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實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法和系統(tǒng)與流程

文檔序號(hào):12667251閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法,其特征在于,包括以下步驟:

獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo);

判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值;

當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí),根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo);

過濾所述面板的像素坐標(biāo),得到過濾后的像素坐標(biāo);

根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法,其特征在于,所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo),所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度,所述當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí),根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)的步驟,包括:

Xrs=Xc/(Xa-Xi)*(a-Xi)+w

Yrs=Y(jié)c-Yc/(Ya-Yi)*(b-Yi)+h

其中,(w,h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo),坐標(biāo)系的寬為Xc,高為Yc,坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi,最大刻度為Xa,縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi,最大刻度為Ya,(a,b)為坐標(biāo)系內(nèi)的任一原始數(shù)據(jù)坐標(biāo),(Xrs,Yrs)為轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法,其特征在于,所述過濾所述面板的像素坐標(biāo),得到過濾后像素坐標(biāo)的步驟,包括:

以任一像素坐標(biāo)為圓心,以預(yù)設(shè)長(zhǎng)度為半徑為圓,分別判斷所述面板中其余任一像素坐標(biāo)是否在對(duì)應(yīng)圓內(nèi),具體為:

(x-x0)*(x-x0)+(y-y0)*(y-y0)<=r*r

其中,(x0,y0)為任一像素坐標(biāo),即圓心,r為半徑,(x,y)為其余任一像素坐標(biāo);

若所述其余任一像素坐標(biāo)在所述圓內(nèi),則過濾所述其余任一像素坐標(biāo),得到過濾后像素坐標(biāo);或

所述過濾所述面板的像素坐標(biāo),得到過濾后像素坐標(biāo)的步驟,包括:

對(duì)于所述面板的像素坐標(biāo)取整或者保留預(yù)設(shè)位小數(shù)進(jìn)行過濾,得到過濾后像素坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法,其特征在于,根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示的步驟,包括:

根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述過濾后的像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo);

根據(jù)所述數(shù)據(jù)坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法,其特征在于,所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo),所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度,所述根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述過濾后像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo)的步驟,包括:

A=(Xrs’-w)*(Xa-Xi)/Xc+Xi

B=(Yc+h–Yrs’)*(Ya-Yi)/Yc+Yi

其中,(w,h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo),坐標(biāo)系的寬為Xc,高為Yc,坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi,最大刻度為Xa,縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi,最大刻度為Ya,(Xrs’,Yrs’)為面板內(nèi)過濾后的任一像素坐標(biāo),(A,B)為轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)系的數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

6.一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng),其特征在于,包括:

獲取模塊,用于獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo);

判斷模塊,用于判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值;

第一轉(zhuǎn)換模塊,用于當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí),根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo);

過濾模塊,用于過濾所述面板的像素坐標(biāo),得到過濾后像素坐標(biāo);

畫圖模塊,用于根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng),其特征在于,所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo),所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度,所述第一轉(zhuǎn)換模塊包括:

Xrs=Xc/(Xa-Xi)*(a-Xi)+w

Yrs=Y(jié)c-Yc/(Ya-Yi)*(b-Yi)+h

其中,(w,h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo),坐標(biāo)系的寬為Xc,高為Yc,坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi,最大刻度為Xa,縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi,最大刻度為Ya,(a,b)為坐標(biāo)系內(nèi)的任一原始數(shù)據(jù)坐標(biāo),(Xrs,Yrs)為轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng),其特征在于,所述過濾模塊包括:

第一過濾單元,用于以任一像素坐標(biāo)為圓心,以預(yù)設(shè)長(zhǎng)度為半徑為圓,分別判斷所述面板中其余任一像素坐標(biāo)是否在對(duì)應(yīng)圓內(nèi),具體為:

(x-x0)*(x-x0)+(y-y0)*(y-y0)<=r*r

其中,(x0,y0)為任一像素坐標(biāo),即圓心,r為半徑,(x,y)為其余任一像素坐標(biāo);

若所述其余任一像素坐標(biāo)在所述圓內(nèi),則過濾所述其余任一像素坐標(biāo),得到過濾后像素坐標(biāo);或

所述過濾模塊包括:

第二過濾單元,用于對(duì)于所述面板的像素坐標(biāo)取整或者保留預(yù)設(shè)位小數(shù)進(jìn)行過濾,得到過濾后像素坐標(biāo)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng),其特征在于,所述畫圖模塊還包括:

第二轉(zhuǎn)換單元,用于根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述過濾后像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo);

畫圖單元,用于根據(jù)所述數(shù)據(jù)坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng),其特征在于,所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo),所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度,所述第二轉(zhuǎn)換單元包括:

A=(Xrs’-w)*(Xa-Xi)/Xc+Xi

B=(Yc+h–Yrs’)*(Ya-Yi)/Yc+Yi

其中,(w,h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo),坐標(biāo)系的寬為Xc,高為Yc,坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi,最大刻度為Xa,縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi,最大刻度為Ya,(Xrs’,Yrs’)為面板內(nèi)過濾后的任一像素坐標(biāo),(A,B)為轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)系的數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

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