專利名稱：磁復(fù)制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及從承載信息的主載體向從載體進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法。
背景技術(shù)：
磁復(fù)制方法是在使主載體緊密接觸從載體的狀態(tài)下施加磁復(fù)制磁場地進(jìn)行對應(yīng)于主載體所承載信息(如伺服信號)的磁性圖形復(fù)制的方法。至于這種磁復(fù)制方法，如特開昭63-183623、特開平10-40544號公報(bào)及特開平10-269566號等公報(bào)已被公開了。
但是，當(dāng)采用上述磁復(fù)制方法進(jìn)行磁復(fù)制時(shí)，主載體與從載體之間存在附著物。當(dāng)在附著物附近因主載體與從載體之間產(chǎn)生空間而存在接觸不良時(shí)，產(chǎn)生了不能進(jìn)行磁復(fù)制的區(qū)域。發(fā)生了不能進(jìn)行磁復(fù)制與復(fù)制在從載體上的磁信息遺漏，因而降低了信號質(zhì)量，在所記錄的信號是伺服信號時(shí)，不能充分獲得跟蹤功能，因而存在著不可靠的問題。
具體地說，如圖3中所示的，在磁復(fù)制時(shí)，使主載體3的信息承載面與從載體2的磁記錄面緊密接觸，在通過按壓支承件5壓接從載體2背面的狀態(tài)下，通過未示出的磁場發(fā)生器施加復(fù)制磁場，由此磁復(fù)制記錄下伺服信號信息。不過，如果在上述主載體3或從載體2的表面上附著有附著物P(顆粒)，則當(dāng)在主載體3與從載體2之間施加接觸壓力時(shí)，由于按壓支承件5的按壓面5a是剛性體并且是平坦的，所以，在附著物P周圍，在主載體3與從載體2之間產(chǎn)生了間隙，在因接觸不良產(chǎn)生的以附著物P為中心的圓形信號遺漏區(qū)D內(nèi)，不能對從載體2進(jìn)行對應(yīng)于由主載體3表面的磁性體形成的微細(xì)凹凸圖形的磁圖形復(fù)制，從而發(fā)生了復(fù)制不良、信號遺漏。尤其是，上述信號遺漏區(qū)D與附著物P大小(直徑d)之比變得范圍很廣。事實(shí)表明，上述附著物P主要是由于在從載體2制造過程中發(fā)生的粉塵、塵埃附著在從載體表面上而引起的。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于這樣的問題而制定了本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供一種縮小與磁復(fù)制有關(guān)的信號遺漏區(qū)并提信號質(zhì)量的磁復(fù)制方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下所述技術(shù)方案本發(fā)明的磁復(fù)制方法是這樣的，即在使承載信息信號的主載體與從載體接觸施加磁復(fù)制磁場進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法中，使所述主載體的一面接觸從載體的信息承載面，在從載體的背面上，在按壓支承件的按壓面之間設(shè)置了具有在施加接觸壓力時(shí)隨著從載體表面形狀變形的且在從主載體上剝離從載體時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面性能的彈性特性的材料。
具有所述彈性特性的材料的楊氏模量5.0×10-5Pa以上且小于3.0×1010Pa。磁復(fù)制時(shí)的施加壓力最好為9.8×10-5Pa以上且小于4.9×10- 3Pa。具有所述彈性特性的材料的厚度最好為0.1毫米以上且小于6毫米此外，上述磁復(fù)制方法最好是這樣的，即首先在磁跡方向上對從載體進(jìn)行直流磁化，使從載體與在對應(yīng)于復(fù)制信息的微細(xì)凹凸圖形上形成磁性層的磁復(fù)制用主載體接觸地在大致與從載體面的初始直流磁化方向相反的方向上施加磁復(fù)制磁場，從而進(jìn)行磁復(fù)制。所述信息最好是伺服信號。
