本實(shí)用新型涉及成像領(lǐng)域，具體而言，涉及一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

醫(yī)藥、化學(xué)、食品、無(wú)機(jī)有機(jī)材料、納米材料、能源、日用品、食品、環(huán)保等領(lǐng)域，許多產(chǎn)品或產(chǎn)品的中間產(chǎn)物都以顆粒的形式存在。固體顆粒的形狀和尺寸是顆粒的最重要特性參數(shù)，原因在于它們會(huì)影響產(chǎn)品的流動(dòng)性等加工參數(shù)(例如影響過(guò)濾機(jī)的操作)、溶解度及醫(yī)藥產(chǎn)品的藥性。因此，對(duì)固體顆粒生長(zhǎng)過(guò)程中的形狀、尺寸、長(zhǎng)徑比、曲率等特性參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)對(duì)于進(jìn)一步控制和優(yōu)化固體顆粒的制備工藝非常重要?，F(xiàn)有的監(jiān)測(cè)方法為通過(guò)成像系統(tǒng)獲取待測(cè)樣品的二維圖像，根據(jù)所獲取到的二維圖像得到待測(cè)樣品特性參數(shù)。然而，二維圖像不利于反映待測(cè)樣品的形貌、尺寸特征，如對(duì)于棒狀晶體，其二維投影的長(zhǎng)度往往會(huì)比真實(shí)的尺寸要短，導(dǎo)致所得到的待測(cè)樣品特性參數(shù)的可靠性較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于此，本實(shí)用新型的目的在于提供一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)，能夠檢測(cè)當(dāng)前時(shí)刻晶體顆粒的三維結(jié)構(gòu)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)，包括第一支撐臺(tái)、第二支撐臺(tái)、光源模塊、光源控制器、用于對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行多視角拍攝的至少三個(gè)成像裝置及用于顯示并處理所述成像裝置所拍攝圖像的計(jì)算機(jī)，所述成像裝置和所述光源控制器均與所述計(jì)算機(jī)耦合，所述光源模塊與所述光源控制器耦合，所述成像裝置設(shè)置在所述第一支撐臺(tái)上，所述光源模塊設(shè)置在所述第二支撐臺(tái)上，所述光源模塊發(fā)出的光束照射到所述待測(cè)樣品，所述待測(cè)樣品反射或透射的光束入射到所述成像裝置中成像。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述第一支撐臺(tái)包括多個(gè)以所述第一支撐臺(tái)的中心旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)分布的第一支撐架，所述第一支撐架的數(shù)量與所述成像裝置的數(shù)量相同，每一個(gè)所述第一支撐架上均設(shè)置有第一導(dǎo)軌，一個(gè)所述成像裝置設(shè)置在一個(gè)所述第一導(dǎo)軌上。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述每一個(gè)所述第一支撐架上均設(shè)置有第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于調(diào)節(jié)所述成像裝置與所述第一支撐臺(tái)的中心軸之間的角度。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述成像裝置的數(shù)量為三個(gè)，相鄰兩個(gè)所述第一支撐架之間的夾角為120度。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述光源模塊有多個(gè)，所述第二支撐臺(tái)包括多個(gè)以所述第二支撐臺(tái)的中心旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)分布的第二支撐架，所述第二支撐架的數(shù)量與所述光源模塊的數(shù)量相同，每一個(gè)所述第二支撐架上均設(shè)置有第二導(dǎo)軌，一個(gè)所述光源模塊設(shè)置在一個(gè)所述第二導(dǎo)軌上。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述每一個(gè)所述第二支撐架上均設(shè)置有第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于調(diào)節(jié)所述光源模塊發(fā)出的光束與所述第二支撐臺(tái)的中心軸之間的角度。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述成像系統(tǒng)還包括用于在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)所述第一支撐臺(tái)位置的第一微調(diào)平臺(tái)和用于在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)所述第二支撐臺(tái)位置的第二微調(diào)平臺(tái)，所述第一支撐臺(tái)設(shè)置于所述第一微調(diào)平臺(tái)上，所述第二支撐臺(tái)設(shè)置于所述第二微調(diào)平臺(tái)上。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述成像系統(tǒng)還包括用于在第二預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)所述第一支撐臺(tái)位置的第一機(jī)械手臂和用于在第二預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)所述第二支撐臺(tái)位置的第二機(jī)械手臂，所述第一微調(diào)平臺(tái)與所述第一機(jī)械手臂連接，所述第二微調(diào)平臺(tái)與所述第二機(jī)械手臂連接。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述光源模塊為點(diǎn)光源模塊或面光源模塊。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述成像裝置包括鏡頭，所述鏡頭為非同軸鏡頭。

