本發(fā)明涉及散點(diǎn)畫圖領(lǐng)域，特別是涉及一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

隨著數(shù)字PCR的發(fā)展，軟件方面數(shù)據(jù)處理也呈現(xiàn)指數(shù)增長(zhǎng)，由幾十萬增長(zhǎng)到幾千萬的數(shù)據(jù)。一般在畫散點(diǎn)圖時(shí)，少則幾十萬的數(shù)據(jù)點(diǎn)，多則上千萬個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)，使用傳統(tǒng)的畫散點(diǎn)圖的方法，軟件很容易出現(xiàn)卡頓的現(xiàn)象，甚至宕機(jī)，并且當(dāng)數(shù)據(jù)大量增加時(shí)，畫出來的散點(diǎn)圖效果用肉眼無法區(qū)分，因此，傳統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法畫圖清晰度低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，有必要針對(duì)上述問題，提供一種畫圖清晰度高的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法和系統(tǒng)。

一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，包括以下步驟：

獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)；

判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值；

當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)；

過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后的像素坐標(biāo)；

根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng)，包括：

獲取模塊，用于獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)；

判斷模塊，用于判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值；

第一轉(zhuǎn)換模塊，用于當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)；

過濾模塊，用于過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)；

畫圖模塊，用于根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

上述實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法和系統(tǒng)，在坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，將坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)，并過濾掉近似相等的像素坐標(biāo)，精簡(jiǎn)數(shù)據(jù)數(shù)量，最后根據(jù)過濾后的像素坐標(biāo)畫圖，得出的圖像不會(huì)失真，清晰度高。

附圖說明

圖1為一實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法流程圖；

圖2為一實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，包括以下步驟：

步驟S110：獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

具體地，坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬、坐標(biāo)系的高、坐標(biāo)系橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和坐標(biāo)系縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度。

步驟S120：判斷坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值。

具體地，依據(jù)使用不經(jīng)過數(shù)據(jù)過濾直接畫圖時(shí)，出現(xiàn)操作圖形卡頓現(xiàn)象，根據(jù)目前的測(cè)試，數(shù)據(jù)量大于100萬時(shí)，為數(shù)據(jù)量大，因此，在本實(shí)施例中，預(yù)設(shè)閾值為100萬。

步驟S130：當(dāng)坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

具體地，步驟S130包括：

Xrs＝Xc/(Xa-Xi)*(a-Xi)+w

Yrs＝Y(jié)c-Yc/(Ya-Yi)*(b-Yi)+h

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(a，b)為坐標(biāo)系內(nèi)的任一原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)，(Xrs，Yrs)為轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

步驟S140：過濾面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后的像素坐標(biāo)。具體地，步驟S140包括：以任一像素坐標(biāo)為圓心，以預(yù)設(shè)長(zhǎng)度為半徑為圓，分別判斷面板中其余任一像素坐標(biāo)是否在對(duì)應(yīng)圓內(nèi)，具體為：

(x-x0)*(x-x0)+(y-y0)*(y-y0)<＝r*r

其中，(x0，y0)為任一像素坐標(biāo)，即圓心，r為半徑，(x，y)為其余任一像素坐標(biāo)。

若其余任一像素坐標(biāo)在圓內(nèi)，則過濾其余任一像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)，即在同一個(gè)圓的范圍內(nèi)歸為同一點(diǎn)。對(duì)于已經(jīng)屬于某個(gè)圓范圍內(nèi)的點(diǎn)不再重復(fù)計(jì)算，即一個(gè)點(diǎn)只屬于一個(gè)圓的范圍。

或步驟S140包括：對(duì)于面板的像素坐標(biāo)取整或者保留預(yù)設(shè)位小數(shù)進(jìn)行過濾，得到過濾后像素坐標(biāo)。

具體地，對(duì)于某個(gè)點(diǎn)(x，y)，只采取取整或者保留若干位小數(shù)的方法。取整，即a＝(int)x，b＝(int)y，變換后為點(diǎn)(a，b)，假設(shè)x＝3.14171635，y＝1.71376843，保留兩位小數(shù)，即變?yōu)?3.14，1.71)，變換后坐標(biāo)一致的為一個(gè)點(diǎn)，有效精簡(jiǎn)數(shù)據(jù)。

步驟S150：根據(jù)過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在面板顯示。在本實(shí)施例中，步驟S150包括步驟152和步驟154。