根據(jù)如上所述的本發(fā)明，當(dāng)使承載信息信號的主載體與從載體接觸地施加磁復(fù)制磁場地進(jìn)行磁復(fù)制時(shí)，在把從載體壓在主載體上的按壓支承件的按壓面與從載體之間設(shè)置了具有在施加接觸壓力時(shí)隨著從載體表面形狀變形的且在從主載體上剝離從載體時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面性能的彈性特性的材料，由此一來，具有彈性特性的材料在施加壓力時(shí)變形為附著物的形狀，從而能夠縮小在附著物周圍的主載體與從載體之間間隙的形成范圍，從而能夠縮小信號抽出發(fā)生范圍地提高復(fù)制信號質(zhì)量。
具有所述彈性特性的材料的楊氏模量為5.0×10-5Pa以上且小于3.0×1010Pa，如果不到5.0×10-5Pa，則具有彈性特性的材料相對附著物變形，在除去負(fù)荷后無法使彈性特性材料的表面恢復(fù)，從而主載體和從載體以后就不能完全緊貼在一起。此外，如果楊氏模量超過3.0×1010Pa，則具有彈性特性的材料無法順應(yīng)附著物形狀地變形，在附著物周圍產(chǎn)生了空間。而且，從從載體的表面性能和主載體的耐久性能方面出發(fā)，也優(yōu)選上述范圍。
磁復(fù)制時(shí)，施加壓力最好為9.8×10-5Pa以上且小于4.9×10-3Pa。另外，具有所述彈性特性的材料的厚度最好為0.1毫米以上且小于6毫米。由此一來，能確保更好的磁復(fù)制特性。


圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁復(fù)制方法的附著物局部圖。
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的磁復(fù)制方法的基本過程。
圖3為對比實(shí)施例的磁復(fù)制方法的附著物局部圖。
其中附圖標(biāo)號說明2--從載體；3--主載體；4--彈性件(具有彈性特性的材料)；5--按壓支承件；5a--按壓面；31--基板；32--磁性層。
具體實(shí)施例方式
以下，詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例。圖1表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁復(fù)制方法的復(fù)制狀態(tài)。圖2表示本發(fā)明實(shí)施例的磁復(fù)制方法的基本情況，(a)是單向施加磁場地對從載體進(jìn)行初始直流磁化的過程，(b)表示使主載體與從載體接觸反向施加磁場的過程，(c)表示磁復(fù)制后的狀態(tài)。各圖是示意圖，它按照圖示厚度等與實(shí)際尺寸不同的比例來表示部件。
圖1中，在磁復(fù)制時(shí)，使從載體2的磁記錄面接觸主載體3的信息承載面，在從載體2的背面，在按壓支承件5的按壓面5a之間設(shè)置了由具有彈性特性的材料構(gòu)成的彈性件4并施加接觸壓力，在主載體3與從載體2相互接觸的狀態(tài)下，通過未示出的磁場發(fā)生器施加復(fù)制磁場的磁復(fù)制記錄伺服信號等。
彈性件材料4的楊氏模量為5.0×10-5Pa以上且小于3.0×1010Pa。所述材料具有在施加接觸壓力時(shí)隨著從載體2的表面形狀而變形并且在從主載體3上剝離從載體2時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面性能的特性。
此外，磁復(fù)制時(shí)的施加壓力為9.8×10-5Pa(5.0kgf/cm2)以上且小于4.9×10-3Pa(0.1kgf/cm2)。為確保主載體3與從載體2緊密接觸，提高作用在兩者上的施加壓力是有效的。如果施加壓力不到9.8×10- 5Pa，則不能確保充分的緊密接觸性，在很多地方發(fā)生了信號遺漏。盡管因提高壓力而顯著減少了信號遺漏，但如果施加超過4.9×10- 3Pa的壓力，則主載體3本身破損，或者從載體2因在主載體3與從載體2之間的附著物而塑性變形。