本實(shí)用新型提供的晶體顆粒三維成像系統(tǒng)，通過(guò)至少三個(gè)成像裝置對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行多視角拍攝，以獲得同一時(shí)刻待測(cè)樣品的至少三個(gè)圖像。其中，待測(cè)樣品為晶體顆粒，上述至少三個(gè)圖像分別為晶體顆粒不同視角上的圖像。進(jìn)一步，通過(guò)計(jì)算機(jī)可以顯示上述圖像，并對(duì)上述至少三個(gè)圖像進(jìn)行處理以實(shí)現(xiàn)晶體顆粒的三維重建，得到晶體顆粒的三維結(jié)構(gòu)。由此，可以進(jìn)一步得到晶體顆粒的形狀、尺寸等特性參數(shù)。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本實(shí)用新型的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)中成像裝置的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)中光源模塊的安裝結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，附圖標(biāo)記分別為：

第一支撐臺(tái)111；第二支撐臺(tái)112；成像裝置120；光源模塊130；光源控制器140；計(jì)算機(jī)150；第一微調(diào)平臺(tái)161；第二微調(diào)平臺(tái)162；第一機(jī)械手臂171；第二機(jī)械手臂172；結(jié)晶器180；晶體顆粒190；第一支撐架210；第一導(dǎo)軌211；第一鎖緊件212；第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220；第一限位件221；第一滑槽222；第二支撐架310；第二導(dǎo)軌311；第二鎖緊件312；第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320；第二限位件321；第二滑槽322。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實(shí)用新型實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來(lái)布置和設(shè)計(jì)。

因此，以下對(duì)在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類(lèi)似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，或者是該實(shí)用新型產(chǎn)品使用時(shí)慣常擺放的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等僅用于區(qū)分描述，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

在本實(shí)用新型的描述中，還需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“設(shè)置”、“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。

本實(shí)施例提供了一種晶體顆粒三維成像系統(tǒng)，如圖1所示，所述成像系統(tǒng)包括第一支撐臺(tái)111、第二支撐臺(tái)112、光源模塊130、光源控制器140、計(jì)算機(jī)150及至少三個(gè)成像裝置120。上述至少三個(gè)成像裝置120及光源控制器140均與計(jì)算機(jī)150耦合，光源模塊130與光源控制器140耦合，成像裝置120設(shè)置在第一支撐臺(tái)111上，光源模塊130設(shè)置在所述第二支撐臺(tái)112上。

通常情況下，成像裝置120和光源模塊130相對(duì)設(shè)置，即成像裝置120設(shè)置在待測(cè)樣品的一側(cè)，光源模塊130設(shè)置在待測(cè)樣品的另一側(cè)，如圖1所示。當(dāng)然，除了上述布置方式以外，成像裝置120和光源模塊130也可以對(duì)稱(chēng)設(shè)置在待測(cè)樣品的同一側(cè)且呈銳角設(shè)置。

其中，光源控制器140用于控制光源模塊130的發(fā)光強(qiáng)度及光源模塊130的開(kāi)關(guān)。光源模塊130在光源控制器140的控制下發(fā)出的光束照射到待測(cè)樣品，待測(cè)樣品反射或透射的光束入射到成像裝置120中成像。本實(shí)施例中，待測(cè)樣品為晶體顆粒190。當(dāng)然，待測(cè)樣品除了是晶體顆粒外，也可以是其它微小固體顆粒，例如微米級(jí)的固體顆粒。需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型提供的晶體顆粒三維成像系統(tǒng)為外置式成像儀，如圖1所示，本系統(tǒng)設(shè)置在形成有晶體顆粒190的結(jié)晶器180外，相比于探頭式的成像系統(tǒng)，一方面可以有效地避免物料粘連在成像裝置120的鏡頭表面影響測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性，另一方面也可以避免對(duì)待測(cè)樣品造成污染。

