一種新型GX-cell電容式觸摸屏模組及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于觸摸屏領(lǐng)域，涉及一種新型GX-Cell電容式觸摸屏模組及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]觸控和顯示深度整合已經(jīng)變?yōu)橐环N大的趨勢，目前此類產(chǎn)品結(jié)構(gòu)主要有On-Cell型和In-Cell型，它們的共同點是將外掛式的觸摸功能整合到液晶模組上，對降低顯示設備的厚度效果非常明顯。
[0003]然而，目前On-Cell型和In-Cell型結(jié)構(gòu)存在明顯的缺點，觸摸電極層遠離觸摸視窗，靠近液晶模組驅(qū)動電極層和電源，觸控信號易受驅(qū)動電路和電源的影響，表現(xiàn)在雜訊信號干擾明顯，對IC的性能要求高等等。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的旨在于提供一種具有高靈敏度、高報點率、能快速響應且不受雜訊信號干擾的新型GX-cell電容式觸摸屏模組。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0006]一種新型GX-cell電容式觸摸屏模組，其包括蓋板、基材和液晶顯示器，所述基材的上表面或下表面制作有觸摸傳感器的第一電極電路，液晶顯示器的彩色濾光片的上表面或下表面制作有觸摸傳感器的第二電極電路，所述蓋板與基材制作有第一電極電路的一面或者沒有制作第一電極電路的一面通過光學膠貼合，基材的另一面與液晶顯示器的上偏光片的上表面通過光學膠貼合，所述觸摸傳感器還包括上FPC和下FPC，所述上FPC綁定在基材上并與第一電極電路電性連接，所述下FPC綁定在彩色濾光片上并與第二電極電路電性連接。
[0007]優(yōu)選的，所述液晶顯示器還包括由上至下依次裝配的彩色濾光片、液晶盒、TFT玻璃、下偏光片和背光源，上偏光片位于彩色濾光片上方。
[0008]優(yōu)選的，所述蓋板由鋼化玻璃、亞克力板和塑料中的一種制成。
[0009]本發(fā)明還涉及一種新型GX-cell電容式觸摸屏模組的制作方法，包括以下步驟:
[0010]步驟1、在基材上制作觸摸傳感器的第一電極電路；
[0011]步驟2、在基材上綁定觸摸傳感器的上FPC，并使所述上FPC與第一電極電路形成電性連接；
[0012]步驟3、在液晶顯示器的彩色濾光片的上表面或下表面制作觸摸傳感器的第二電極電路；
[0013]步驟4、在液晶顯示器的彩色濾光片上綁定觸摸傳感器的下FPC，并使所述下FPC與第二電極電路形成電性連接；
[0014]步驟5、將蓋板與基材制作有第一電極電路的一面或者沒有制作第一電極電路的一面通過光學膠貼合，將基材的另一面與液晶顯示器的上偏光片的上表面通過光學膠貼入口 O
[0015]優(yōu)選的，所述步驟I具體包括如下子步驟:
[0016]步驟11、在基材上采用黃光制程制作邊框油墨；
[0017]步驟12、在基材上鍍ITO膜層；
[0018]步驟13、在ITO膜層上涂覆光刻膠，并依次進行曝光、顯影、蝕刻，以得到所述第一電極電路；
[0019]步驟14、在第一電極電路上鍍金屬膜或印刷曝光銀，并利用黃光制程制作與所述第一電極電路連接的邊緣引線。
[0020]優(yōu)選的，步驟12具體包括以下步驟:在鍍ITO膜層之前，在基材上鍍180-200埃的二氧化硅和五氧化二鈮的混合物，再鍍200-700埃的ITO膜層。
[0021]優(yōu)選的，所述步驟2包括如下子步驟:
[0022]采用熱壓機將上FPC綁定在基材上，其中，作用于基材的兩側(cè)的熱壓壓力為4.25 土 0.5Kg，作用于基材的中間的熱壓壓力為2.75 ± 0.5kg，熱壓持溫/時間為150-165°C /12±1S ；
[0023]將第一電極電路的邊緣引線與上FPC連接。
[0024]優(yōu)選的，所述步驟3具體包括如下子步驟:
[0025]步驟31、在彩色濾光片的上表面或下表面鍍120-160埃的二氧化硅，并在二氧化硅上鍍ITO膜層；
[0026]步驟32、在ITO膜層上涂覆光刻膠，并依次進行曝光、顯影、蝕刻，以得到所述第二電極電路；
[0027]步驟33、在第二電極電路上鍍金屬膜或印刷曝光銀，并利用黃光制程制作與所述第二電極電路連接的邊緣引線。
[0028]優(yōu)選的，所述步驟4包括如下子步驟:
[0029]采用熱壓機將下FPC綁定在彩色濾光片上，其中，作用于彩色濾光片的兩側(cè)的熱壓壓力為4.25±0.5Kg，作用于彩色濾光片的中間的熱壓壓力為2.75±0.5kg，熱壓持溫/時間為 150-165°C /12±1S ；
[0030]將第二電極電路的邊緣引線與下FPC連接。
[0031]優(yōu)選的，光刻膠的厚度在1.6-2.1 μπι之間；曝光量為100-120mj/cm2;顯影液采用濃度為0.4%的氫氧化鈉或濃度為0.7%氫氧化鉀；印刷曝光銀所采用的銀漿涂層的厚度在5-8 μ m ;邊緣引線的線寬/線距在10/10-200/200 μ m。
