透明導(dǎo)電膜與包含其的電容式觸摸屏的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及觸摸屏領(lǐng)域，具體而言，設(shè)及一種透明導(dǎo)電膜與包含其的電容式觸摸 屏。
【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有的電容式觸摸屏用透明導(dǎo)電膜在蝕刻及熱處理之后，會出現(xiàn)立體紋，無法滿 足部分高端客戶的需求。
[0003] 立體紋產(chǎn)生原因主要是因?yàn)椋海╨)ITO層（氧化銅錫層）的蝕刻部分與非蝕刻部分 產(chǎn)生了光學(xué)特性差別（包括可視光范圍內(nèi)的透過和反射特性，簡稱為色差），從而產(chǎn)生立體 紋路；（2)在后期的熱處理工藝中，因各層的熱收縮率的不同會出現(xiàn)涂層間應(yīng)力不匹配現(xiàn) 象，該是因?yàn)镮TO層和透明基材層及硬化層之間的組成差異比較大，相互之間存在的應(yīng)力 較大，尤其是ITO層由加熱前的非結(jié)晶態(tài)變?yōu)榧訜岷蟮慕Y(jié)晶態(tài)，會導(dǎo)致ITO層與透明基材層 及硬化層之間的應(yīng)力增大，進(jìn)而造成蝕刻部分和透明基材層及硬化層之間的應(yīng)力與非蝕刻 部分與有機(jī)層之間的應(yīng)力差別會進(jìn)一步增大，從而導(dǎo)致立體紋的加重。
[0004] 現(xiàn)有專利及文獻(xiàn)主要使用熱收縮率較小的硬化層與透明基材層形成透明導(dǎo)電膜， 進(jìn)一步作為電容式觸摸屏的制作材料，但是，在ITO層蝕刻后，透明導(dǎo)電膜仍然會產(chǎn)生立體 紋，使得電容式觸摸屏不足W滿足客戶的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的主要目的在于提供一種透明導(dǎo)電膜與包含其電容式觸摸屏，W解決現(xiàn)有 技術(shù)中的透明導(dǎo)電膜與電容式觸摸屏的立體紋明顯的問題。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種透明導(dǎo)電膜，該透明導(dǎo)電 膜包括：第一硬化層、透明基材層、第二硬化層與非結(jié)晶ITO層。其中，透明基材層設(shè)置于 第一硬化層的表面上；第二硬化層設(shè)置于透明基材層的遠(yuǎn)離第一硬化層的表面上；非結(jié)晶 ITO層設(shè)置于第二硬化層50的遠(yuǎn)離透明基材層30的表面上。
[0007] 進(jìn)一步地，上述非結(jié)晶ITO層中Sn的重量含量為7%~30%，優(yōu)選為8%~20%， 更優(yōu)選為15%。
[0008] 進(jìn)一步地，上述非結(jié)晶ITO層的厚度在10~100皿之間，優(yōu)選在15~40皿之間。
[0009] 進(jìn)一步地，上述第二硬化層的折射率在1. 59~1. 80之間。
[0010] 進(jìn)一步地，上述第二硬化層的鉛筆硬度在3B~4H之間，優(yōu)選在B~3H之間。
[0011] 進(jìn)一步地，上述第二硬化層的厚度在0. 3~10 ym之間，優(yōu)選在0. 5~3. 0 ym之 間。
[0012] 進(jìn)一步地，上述第一硬化層的厚度比上述第二硬化層的厚度大0. 1~0. 5 ym。
[0013] 進(jìn)一步地，上述第一硬化層的鉛筆硬度在3B~4H之間，優(yōu)選在B~3H之間。
[0014] 進(jìn)一步地，上述透明基材層的全光透過率大于85%，優(yōu)選上述透明基材層的厚度 在10~500 y m之間，進(jìn)一步優(yōu)選上述透明基材層的厚度在20~200 ym之間。
[0015] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種電容式觸摸屏，包含透明 導(dǎo)電膜，該透明導(dǎo)電膜為上述任一項(xiàng)的透明導(dǎo)電膜。
[0016] 應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，透明導(dǎo)電膜通過采用非結(jié)晶ITO層代替現(xiàn)有技術(shù)中的結(jié) 晶ITO層，非結(jié)晶ITO層在后期的熱處理過程后，不會由非結(jié)晶態(tài)變?yōu)榻Y(jié)晶態(tài)，而是保持非 結(jié)晶態(tài)，使得非結(jié)晶ITO層的收縮率保持不變，進(jìn)而使得蝕刻及加熱前后各層之間的應(yīng)力 差異大大減小，緩解了透明導(dǎo)電薄膜的立體紋嚴(yán)重的問題，得到低立體紋的電容式觸摸屏 用透明導(dǎo)電薄膜；并且，非結(jié)晶ITO層的阻抗較低，使其滿足現(xiàn)有技術(shù)中觸摸屏設(shè)備大型化 的需求，擴(kuò)展了其在大型化觸控產(chǎn)品市場中的應(yīng)用；另外，該透明導(dǎo)電膜的制作工藝較簡 單，降低了透明導(dǎo)電膜的生產(chǎn)成品。
【附圖說明】
[0017] 構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示 意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：
[0018] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的本申請一種典型實(shí)施方式提供的透明導(dǎo)電膜的剖面結(jié) 構(gòu)不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可W相 互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。