步驟152：坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度，根據(jù)坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將過濾后的像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo)。具體地，步驟152包括：

A＝(Xrs’-w)*(Xa-Xi)/Xc+Xi

B＝(Yc+h–Yrs’)*(Ya-Yi)/Yc+Yi

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(Xrs’，Yrs’)為面板內(nèi)過濾后的任一像素坐標(biāo)，(A，B)為轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)系的數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

步驟154：根據(jù)數(shù)據(jù)坐標(biāo)畫圖并在面板顯示。

上述實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，在坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，將坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)，并過濾掉近似相等的像素坐標(biāo)，精簡(jiǎn)數(shù)據(jù)數(shù)量，最后根據(jù)過濾后的像素坐標(biāo)畫圖，實(shí)現(xiàn)數(shù)字PCR軟件中一維和二維散點(diǎn)圖畫圖功能，得出的圖像不會(huì)失真，清晰度高。

在一個(gè)實(shí)施例中，如圖2所示，一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng)，包括獲取模塊110、判斷模塊120、第一轉(zhuǎn)換模塊130、過濾模塊140和畫圖模塊150，獲取模塊110連接判斷模塊120，判斷模塊120連接第一轉(zhuǎn)換模塊130，第一轉(zhuǎn)換模塊130連接過濾模塊140，過濾模塊140連接畫圖模塊150。

在一個(gè)實(shí)施例中，獲取模塊110用于獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

具體地，坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬、坐標(biāo)系的高、坐標(biāo)系橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和坐標(biāo)系縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度。

在一個(gè)實(shí)施例中，判斷模塊120用于判斷坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值。

具體地，依據(jù)使用不經(jīng)過數(shù)據(jù)過濾直接畫圖時(shí)，出現(xiàn)操作圖形卡頓現(xiàn)象，根據(jù)目前的測(cè)試，數(shù)據(jù)量大于100萬時(shí)，為數(shù)據(jù)量大，因此，在本實(shí)施例中，預(yù)設(shè)閾值為100萬。

在一個(gè)實(shí)施例中，第一轉(zhuǎn)換模塊130用于當(dāng)坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

具體地，坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度，第一轉(zhuǎn)換模塊130包括：

Xrs＝Xc/(Xa-Xi)*(a-Xi)+w

Yrs＝Y(jié)c-Yc/(Ya-Yi)*(b-Yi)+h

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(a，b)為坐標(biāo)系內(nèi)的任一原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)，(Xrs，Yrs)為轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

在一個(gè)實(shí)施例中，過濾模塊140用于過濾面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)。過濾模塊140包括第一過濾單元或第二過濾單元。

具體地，第一過濾單元用于以任一像素坐標(biāo)為圓心，以預(yù)設(shè)長(zhǎng)度為半徑為圓，分別判斷面板中其余任一像素坐標(biāo)是否在對(duì)應(yīng)圓內(nèi)，具體為：

(x-x0)*(x-x0)+(y-y0)*(y-y0)<＝r*r

其中，(x0，y0)為任一像素坐標(biāo)，即圓心，r為半徑，(x，y)為其余任一像素坐標(biāo)。

若其余任一像素坐標(biāo)在圓內(nèi)，則過濾其余任一像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)。

第二過濾單元用于對(duì)于面板的像素坐標(biāo)取整或者保留預(yù)設(shè)位小數(shù)進(jìn)行過濾，得到過濾后像素坐標(biāo)。

在一個(gè)實(shí)施例中，畫圖模塊150用于根據(jù)過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在面板顯示。畫圖模塊150包括第二轉(zhuǎn)換單元和畫圖單元。

坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度，第二轉(zhuǎn)換單元用于根據(jù)坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將過濾后像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo)。具體地，第二轉(zhuǎn)換單元包括：

A＝(Xrs’-w)*(Xa-Xi)/Xc+Xi

B＝(Yc+h–Yrs’)*(Ya-Yi)/Yc+Yi

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(Xrs’，Yrs’)為面板內(nèi)過濾后的任一像素坐標(biāo)，(A，B)為轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)系的數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

上述實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng)，在坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，將坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)，并過濾掉近似相等的像素坐標(biāo)，精簡(jiǎn)數(shù)據(jù)數(shù)量，最后根據(jù)過濾后的像素坐標(biāo)畫圖，得出的圖像不會(huì)失真，清晰度高。

以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡(jiǎn)潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。