[0032]本發(fā)明的有益效果如下:該新型GX-cell電容式觸摸屏模組具有高靈敏度、高報點率、能快速響應且不易受雜訊信號干擾等性能；同時其也能夠?qū)崿F(xiàn)觸控和顯示深度整合的功能。本發(fā)明的制作方法簡單易行，通過在基板上制作觸摸傳感器的第一電極電路，使得其具有更好的保護第一電極電路的效果，同時在液晶顯示器的彩色濾光片的上表面或下表面制作觸摸傳感器的第二電極電路，并通過連接上下FPC使得第一電極電路和第二電極電路連接，以實現(xiàn)整體的一個高靈敏抗干擾的功能。
【附圖說明】
[0033]圖1為本發(fā)明新型GX-cell電容式觸摸屏模組的較佳實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034]圖2為本發(fā)明新型GX-cell電容式觸摸屏模組中蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035]圖3為本發(fā)明新型GX-cell電容式觸摸屏模組中彩色濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0036]圖4為本發(fā)明新型GX-cell電容式觸摸屏模組的結(jié)構(gòu)分解圖。
[0037]附圖標記:10、蓋板；11、基材；20、第一電極電路；21、上FPC ;30、光學膠；40、第二電極電路；41、下FPC ;50、上偏光片；60、彩色濾光片；70、液晶盒；80、TFT玻璃；90、下偏光片；100、背光源。
【具體實施方式】
[0038]下面將結(jié)合附圖以及【具體實施方式】，對本發(fā)明做進一步描述:
[0039]請參見圖1至圖4，本發(fā)明涉及一種新型GX-cell電容式觸摸屏模組，其較佳實施方式包括蓋板10、基材11和液晶顯示器，基材11的上表面或下表面制作有觸摸傳感器的第一電極電路20，液晶顯示器的彩色濾光片60的上表面(本實施方式以彩色濾光片上表面制作為例，也可以在其下表面制作第二電路)制作有觸摸傳感器的第二電極電路40，蓋板10與基材11制作有第一電極電路20的一面或者沒有制作第一電極電路20的一面通過光學膠30貼合，基材11的另一面與液晶顯示器的上偏光片50的上表面通過光學膠30貼合，觸摸傳感器還包括上FPC 21和下FPC 41，上FPC 21綁定在基材11上并與第一電極電路20電性連接，下FPC 41綁定在彩色濾光片60上并與第二電極電路40電性連接。
[0040]其中，液晶顯示器還可以包括由上至下依次裝配的液晶盒70、TFT玻璃80、下偏光片90和背光源100，上偏光片50位于彩色濾光片60上方。
[0041]優(yōu)選的，蓋板10可以由鋼化玻璃、亞克力板和塑料中的一種制成。當然，蓋板10還可以根據(jù)需要選擇其他的材料來進行制作。
[0042]另外，第一電極電路以及第二電極電路的電極材料可以是ITO、納米銀線、石墨烯、碳納米管、碳納米芽、metal mesh、PEDOT等材料或者是這些材料之間的組合。優(yōu)選的，本實施例中選用的電極材料為ITO。基材可以由鋼化玻璃、PET、PSA、亞克力板和塑料中的一種制成。優(yōu)選的，本實施例中選用的基極材料為PET。
[0043]本發(fā)明還涉及一種新型GX-cell電容式觸摸屏模組的制作方法，其包括以下步驟:
[0044]步驟S1、在基材上制作觸摸傳感器的第一電極電路。
[0045]步驟S2、在基材上綁定觸摸傳感器的上FPC，并使上FPC與第一電極電路形成電性連接。
[0046]步驟S3、在液晶顯示器的彩色濾光片的上表面或下表面制作觸摸傳感器的第二電極電路。
[0047]步驟S4、在液晶顯示器的彩色濾光片上綁定觸摸傳感器的下FPC，并使下FPC與第二電極電路形成電性連接。
[0048]步驟S5、將蓋板與基材制作有第一電極電路的一面或者沒有制作第一電極電路的一面通過光學膠貼合，將基材的另一面與液晶顯示器的上偏光片的上表面通過光學膠貼合。該光學膠可以是OCA，也可以是OCR。優(yōu)選的，可以采用OCA全貼合，OCA厚度可以在50-200um之間，其中貼合所需要的滾輪壓力可以是0.2±0.5MPA，滾輪速度可以是250±50mm/s。同時，還需連接上下FPC，以使第一電極電路與第二電極電路電性相連，從而得到本發(fā)明的新型觸摸屏模組。
[0049]具體的，制作第一電極電路所使用的方法可以是大張PET上鍍ITO膜的制作方法，也可以是小粒PET上鍍ITO膜的制作方法。優(yōu)選的，本實施例選用大張PET上鍍ITO膜的制作方法，即上述步驟SI相應地可以包括如下子步驟:
[0050]步驟S11、在基材上采用黃光制程制作邊框油墨。優(yōu)選的，油墨的厚度在l_4um之間。
[0051]步驟S12、在基材上鍍ITO膜層。優(yōu)選的，在鍍ITO膜層之前，可以在基材上鍍180-200埃的二氧化硅