所述彈性特性件4的厚度為0.1毫米以上且小于6毫米。如果這個(gè)厚度不到0.1毫米，則不能吸收由附著物引起的變形，因此發(fā)生了信號遺漏。如果厚度超過6毫米，則彈性件4在施加壓力時(shí)完全變形，恐怕會發(fā)生彈性件因這種變形而無法位于從載體上等不希望的變形。
因此，在附著物P(顆粒)附著在主載體3或從載體2的表面上的場合下，如圖1所示，當(dāng)在主載體3與從載體之間施加接觸壓力時(shí)，彈性件4按壓從載體2的按壓面變形成附著物P的形狀，使從載體2順著附著物P的形狀而受壓變形，從而能夠縮小在附著物P周圍的主載體3與從載體2之間的間隙范圍，由在附著物P周圍的主載體3與從載體2之間的接觸不良引起的以附著物P為中心的信號遺漏區(qū)D縮小，從而能夠提高復(fù)制信號的質(zhì)量。信號遺漏區(qū)D相對附著物P直徑d比縮小了。
作為彈性件4的具體材料，能夠使用硅膠、聚亞胺酯橡膠、氟化膠、聚丁橡膠、特氟龍橡膠、氟化橡膠等普通橡膠。
作為橡膠的硬度，能夠采用10-100的硬度范圍，最好是40-80。楊氏模量最好為5.0×10-5Pa以上且小于3.0×1010Pa，更好地為8.0×10- 5Pa以上且小于4.1×104Pa，最佳地為1.2×10-4Pa以上且小于5.1×102Pa。
彈性件4接觸從載體2的接觸面的形狀與主載體3平行的平面形狀，或者在從載體2側(cè)成凸形。優(yōu)選圓弧形為凸形，但也可以是所謂的圓錐形。在成圓弧形或圓錐形的場合下，中心與邊緣的高度差(凸起高度)與彈性件4的直徑相比最好小于5％。
此外，加壓機(jī)構(gòu)的壓力可以完全作用在彈性件4與從載體2相反的整個(gè)背面上，也可以在局部上設(shè)置足以能吸收彈性件4變形的間隙4背面上的按壓支承件5的按壓面5a，從而彈性件4的中心附近的變形(凸起)發(fā)生在不接觸按壓面5a的部分上，從而能夠防止很高應(yīng)力集中在從載體2的中心部上。
磁復(fù)制方法的概況是這樣的。首先，如圖2(a)所示，在磁跡方向的一個(gè)方向上對從載體2施加初期磁場Hin，進(jìn)行預(yù)直流磁化(直流消磁)。隨后，如圖2(b)所示地，使從載體2的磁復(fù)制面與在主載體3的基板31的微細(xì)凹凸圖形上覆蓋的磁性層32的信息承載面緊密接觸，與所述初期磁場Hin相反地在從載體2的磁跡方向上施加復(fù)制磁場Hdu。結(jié)果，如圖2(c)所示，在從載體2的磁復(fù)制面(磁道)上，磁復(fù)制記錄下對應(yīng)于由主載體3的信息承載面的磁性層32的接觸凸起與凹部空間構(gòu)成的圖形的信息。至于這樣的磁復(fù)制方法的細(xì)節(jié)，例如，參見特愿平11-117800號所述的內(nèi)容。
當(dāng)上述主載體3的基板31的凹凸圖形是圖2的凸圖形與相反凹凸形狀的凹圖形時(shí)，通過使初期磁場Hin的方向及復(fù)制磁場Hdu的方向與上述情況相反而能夠磁復(fù)制記錄下同樣的信息。
在基板31是鎳等強(qiáng)磁性體的情況下，只用基板31就可以進(jìn)行磁復(fù)制，而不用涂覆磁性層32(軟磁層)，但也可以通過設(shè)置復(fù)制特性良好的磁性層32來進(jìn)行更好的磁復(fù)制。當(dāng)基板31是非磁性體時(shí)，必須設(shè)置磁性層32。
當(dāng)在由強(qiáng)磁性金屬構(gòu)成的基板31上覆蓋磁性層32時(shí)，為了中斷基板31的磁性影響，所以，最好在基板31與磁性層32之間設(shè)置非磁性層。此外，在最上層覆蓋類金剛石碳(DLC)等保護(hù)膜，通過保護(hù)膜提高接觸耐久性，從而可以進(jìn)行多次磁復(fù)制。在DLC保護(hù)膜的下層上，可以通過濺射等方式形成硅膜。
當(dāng)在從載體2的兩面上進(jìn)行磁復(fù)制時(shí)，通過不同的工序在每一面上進(jìn)行磁復(fù)制。