成像裝置120用于對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行多視角拍攝，獲取當(dāng)前時(shí)刻該待測(cè)樣品的多個(gè)圖像，所述多個(gè)圖像分別對(duì)應(yīng)于該待測(cè)樣品的不同視角。本實(shí)施例中，成像裝置120可以包括相互連接的相機(jī)和鏡頭。其中，鏡頭可以為同軸鏡頭和非同軸鏡頭。為了實(shí)現(xiàn)良好的成像效果，所述鏡頭優(yōu)選為非同軸鏡頭。

計(jì)算機(jī)150用于根據(jù)當(dāng)前時(shí)刻成像裝置120發(fā)送的多個(gè)圖像進(jìn)行三維重建，得到當(dāng)前時(shí)刻該待測(cè)樣品的三維結(jié)構(gòu)。需要說(shuō)明的是，上述多個(gè)圖像的具體數(shù)量大于或等于三。此外，計(jì)算機(jī)150還包括顯示器，用于顯示上述成像裝置120所拍攝圖像，以及處理得到的當(dāng)前時(shí)刻該待測(cè)樣品的三維結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，計(jì)算機(jī)150還可以存儲(chǔ)當(dāng)前時(shí)刻上述成像裝置120所拍攝圖像以及得到的三維結(jié)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn)不同時(shí)刻該待測(cè)樣品形貌及三維結(jié)構(gòu)的監(jiān)測(cè)。

具體的，如圖2所示，上述第一支撐臺(tái)111包括多個(gè)第一支撐架210。優(yōu)選的，多個(gè)第一支撐架210成旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)分布，且多個(gè)第一支撐架210的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)中心為第一支撐臺(tái)111的中心點(diǎn)。當(dāng)然，多個(gè)第一支撐架210也可以是其它的排布方式。第一支撐架210用于支撐成像裝置120。其中，第一支撐架210的數(shù)量與成像裝置120的數(shù)量相同。每一個(gè)第一支撐架210上均設(shè)置有第一導(dǎo)軌211，一個(gè)成像裝置120設(shè)置一個(gè)第一支撐架210上的第一導(dǎo)軌211上。此時(shí)，成像裝置120可以沿著導(dǎo)軌方向滑動(dòng)，從而調(diào)節(jié)成像裝置120在第一支撐架210上的位置。將本實(shí)施例提供的成像系統(tǒng)中的至少三個(gè)成像裝置安裝在以第一支撐臺(tái)111的中心對(duì)稱(chēng)分布的第一支撐架210上，可以有效地避免出現(xiàn)拍攝盲區(qū)。

例如，如圖2所示，成像裝置120可以通過(guò)第一鎖緊件212與第一導(dǎo)軌211連接，當(dāng)?shù)谝绘i緊件212松開(kāi)時(shí)，成像裝置120可以在第一導(dǎo)軌211上自由滑動(dòng)；當(dāng)?shù)谝绘i緊件212鎖緊時(shí)，可以防止成像裝置120與第一導(dǎo)軌211的相對(duì)移動(dòng)。其中第一鎖緊件212可以是螺桿與螺母的配合組件，或者，也可以是螺栓。

進(jìn)一步的，每一個(gè)第一支撐架210上均設(shè)置有第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220。第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220用于調(diào)節(jié)成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的角度。本實(shí)施例中，成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的角度調(diào)節(jié)范圍可以為0度至90度。具體的，第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220可以包括第一限位件221和第一滑槽222，當(dāng)?shù)谝幌尬患?21處于自由狀態(tài)時(shí)，第一限位件221可以在第一滑槽222中移動(dòng)，從而將成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的角度調(diào)節(jié)到所需要的角度，當(dāng)?shù)谝幌尬患?21處于限位狀態(tài)時(shí)，可以固定成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的角度。例如，第一限位件221可以是螺桿與螺母的配合組件，或者，也可以是螺栓。當(dāng)然，第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220除了上述結(jié)構(gòu)外，也可以為其它能夠調(diào)節(jié)成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的角度的結(jié)構(gòu)。

需要說(shuō)明的是，考慮到圖像處理過(guò)程的計(jì)算量及處理時(shí)間，本實(shí)施例提供的成像系統(tǒng)優(yōu)選包括三個(gè)成像裝置120。相應(yīng)的，第一支撐架210也為三個(gè)，優(yōu)選的，三個(gè)第一支撐架210均勻分布，即相鄰兩個(gè)第一支撐架210之間的夾角為120度，有利于設(shè)置在第一支撐架210上的成像裝置120所拍攝的圖像能盡可能多的包含待測(cè)樣品的形貌特征。

