[技術(shù)領(lǐng)域]
本發(fā)明涉及無線射頻識別技術(shù)的電子標(biāo)簽制造技術(shù)領(lǐng)域,具體來說是一種防轉(zhuǎn)移電子標(biāo)簽的制造方法。
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背景技術(shù):
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隨著物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)的應(yīng)用日益廣泛,使傳統(tǒng)的防偽標(biāo)簽賦予了數(shù)字信息化技術(shù)。其非接觸身份識別優(yōu)勢在實際應(yīng)用中越發(fā)顯現(xiàn)出來,芯片的唯一編碼不可更改和復(fù)制更加強(qiáng)化了物品身份唯一性的保障強(qiáng)度,但標(biāo)簽本身的被重復(fù)使用隱患卻不能被忽視,對此,傳統(tǒng)的解決方法,諸如直接在標(biāo)簽上預(yù)置切口,增強(qiáng)膠的附著力,降低基材的抗撕強(qiáng)度等手段來阻止標(biāo)簽被重復(fù)使用。而電子標(biāo)簽是在基材上疊加天線和芯片,由于材料技術(shù)本身和制作工藝的限制,前述一些手段在電子標(biāo)簽上的被破壞性往往不同程度被降低了,防止重復(fù)使用的功能效果被減弱。因此,需要設(shè)計一種制造技術(shù)和工藝來解決目前這種現(xiàn)狀。
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技術(shù)實現(xiàn)要素:
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本發(fā)明的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種防轉(zhuǎn)移電子標(biāo)簽的制造方法,其制造的電子標(biāo)簽?zāi)芊奖悖喗莸厥褂?,并且提高了電子?biāo)簽一次性使用的效果。
為了實現(xiàn)上述目的,設(shè)計一種防轉(zhuǎn)移電子標(biāo)簽的制造方法,其特征在于在襯底上預(yù)先制作電子標(biāo)簽,然后把電子標(biāo)簽移貼到標(biāo)識物上并去除襯底,再在電子標(biāo)簽上覆蓋面積大于電子標(biāo)簽的、有特定標(biāo)識的防偽面標(biāo)。
所述的方法具體步驟如下:
a.在襯底表面預(yù)涂易碎的可剝離涂層;
b.在可剝離涂層上制作電子標(biāo)簽天線與剝離輔助線結(jié)構(gòu);
c.將芯片連接在天線上,并在襯底設(shè)有天線的一側(cè)表面涂覆膠粘劑;
d.揭起剝離輔助線結(jié)構(gòu)以在襯底上形成無膠區(qū)域;
e.對襯底進(jìn)行模切,切除無膠區(qū)域外端的部分,以得到與無膠襯底相連的電
子標(biāo)簽;
f.將邊緣有無膠襯底的電子標(biāo)簽移貼至標(biāo)識物上;
g.從無膠襯底一側(cè)揭除襯底,留下在易碎涂層上的電子標(biāo)簽inlay;
h.在電子標(biāo)簽inlay外側(cè)定位覆蓋大于inlay的防偽面標(biāo)。
優(yōu)選地,所述的剝離輔助線結(jié)構(gòu)制作于電子標(biāo)簽天線一側(cè)或兩側(cè)邊緣的外端,揭起剝離輔助線結(jié)構(gòu)并經(jīng)模切切除無膠區(qū)域外端的部分后,能得到一側(cè)或兩側(cè)邊緣有無膠襯底的電子標(biāo)簽。
優(yōu)選地,選取耐溫、抗拉伸的基材作為襯底,選用耐溫在150℃以上,厚度在30μm-70μm的pet基材作為襯底。
優(yōu)選地,所述的可剝離涂層采用耐高溫和耐溶劑性的材料制成,所述的可剝離涂層厚度范圍為5μm-20μm,剝離力小于0.7n。
優(yōu)選地,所述的剝離輔助線結(jié)構(gòu)與天線通過對金屬良導(dǎo)體進(jìn)行蝕刻而制成。
本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比,其優(yōu)點在于:先在襯底上預(yù)先制作電子標(biāo)簽,然后把電子標(biāo)簽移貼到標(biāo)識物上并去除襯底,再在電子標(biāo)簽上覆蓋面積大于電子標(biāo)簽的、有特定標(biāo)識的防偽面標(biāo),貼付在標(biāo)識物上的僅僅是易碎的電子標(biāo)簽inlay,且不包括其襯底,防偽面標(biāo)是后續(xù)覆蓋于電子標(biāo)簽inlay外側(cè)的,撕除防偽面標(biāo)的同時極易將電子標(biāo)簽inlay同時損壞,即使未損壞,撕除防偽面標(biāo)的同時,電子標(biāo)簽inlay也不會被一同撕下,只會使易碎的電子標(biāo)簽inlay單獨留于標(biāo)識物表面,能夠有效地防止電子標(biāo)簽被重復(fù)使用,并且使用方便。