接著，說明主載體3的制作。作為主載體3的基板31使用了鎳、硅、石英、玻璃、鋁、合成樹脂等。凹凸圖形的形成是通過沖壓法、金屬表面光刻法等進(jìn)行的。
在沖壓法中，在表面光滑的玻璃板(或石英板)上通過旋涂等方式形成光刻膠，一邊使玻璃板轉(zhuǎn)動(dòng)，一邊對應(yīng)于伺服信號的照射調(diào)制激光(或電子束)。在整個(gè)光刻膠上，在對應(yīng)于圓周上各結(jié)構(gòu)的部分上對預(yù)定圖形例如相當(dāng)于在各磁道上從轉(zhuǎn)動(dòng)中心起沿半徑成直線延伸的伺服信號的圖形進(jìn)行曝光，隨后，對光刻膠進(jìn)行顯影處理，除去曝光部分并獲得具有由光刻膠形成的凹凸形狀的原盤。接著，在原盤表面的凹凸圖形下，在該表面上進(jìn)行鍍覆(電鑄)，制作出具有凸?fàn)畎纪箞D形的鎳基板并與原盤剝離。仍然以基板為主載體，或者如果需要的話，則凹凸圖形上涂覆非磁性層、軟磁層、保護(hù)膜，從而形成主載體。
此外，對原盤進(jìn)行鍍覆制作出第二原盤，用第二原盤進(jìn)行鍍覆，制作出具有凹狀凹凸圖形的基板。接著，在第二原盤上進(jìn)行鍍覆或壓射樹脂液進(jìn)行硬化，從而制成第三原盤，在第三原盤上進(jìn)行鍍覆，由此制成了具有凸?fàn)畎纪箞D形的基板。
另一方面，當(dāng)在玻璃板上形成由光刻膠構(gòu)成的圖形后，蝕刻玻璃板，在其上形成了孔，除去光刻膠后，獲得了原盤，隨后，與上述一樣地形成了基板。
作為金屬基板的材料，能夠使用鎳或鎳合金。包括無電解鍍覆、電鑄、濺射、離子電鍍在內(nèi)的各種金屬成膜法都適用于制作基板的鍍覆?；宓陌纪箞D形的深淺(凸起高度)最好為80nm-800nm并優(yōu)選為150m-600nm。在凹凸圖形是伺服信號的場合下，半徑方向增長地形成所述圖形。例如，半徑方向上的長度為0.3μm-20μm，圓周方向上的長度最好為0.2μm-5μm，在這個(gè)范圍內(nèi)，半徑方向長的圖形最好被選用作承載伺服信號信息的圖形。
所述磁性層(軟磁層)是通過真空蒸鍍磁性材料的方法、濺射方法、離子電鍍法等真空成膜方式、鍍覆法等而形成的。作為磁性層的磁性材料地，能夠采用Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)，其中優(yōu)選FeCo、FeCoNi。磁性層厚度最好為50nm-500nm并優(yōu)選為150m-400nm。至于作為底層地設(shè)置在磁性層下層上的非磁性層材料，使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、C、Ti、Al、Mo、W、Ta、Nb等。非磁性層能夠抑制基板是強(qiáng)磁體導(dǎo)致的信號質(zhì)量降低。
此外，最好在磁性層上設(shè)置DLC等保護(hù)膜，也可以設(shè)置潤滑劑層。作為護(hù)膜，最好是5nm-30nm的DLC膜，如果有潤滑劑，則更好。此外，在磁性層與保護(hù)膜之間設(shè)置了硅等附著強(qiáng)化層。潤滑劑改善了在補(bǔ)正產(chǎn)生于接觸從載體過程中的錯(cuò)移時(shí)的摩擦損傷等的耐久性惡化。
用所述原盤制作樹脂基板，在其面上設(shè)置了磁性層制成了主載體。作為樹脂基板的樹脂材料，可以使用聚碳酸酯·聚甲基丙烯酸酯等的丙烯基樹脂、聚氯乙烯·氯乙烯共聚體等的氯化乙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、非晶態(tài)聚烯烴及聚酯等。從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性及價(jià)格等方面考慮，優(yōu)選聚碳酸酯。當(dāng)在成品中存在飛邊時(shí)，通過輥光或拋光除去飛邊。樹脂基板的圖形凸起高度最好為50nm-1000nm并優(yōu)選為200nm-500nm。