本實(shí)施例中，光源模塊130可以為點(diǎn)光源模塊、面光源模塊或多個(gè)點(diǎn)光源模塊組成的陣列形式。例如，光源模塊130可以為發(fā)光二級(jí)管、激光光源等。為了提高成像裝置120獲取圖像的清晰度，上述光源模塊130可以有多個(gè)。如圖3所示，第二支撐臺(tái)112包括多個(gè)成旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)分布的第二支撐架310。多個(gè)第二支撐架310的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)中心為第二支撐臺(tái)112的中心點(diǎn)。第二支撐架310用于支撐光源模塊130。優(yōu)選的，相鄰兩個(gè)第二支撐架310之間的角度相等。其中，第二支撐架310的數(shù)量與光源模塊130的數(shù)量相同，每一個(gè)第二支撐架310上均設(shè)置有第二導(dǎo)軌311，一個(gè)光源模塊130設(shè)置在一個(gè)第二支撐架310的第二導(dǎo)軌311上。光源模塊130可以沿著第二導(dǎo)軌311的方向自由滑動(dòng)，從而調(diào)節(jié)光源模塊130在第二支撐架310上的位置。

如圖3所示，光源模塊130可以通過(guò)第二鎖緊件312與第二導(dǎo)軌311連接，當(dāng)?shù)诙i緊件312松開(kāi)時(shí)，光源模塊130可以在第二導(dǎo)軌311上自由滑動(dòng)；當(dāng)?shù)诙i緊件312鎖緊時(shí)，可以防止光源模塊130與第二導(dǎo)軌311的相對(duì)移動(dòng)。其中，第二鎖緊件312可以是螺桿與螺母的配合組件，或者，也可以是螺栓。

為了使得光源模塊130發(fā)出的光束能夠照射到待測(cè)樣品上，需要調(diào)節(jié)光源模塊130發(fā)出的光束與第二支撐臺(tái)112的中心軸之間的角度。具體的，上述每一個(gè)第二支撐架310上均設(shè)置有第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320。第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320用于調(diào)節(jié)光源模塊130發(fā)出的光束與第二支撐臺(tái)112的中心軸之間的角度。第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320也可以包括第二限位件321和第二滑槽322。當(dāng)?shù)诙i緊件312鎖緊，第二限位件321松開(kāi)時(shí)，第二限位件321可以在第二滑槽322中移動(dòng)，從而調(diào)節(jié)光源模塊130的傾斜角，以將光源模塊130發(fā)出的光束與第二支撐臺(tái)112的中心軸之間的角度調(diào)節(jié)到所需要的角度。當(dāng)?shù)诙尬患?21處于限位狀態(tài)時(shí)，可以固定光源模塊130的傾斜角。其中，第二限位件321可以是螺桿與螺母的配合組件，或者，也可以是螺栓。當(dāng)然，第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320除了上述結(jié)構(gòu)外，也可以為其它能夠調(diào)節(jié)光源模塊130發(fā)出的光束與第二支撐臺(tái)112的中心軸之間的角度的結(jié)構(gòu)。

此外，為了進(jìn)一步調(diào)節(jié)成像裝置120及光源模塊130與待測(cè)樣品之間的相對(duì)位置，以保證得到高質(zhì)量的圖像，本實(shí)施例提供的晶體顆粒三維成像系統(tǒng)還包括第一機(jī)械手臂171、第二機(jī)械手臂172、第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162。第一支撐臺(tái)111設(shè)置于第一微調(diào)平臺(tái)161上，第一微調(diào)平臺(tái)161與第一機(jī)械手臂171連接。第二支撐臺(tái)112設(shè)置于第二微調(diào)平臺(tái)162上，第二微調(diào)平臺(tái)162與第二機(jī)械手臂172連接。第一機(jī)械手臂171、第二機(jī)械手臂172、第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162可以用于輔助調(diào)節(jié)成像裝置120和光源模塊130的相對(duì)角度和距離。