[附圖說明]
圖1是本發(fā)明的剝離輔助線結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖2是本發(fā)明制作電子標(biāo)簽天線與剝離輔助線的示意圖;
圖3是本發(fā)明連接芯片的示意圖;
圖4是本發(fā)明涂覆膠粘劑的示意圖;
圖5是本發(fā)明揭起剝離輔助線結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖6是本發(fā)明對襯底進(jìn)行模切的示意圖;
圖7是本發(fā)明揭除襯底的示意圖;
圖8是在電子標(biāo)簽inlay外側(cè)定位覆蓋防偽面標(biāo)的示意圖;
圖中:1.襯底2.可剝離涂層3.剝離輔助線結(jié)構(gòu)4.天線5.芯片6.膠粘劑7.無膠區(qū)域8.連接部9.防偽面標(biāo)。
[具體實施方式]
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明,這種裝置的結(jié)構(gòu)和原理對本專業(yè)的人來說是非常清楚的。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
參見圖1-8,本發(fā)明是在一種襯底上預(yù)先制作電子標(biāo)簽,然后把電子標(biāo)簽轉(zhuǎn)移到標(biāo)識物上并去除襯底,再在其上面覆蓋面積更大的有特定標(biāo)識的防偽面標(biāo)。具體方法是首先選取耐溫,抗拉伸的基材作為襯底,在襯底表面預(yù)涂可剝離且易碎的涂層,然后在剝離層上制作電子標(biāo)簽天線和剝離輔助線結(jié)構(gòu),綁定芯片后在天線一面涂上膠粘劑,借助剝離輔助線結(jié)構(gòu)把對應(yīng)區(qū)域一面帶膠涂層去除,然后模切出邊緣有無膠襯底的電子標(biāo)簽,移貼到標(biāo)識物上后從無膠襯底一側(cè)揭除襯底,即留下在易碎涂層上的電子標(biāo)簽inlay,再在上面定位覆蓋大于inlay的防偽面標(biāo)。
所述的襯底一般選用耐溫在150℃以上,厚度在30μm-70μm的pet基材,涂層厚度在5μm-20μm,剝離力小于0.7n,該涂層具有足夠的耐高溫和耐溶劑性。如圖1在天線的一側(cè)或兩側(cè)預(yù)置的剝離輔助線結(jié)構(gòu)寬度為2mm以上,所述的剝離輔助線與天線通過蝕刻工藝制成,材質(zhì)采用金屬良導(dǎo)體,最好用鋁質(zhì),更好的用銅質(zhì),厚度選在3μm-30μm。如圖,4在綁定好芯片的干電子標(biāo)簽inlay以及剝離輔助線結(jié)構(gòu)這面涂膠粘劑,再剝?nèi)ポo助線結(jié)構(gòu)連同其上的膠層使電子標(biāo)簽inlay一側(cè)或兩側(cè)出現(xiàn)無膠區(qū)域如圖5,通過模切得到一側(cè)或兩側(cè)無膠的濕電子標(biāo)簽inlay,然后通過手工或貼標(biāo)機(jī)貼到標(biāo)識物上并去掉其上的襯底,使標(biāo)識物上只留下易碎的電子標(biāo)簽inlay,最后在其上定位貼合面積更大的易碎面標(biāo),至此形成了一個完整的防轉(zhuǎn)移電子標(biāo)簽。
實施例一
手動貼合成型:選取耐溫,抗拉伸,厚度50μmpet的基材作為襯底,在襯底表面預(yù)涂10μm可剝離且易碎的涂層,然后在剝離層上用鋁蝕刻的方法制作電子標(biāo)簽天線和剝離輔助線結(jié)構(gòu),綁定芯片后在天線一面涂上不干膠,再借助剝離輔助線把所在一面帶膠涂層去除,最后模切出包括有無膠襯底在內(nèi)的電子標(biāo)簽inlay,移貼到標(biāo)識物上后從無膠襯底一側(cè)揭除襯底即留下無法重復(fù)轉(zhuǎn)移使用的電子標(biāo)簽inlay,再在上面定位覆蓋大于inlay易碎紙防偽面標(biāo)。
實施例二
自動貼合成型:選取耐溫,抗拉伸,厚度38μmpet的基材作為襯底,在襯底表面預(yù)涂15μm可剝離且易碎的涂層,然后在剝離層上用鋁蝕刻的方法制作電子標(biāo)簽天線,綁定芯片后在天線一面涂上不干膠,最后模切出所需尺寸的電子標(biāo)簽inlay。通過自動貼標(biāo)機(jī)移貼到標(biāo)識物上并同時將襯底揭除,留下無法重復(fù)轉(zhuǎn)移使用的電子標(biāo)簽inlay。再通過自動定位貼標(biāo)機(jī)在上面定位覆蓋大于inlay易碎紙防偽面標(biāo)標(biāo)識。