在樹脂基板的表面的微細(xì)圖形上涂覆磁性層獲得了主載體。磁性層是通過真空鍍覆磁性材料的方法、濺射法、離子電鍍法等真空成膜方式、鍍覆法等形成的。
另一方面，在金屬表面光刻法中，例如在平板狀基板的光滑表面上涂布光刻膠，利用對應(yīng)于伺服信號圖形的光掩模來曝光和顯影，從而形成對應(yīng)于信息的圖形。接著，通過蝕刻步驟，對應(yīng)于圖形進(jìn)行基板蝕刻，從而形成了相當(dāng)于磁性層厚度的孔。接著，通過磁性材料真空蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法等真空成膜方式或鍍覆法，在基板表面上形成其厚度對應(yīng)于孔的磁性膜。隨后，用吹離(liftoff)方法除去光刻膠，研磨表面，在有飛邊的時(shí)候，除去飛邊，并且使表面光滑接著，描述從載體2。作為從載體使用了涂布型磁記錄載體或金屬薄膜型磁記錄載體。涂布型磁記錄載體例如是高密軟盤等市場銷售的載體。在金屬薄膜型磁記錄載體中，首先能夠?qū)o、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)用作磁性材料。這些材料的磁力線密度大并且具有與主載體同方向(面內(nèi)記錄時(shí)的面內(nèi)方面，垂直的垂直方向)的磁異向性，因此優(yōu)選用于進(jìn)行清楚的復(fù)制。而且，最好設(shè)置非磁性的底層，以便在磁性材料下方(支承體側(cè))獲得必要的磁性異向性。結(jié)晶結(jié)構(gòu)和晶格常數(shù)必須與磁性層匹配。為此，使用了Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、Ru、NiAl等。
以下，表示出本發(fā)明的磁復(fù)制方法的實(shí)施例1-8與對比例1、2并且在表1中列出了其特性評估結(jié)果。
實(shí)施例1-8實(shí)施例1軟盤(Zip250)并且最大磁場強(qiáng)度為398kA/m(50000e從載體Hc的兩倍)地使用電磁鐵裝置來進(jìn)行初期磁化(直流消磁)。利用如表1所示的由具有在各實(shí)施例中不同的楊氏模量及厚度的橡膠材料構(gòu)成的彈性件使從載體與主載體緊密接觸，在這個(gè)狀態(tài)下，使用電磁鐵裝置并與初期磁場相反地施加199kA/m(25000e)，從而進(jìn)行磁復(fù)制。如表1所示，按照在實(shí)施例中改變了施加壓力。
通過沖壓法制造出主載體。在具有凹凸圖形的鎳基板上，在25℃下形成了200nm厚的FeCo30at％軟磁性層。所形成的圖形中，在從圓盤中心開始沿半徑方向有20毫米-40毫米的位置上，設(shè)置了寬5微米的等間隔放射線，線間隔在半徑方向20毫米的最內(nèi)圈位置上等于1.2微米。磁性層的成型使用了直流濺射法，制作溫度為25℃，濺射氬氣壓力為1.5×10-4帕(1.08mTorr)，使用電功率為2.80W/cm2。
對比例1、2對比例1、2的磁復(fù)制法使用了與實(shí)施例1-8一樣的從載體及主載體，在對比例1中，彈性件的楊氏模量小，施加應(yīng)力與厚度與實(shí)施例1一樣。在對比例2中，彈性件的楊氏模量大，施加應(yīng)力與厚度與實(shí)施例4一樣。
在表1中，信號遺漏即緊密接觸性的評估方法是這樣的，把經(jīng)過磁復(fù)制的從載體的磁顯影液(シグマハィクミカル公司的シグマ-カQ)稀釋10倍，將其滴在從載體上并烘干、顯影，評估如此形成的磁復(fù)制信號端的變動(dòng)量。在10視野內(nèi)，用微分干涉型顯微鏡并以50倍放大倍率隨機(jī)觀察伺服信號部，觀察存在于從載體上的信號遺漏。根據(jù)存在于各信號遺漏部上的附著物直徑d與信號遺漏部直徑D，計(jì)算出信號遺漏部的擴(kuò)散率Drel(＝100×(D－d)/d)。如果平均Drel是不到10％的良好值，則標(biāo)為○，如果是10％-20％的允許值，則標(biāo)為△，如果是超過20％的不允許值，則標(biāo)為×。