[0020] 本申請的一種典型的實(shí)施方式提供了一種透明導(dǎo)電膜，如圖1所示，該透明導(dǎo)電 膜包括：第一硬化層10、透明基材層30、第二硬化層50與非結(jié)晶ITO層70。其中，透明基 材層30設(shè)置于第一硬化層10的表面上；第二硬化層50設(shè)置于透明基材層30的遠(yuǎn)離第一 硬化層10的表面上；非結(jié)晶ITO層70設(shè)置于第二硬化層50的遠(yuǎn)離透明基材層30的表面 上。
[002U 結(jié)晶ITO是指在熱處理過程中會由非結(jié)晶態(tài)變?yōu)榻Y(jié)晶態(tài)的一種ITO ;本發(fā)明的非 結(jié)晶IT0是指在熱處理過程后不會由非結(jié)晶態(tài)變?yōu)榻Y(jié)晶態(tài)的一種口0。
[0022] 上述的透明導(dǎo)電膜通過采用非結(jié)晶IT0層70代替現(xiàn)有技術(shù)中的結(jié)晶IT0層，非結(jié) 晶IT0層70在后期的熱處理過程后，不會由非結(jié)晶態(tài)變?yōu)榻Y(jié)晶態(tài)，而是保持非結(jié)晶態(tài)，使得 非結(jié)晶IT0層70的收縮率保持不變，進(jìn)而使得蝕刻及加熱前后各層之間的應(yīng)力差異大大減 小，緩解了透明導(dǎo)電薄膜的立體紋嚴(yán)重的問題，得到低立體紋的電容式觸摸屏用的透明導(dǎo) 電薄膜；并且，非結(jié)晶IT0層70的阻抗較低，滿足現(xiàn)有技術(shù)中觸摸屏設(shè)備大型化的需求，擴(kuò) 展了其在大型化觸控產(chǎn)品市場中的應(yīng)用；另外，該透明導(dǎo)電膜的制作工藝較簡單，降低了透 明導(dǎo)電膜的生產(chǎn)成品。
[0023] 為了使透明導(dǎo)電膜具有更好的低立體紋，本申請優(yōu)選上述非結(jié)晶IT0層70中Sn 的重量含量為7%~30%。當(dāng)非結(jié)晶ITO層70中的Sn的重量含量大于7%時(shí)，能夠進(jìn)一 步保證IT0不會結(jié)晶，從而使透明導(dǎo)電膜達(dá)到很好的低立體紋效果；當(dāng)非結(jié)晶IT0層70中 的Sn的重量含量低于30%時(shí)，非結(jié)晶IT0層70的阻抗較小，且其透光度較高，進(jìn)一步提高 了透明導(dǎo)電膜的光學(xué)特性。為了進(jìn)一步保證透明導(dǎo)電薄膜的低立體紋效果與光學(xué)特性，本 申請進(jìn)一步優(yōu)選非結(jié)晶IT0層70中Sn的重量含量為8%~20%，更優(yōu)選非結(jié)晶IT0層70 中Sn的重量含量為15%。
[0024] 本申請的另一種優(yōu)選的實(shí)施例中，上述非結(jié)晶ITO層70的厚度在10~100皿之 間，當(dāng)非結(jié)晶ITO層70的厚度大于lOnm時(shí)，非結(jié)晶口0層70的阻抗較小，可W達(dá)到透明導(dǎo) 電膜對阻抗的要求；當(dāng)非結(jié)晶IT0層70的厚度小于lOOnm時(shí)，同樣會使透明導(dǎo)電膜的阻抗 較小，并且使得透明導(dǎo)電膜的外觀較好。為了進(jìn)一步獲得阻抗較低且外觀較好透明導(dǎo)電膜， 本申請進(jìn)一步優(yōu)選上述非結(jié)晶IT0層70的厚度在15~40皿。
[0025] 為了減小刻蝕后刻蝕部分與非刻蝕部分之間產(chǎn)生的光學(xué)特性差別（包括可視光 范圍內(nèi)的透過和反射特性），進(jìn)一步改善透明導(dǎo)電膜的立體紋現(xiàn)象，得到更低立體紋的透明 導(dǎo)電膜，本申請優(yōu)選上述第二硬化層50的折射率在1. 59~1. 80之間。第二硬化層50的 折射率在此范圍內(nèi)，能夠更進(jìn)一步地減少色差，并且折射率在此范圍內(nèi)的材料很容易獲取， 進(jìn)一步優(yōu)選第二硬化層50的折射率在1. 59~1. 75之間。
[0026] 本申請的又一種優(yōu)選的實(shí)施例中，上述第二硬化層50的鉛筆硬度在3B~4H之 間，當(dāng)?shù)诙不瘜?0的硬度大于3B時(shí)，其硬度較高，能夠起到更好的保護(hù)作用；當(dāng)其硬度小 于4H時(shí)，其自身收卷較容易、制作成本較低。為了進(jìn)一步保證第二硬化層50的保護(hù)性能與 維持較低的生產(chǎn)成本，進(jìn)一步優(yōu)選第二硬化層50的鉛筆硬度在在B~3H之間。
[0027] 為了進(jìn)一步保證第二硬化層50對透明導(dǎo)電膜的保護(hù)性能，同時(shí)考慮到生產(chǎn)成本， 優(yōu)選第二硬化層50的厚度在0. 3~10 ym之間，當(dāng)該層的厚度大于0. 3 ym時(shí)，其能夠起到 較好的保護(hù)透明導(dǎo)電膜其它層的作用；而當(dāng)其厚度小于10 ym時(shí)，進(jìn)一步降低了其生產(chǎn)成 本。為了進(jìn)一步保證第二硬化層50能起到良好的保護(hù)作用，同時(shí)，進(jìn)一步保證其具有較低 的生產(chǎn)成本，本申請優(yōu)選第二硬化層50的厚度在0. 5~3. 0 ym之間。
[002引本申請的又一種優(yōu)選的實(shí)施例中，第一硬化層10的厚度比第二硬化層50的厚度 大0. 1~0. 5 ym，透明導(dǎo)電膜后續(xù)的加熱工藝，會導(dǎo)致透明導(dǎo)電