第一微調(diào)平臺(tái)161用于在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)第一支撐臺(tái)111的位置，通過(guò)調(diào)節(jié)第一支撐臺(tái)111的位置來(lái)調(diào)節(jié)成像裝置120的位置。第二微調(diào)平臺(tái)162用于在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)第二支撐臺(tái)112的位置，通過(guò)調(diào)節(jié)第二支撐臺(tái)112的位置來(lái)調(diào)節(jié)光源模塊130的位置。其中，第一預(yù)設(shè)范圍由具體采用的微調(diào)平臺(tái)的調(diào)節(jié)范圍決定。本實(shí)施例中，第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162優(yōu)選為三維微調(diào)平臺(tái)。需要說(shuō)明的是，第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162可以是手動(dòng)微調(diào)平臺(tái)，也可以是電動(dòng)微調(diào)平臺(tái)。通過(guò)第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162可以實(shí)現(xiàn)成像裝置120和光源模塊130的位置的精細(xì)調(diào)節(jié)，具體的調(diào)節(jié)精度即為微調(diào)平臺(tái)的調(diào)節(jié)精度。

第一機(jī)械手臂171用于在第二預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)第一支撐臺(tái)111的位置，從而調(diào)節(jié)成像裝置120的位置。第二機(jī)械手臂172用于在第二預(yù)設(shè)范圍內(nèi)調(diào)節(jié)第二支撐臺(tái)112的位置，從而調(diào)節(jié)光源模塊130的位置。其中，第二預(yù)設(shè)范圍由具體所采用的機(jī)械手臂的調(diào)節(jié)范圍決定。機(jī)械手臂根據(jù)結(jié)構(gòu)形式的不同可以分為多關(guān)節(jié)機(jī)械手臂，直角坐標(biāo)系機(jī)械手臂，球坐標(biāo)系機(jī)械手臂，極坐標(biāo)機(jī)械手臂，柱坐標(biāo)機(jī)械手臂等。通過(guò)機(jī)械手臂可以實(shí)現(xiàn)六個(gè)自由度的調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)靈活，范圍較大。

使用本晶體顆粒三維成像系統(tǒng)時(shí)，可以通過(guò)第一機(jī)械手臂171、第二機(jī)械手臂172、第一微調(diào)平臺(tái)161和第二微調(diào)平臺(tái)162將成像裝置120和光源模塊130調(diào)節(jié)到需要的位置處。再通過(guò)調(diào)節(jié)成像裝置120在第一導(dǎo)軌211上的位置，調(diào)節(jié)光源模塊130在第二導(dǎo)軌311上的位置，調(diào)節(jié)第一角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)220和第二角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)320精細(xì)調(diào)節(jié)成像裝置120和光源模塊130的相對(duì)角度和位置。為了確保當(dāng)前時(shí)刻三個(gè)成像裝置120所拍攝的圖像為同一待測(cè)樣品在不同視角上的圖像，優(yōu)選的，每一個(gè)成像裝置120與第一支撐臺(tái)111的中心點(diǎn)的之間的距離一致，且每一個(gè)成像裝置120的鏡頭與第一支撐臺(tái)111的中心軸之間的夾角一致。

綜上所述，本實(shí)用新型提供的晶體顆粒三維成像系統(tǒng)，通過(guò)至少三個(gè)成像裝置120對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行多視角拍攝，以獲得同一時(shí)刻待測(cè)樣品的至少三個(gè)圖像，其中，上述至少三個(gè)圖像分別為待測(cè)樣品不同視角上的圖像。進(jìn)一步，通過(guò)計(jì)算機(jī)150可以顯示上述圖像，并對(duì)上述至少三個(gè)圖像進(jìn)行處理以實(shí)現(xiàn)該待測(cè)樣品的三維重建，得到待測(cè)樣品的三維結(jié)構(gòu)。由此，可以進(jìn)一步得到所檢測(cè)的晶體顆粒的形狀、尺寸等特性參數(shù)。另外，設(shè)計(jì)至少三個(gè)成像裝置120且將至少三個(gè)成像裝置120分別安裝在以第一支撐臺(tái)111的中心對(duì)稱(chēng)分布的第一支撐架210上，進(jìn)一步通過(guò)調(diào)節(jié)每一個(gè)成像裝置的位置和角度可以有效地避免存在拍攝盲區(qū)的問(wèn)題，有利于更準(zhǔn)確地獲取所檢測(cè)的晶體顆粒的三維結(jié)構(gòu)。根據(jù)晶體顆粒的三維結(jié)構(gòu)可以更準(zhǔn)確地得到晶體顆粒的形貌、尺寸等特征。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。