從載體表面性能評估是這樣的，測定磁復(fù)制前的從載體表面粗糙度Ra(Ra1)。在各實(shí)施例和對比例的條件下，用相同的主載體與從載體反復(fù)1000次地進(jìn)行接觸、剝離，測定接觸剝離后的從載體表面粗糙度Ra(Ra2)，計(jì)算出增加率Rin(＝100×(Ra2－Ra1)/Ra1)。如果Rin是小于2％的良好值，則標(biāo)為○，如果是3％-5％的允許值，則標(biāo)為△，如果是超過6％的不允許值，則標(biāo)為×。
主載體耐久性的評估是這樣的，在各實(shí)施例和對比例的條件下，在反復(fù)1000次地進(jìn)行完接觸剝離后，在50視野內(nèi)，用微分干涉型顯微鏡并在480倍的放大倍率下隨機(jī)觀察主載體表面。在50視野中，磁性層磨損、龜裂部位如果是兩處以下的良好值，則標(biāo)為○，如果是3處以上的不允許值，則標(biāo)為×。
如表1的結(jié)果所示，在彈性件的楊氏模量、厚度及施加壓力在適用范圍內(nèi)的實(shí)施例1-8中，信號遺漏評估是○或△，復(fù)制在從載體上的信號質(zhì)量良好。而從載體表面性能的評估也是良好的，除了施加壓力高的實(shí)施例6外，主載體耐久性能也有良好的結(jié)果。尤其是，在實(shí)施例1-4中，獲得了良好的結(jié)果。
相反地，在彈性件的楊氏模量過小的對比例1中，與厚度、壓力相同的實(shí)施例1相比，出現(xiàn)了信號遺漏增大的不允許結(jié)果。從載體的表面粗糙度也略微變差。在彈性件的楊氏模量過大的對比例2中，與厚度、壓力相同的實(shí)施例4相比，出現(xiàn)了信號遺漏增大的不允許結(jié)果，從載體的表面粗糙度也變差。
表1

權(quán)利要求
1.一種使承載信息信號的主載體與從載體接觸地施加磁復(fù)制磁場地進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法，其特征在于使所述主載體的一面接觸從載體的信息承載面，在從載體的背面上，在按壓支承件的按壓面之間設(shè)置了具有在施加接觸壓力時(shí)隨著從載體表面形狀變形的且在從主載體上剝離從載體時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面性能的彈性特性的材料
2.如權(quán)利要求1所述的磁復(fù)制方法，其特征在于具有所述彈性特性的材料的楊氏模量為5.0×10-5Pa以上且小于3.0×1010Pa。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁復(fù)制方法，其特征在于所述磁復(fù)制時(shí)的施加壓力為9.8×10-5Pa以上且小于4.9×10-3Pa。
4.如權(quán)利要求1-3之一所述的磁復(fù)制方法，其特征在于具有所述彈性特性的材料的厚度為0.1毫米以上且小于6毫米。
全文摘要
在使承載信息信號的主載體與從載體接觸地施加磁復(fù)制磁場地進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法中,縮小由主載體與從載體之間的附著物引起的接觸不良造成的信號遺漏區(qū)地提高信號質(zhì)量。在使承載信息信號的主載體3與從載體2緊密接觸地施加磁復(fù)制磁場地進(jìn)行磁復(fù)制的磁復(fù)制方法中,在接觸主載體3的從載體2的背面上,在按壓支承件5的按壓面5a之間設(shè)置了具有在施加接觸壓力時(shí)隨著從載體2的表面形狀變形的且在從主載體3上剝離從載體2時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面性能的彈性特性的材料。
文檔編號G11B5/86GK1338729SQ01123539
公開日2002年3月6日 申請日期2001年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月14日
發(fā)明者西川正一, 臼杵一幸, 青木理史 申請人:富士膠片株式會社