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模型表面數(shù)據(jù)采樣方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)與流程

文檔序號(hào):40445145發(fā)布日期:2024-12-24 15:19閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述三角面的輪廓數(shù)據(jù)中包括所述三角面對(duì)應(yīng)的三個(gè)頂點(diǎn)的坐標(biāo),所述根據(jù)各所述三角面的輪廓數(shù)據(jù)和所述頂點(diǎn)采樣數(shù)量,確定位于各所述三角面中的多個(gè)候選模擬頂點(diǎn)以及各所述候選模擬頂點(diǎn)的位置信息,包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述迭代截止條件包括以下任一種:

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述根據(jù)各所述候選模擬頂點(diǎn)的位置信息確定所述模型表面的頂點(diǎn)采樣結(jié)果,包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述頂點(diǎn)采樣結(jié)果中包括多個(gè)均勻分布的待定頂點(diǎn)以及各所述待定頂點(diǎn)的位置信息,所述對(duì)所述頂點(diǎn)采樣結(jié)果進(jìn)行插值處理,確定所述模型表面對(duì)應(yīng)的多個(gè)目標(biāo)頂點(diǎn)以及各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的位置信息,包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述距離閾值的確定方式包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法,其特征在于,所述三角面的輪廓數(shù)據(jù)中包括所述三角面對(duì)應(yīng)的三條邊的標(biāo)識(shí),所述根據(jù)各所述三角面的輪廓數(shù)據(jù)和所述頂點(diǎn)采樣數(shù)量,確定位于各所述三角面中的多個(gè)候選模擬頂點(diǎn)之前,所述方法還包括:

8.一種模型表面數(shù)據(jù)采樣裝置,其特征在于,包括:

9.一種電子設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法。

10.一種非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的模型表面數(shù)據(jù)采樣方法。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種模型表面數(shù)據(jù)采樣方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),應(yīng)用于數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域,該方法包括:獲取對(duì)自然實(shí)景區(qū)域進(jìn)行傾斜攝影后的OSGB數(shù)據(jù);根據(jù)OSGB數(shù)據(jù)包括的多個(gè)三角面的輪廓數(shù)據(jù)確定模型表面的頂點(diǎn)總數(shù),并根據(jù)頂點(diǎn)總數(shù)和預(yù)設(shè)的采樣率確定頂點(diǎn)采樣數(shù)量;根據(jù)各三角面的輪廓數(shù)據(jù)和頂點(diǎn)采樣數(shù)量,確定位于各三角面中的多個(gè)候選模擬頂點(diǎn)以及各候選模擬頂點(diǎn)的位置信息;根據(jù)各候選模擬頂點(diǎn)的位置信息確定模型表面的頂點(diǎn)采樣結(jié)果,并對(duì)頂點(diǎn)采樣結(jié)果進(jìn)行插值處理,確定模型表面對(duì)應(yīng)的多個(gè)目標(biāo)頂點(diǎn)以及各目標(biāo)頂點(diǎn)的位置信息。采用本發(fā)明的技術(shù)方案可以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確對(duì)模型表面數(shù)據(jù)進(jìn)行采樣以及減少后續(xù)模型重建的空洞現(xiàn)象。

技術(shù)研發(fā)人員:李明華,趙裴,汪磊,王函,卜冬冬,田曉寧,馬廣慶,溫兆旭,楊東
受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京觀微科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
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