被支撐部件移動(dòng)的繞線管;在繞線管的相對側(cè)面上安裝至少一個(gè)沿聚焦與傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管的聚焦與傾斜線圈和至少一個(gè)沿軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管的軌跡線圈,并面向聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈布置磁體;以及向每個(gè)聚焦與傾斜線圈獨(dú)立地輸入信號(hào)。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法,其中向至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈輸入相同的輸入信號(hào),以沿聚焦方向驅(qū)動(dòng)繞線管。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法,其中向至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈施加不同的輸入信號(hào),以沿傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管。
20.根據(jù)權(quán)利要求17到19中任一項(xiàng)所述的方法,其中,在施加輸入信號(hào)的過程中,第一和第三聚焦與傾斜線圈布置在繞線管的一個(gè)側(cè)面上,第二和第四聚焦與傾斜線圈布置在與該側(cè)面相對的另一側(cè)面上,分別向第一組線圈和第二組線圈輸入第一和第二輸入信號(hào),每組線圈由從第一到第四聚焦與傾斜線圈中選擇的一對構(gòu)成。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法,其中第一組線圈由第一和第三聚焦與傾斜線圈構(gòu)成,而第二組線圈由第二和第四聚焦與傾斜線圈構(gòu)成。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法,其中第一組線圈由第一和第二聚焦與傾斜線圈構(gòu)成,而第二組線圈由第三和第四聚焦與傾斜線圈構(gòu)成。
23.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的方法,其中將相同的聚焦驅(qū)動(dòng)輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
24.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的方法,其中將相位彼此不同的輸入信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
25.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的方法,其中將聚焦信號(hào)和與聚焦信號(hào)相位不同的傾斜信號(hào)的總信號(hào)作為第一和第二輸入信號(hào)輸入。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾波致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)方法。該方法將分別沿聚焦、軌跡和傾斜方向驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波器的聚焦線圈、軌跡線圈和傾斜線圈設(shè)置在繞線管兩側(cè),以確保留下繞線管的剩余側(cè),且聚焦線圈也用作傾斜線圈。如下驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾波致動(dòng)器將能被支撐部件移動(dòng)的繞線管布置到基座上;在繞線管相對側(cè)面上安裝至少一個(gè)沿聚焦與傾斜方向驅(qū)動(dòng)繞線管的聚焦與傾斜線圈和至少一個(gè)沿軌跡方向驅(qū)動(dòng)繞線管的軌跡線圈;面向聚焦與傾斜線圈和軌跡線圈布置磁體,并將至少一個(gè)聚焦與傾斜線圈分成至少兩組線圈,且向每組線圈施加輸入信號(hào)。由于能通過單個(gè)線圈一起控制聚焦和傾斜方向上的驅(qū)動(dòng),因此能減少支撐部件數(shù)目并降低缺陷率,由此能穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)三軸驅(qū)動(dòng)和四軸驅(qū)動(dòng)。
文檔編號(hào)G11B7/095GK1402232SQ0214439
公開日2003年3月12日 申請日期2002年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月19日
發(fā)明者宋秉, 申景湜 申請人:三星電子株式會(huì)社
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