本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種將觸控層集成在封裝層表面并在觸控層制程中保護(hù)顯示層和封裝層免受損害的顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù):
觸摸屏作為一種輸入媒介,是目前最為簡(jiǎn)單、方便、自然的一種人機(jī)交互方式。在顯示裝置上集成觸控功能,已經(jīng)成為越來(lái)越多顯示器廠商的研發(fā)熱點(diǎn)。同時(shí),隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展,具有觸控屏的柔性顯示裝置的需求日益增長(zhǎng)。柔性顯示裝置是由柔軟的材料制成,可變形可彎曲的裝置?,F(xiàn)有技術(shù)中的柔性顯示裝置一般采用OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)技術(shù),這種技術(shù)具有低功耗、體積小、輕便、顯示方式多樣等優(yōu)勢(shì),因此被廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品。
現(xiàn)有技術(shù)中的柔性顯示的觸控方案大多采用外掛或是集成在外部輔助膜內(nèi)的方式,大體上分為以下幾個(gè)方案:
1、將觸控層貼合于顯示面板表面的方式,這種方式往往不能實(shí)現(xiàn)柔性顯示薄化;
2、將觸控層集成在阻擋層(Barrier film)、偏光片或蓋板(Cover lens)上,這種方式雖然可以在一定程度上減薄柔性顯示產(chǎn)品,但要將觸控層集成在阻擋層、偏光片或蓋板上同時(shí)對(duì)制作阻擋層、偏光片或蓋板上提出更高的要求。
如圖1所示,為現(xiàn)有技術(shù)中一種具有觸控層的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中A1’-A2’方向的截面圖。圖中的顯示面板包括在圖中z方向從下至上的基板1’、顯示層2’、薄膜封裝層3’、偏光片5’和觸控層4’。其中,觸控層4’可以貼合于該偏光片5’的表面上,這樣會(huì)導(dǎo)致顯示面板的厚度較厚,無(wú)法滿足柔性顯示的需求。觸控層4’也可以集成于偏光片5’上,即以偏光片5’為襯底制備觸控層4’,從而減少觸控層4’襯底的厚度,但是如上所述,會(huì)對(duì)偏光片的制作提出更高的要求。
此處圖1和圖2給出的是現(xiàn)有技術(shù)中一種顯示面板的示例。同樣地,現(xiàn)有其他的一些顯示面板的結(jié)構(gòu),均未實(shí)質(zhì)性解決現(xiàn)有技術(shù)中顯示面板過(guò)厚或生產(chǎn)工藝要求高的技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種顯示面板,減小顯示面板的厚度,提高顯示面板的耐彎折性能,且在觸控層制程中保護(hù)顯示面板原有功能層免受損害。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示面板,包括:
基板;
顯示層,位于該基板的一側(cè);
封裝層,位于該顯示層背離該基板的一側(cè);
觸控層,位于該封裝層背離該顯示層的一側(cè);
隔離層,位于該封裝層的內(nèi)部,和/或位于該封裝層與該觸控層之間。
可選地,該隔離層包括導(dǎo)熱層,該導(dǎo)熱層位于該封裝層的內(nèi)部,或位于該封裝層與該觸控層之間。
可選地,該導(dǎo)熱層為納米半導(dǎo)體隔熱涂層。
可選地,該納米半導(dǎo)體隔熱涂層的材料包括納米氧化物。
可選地,該納米氧化物包括氧化銦錫、氧化錫銻、氧化鋅、氧化鋁或氧化鈦中的至少一種。
可選地,該納米半導(dǎo)體隔熱涂層的材料還包括樹脂,該納米氧化物分散于該樹脂中。
可選地,該導(dǎo)熱層的導(dǎo)熱系數(shù)為100~1000W/(m·K)。
可選地,該封裝層至少包括第一薄膜層和第二薄膜層,該導(dǎo)熱層位于該第一薄膜層與該第二薄膜層之間。
可選地,該導(dǎo)熱層的厚度為100nm~20um。
可選地,該導(dǎo)熱層可透過(guò)波長(zhǎng)為365nm~800nm的光,對(duì)波長(zhǎng)小于365nm的光進(jìn)行吸收,并對(duì)波長(zhǎng)為800nm~2500nm的光進(jìn)行反射。
可選地,該隔離層包括耐酸堿腐蝕層,該耐酸堿腐蝕層位于該觸控層與該封裝層之間。
可選地,該耐酸堿腐蝕層對(duì)硫酸、硝酸、草酸、醋酸溶液、氫氧化鉀溶液和氫氧化鈉溶液均具有耐腐蝕性。
可選地,該耐酸堿腐蝕層的材料包括有機(jī)材料或無(wú)機(jī)材料。
可選地,該有機(jī)材料為聚四氟乙烯或聚偏氟乙烯,該無(wú)機(jī)材料為二氧化鈦或二氧化鋯。
可選地,該耐酸堿腐蝕層的厚度為100nm~20um。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置,包括上述的顯示面板。
本發(fā)明所提供的顯示面板及顯示裝置具有下列優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明提供了一種將觸控層集成在封裝層表面的技術(shù)方案,在封裝層的內(nèi)部,和/或封裝層和觸控層之間設(shè)置隔離層,防止觸控層制程中高溫和/或腐蝕液對(duì)顯示層的損害;從而可以在保障顯示面板的顯示和觸控性能的基礎(chǔ)上減小顯示面板的厚度,提高顯示面板的耐彎折性能,更適用于柔性顯示裝置。
附圖說(shuō)明
通過(guò)閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述,本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中具有觸控層的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是圖1的A1’-A2’方向的截面圖;
圖3是本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是圖3的A1-A2方向的截面圖。
圖5是本發(fā)明另一實(shí)施例的顯示面板的截面圖。
圖6是本發(fā)明的顯示面板中導(dǎo)熱層一種設(shè)置方式的示意圖;
圖7是本發(fā)明的顯示面板中導(dǎo)熱層另一種設(shè)置方式的示意圖;
圖8是本發(fā)明的顯示面板中耐酸堿腐蝕層一種設(shè)置方式的示意圖;
圖9是本發(fā)明的顯示面板中同時(shí)設(shè)置導(dǎo)熱層和耐酸堿腐蝕層的一種實(shí)施方式的示意圖;
圖10是本發(fā)明的顯示面板中同時(shí)設(shè)置導(dǎo)熱層和耐酸堿腐蝕層的另一種實(shí)施方式的示意圖;
圖11是本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板的制備方法的流程圖;
圖12是本發(fā)明另一實(shí)施例的顯示面板的制備方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實(shí)施方式。然而,示例實(shí)施方式能夠以多種形式實(shí)施,且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的實(shí)施方式;相反,提供這些實(shí)施方式使得本發(fā)明將全面和完整,并將示例實(shí)施方式的構(gòu)思全面地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。在圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的結(jié)構(gòu),因而將省略對(duì)它們的重復(fù)描述。
如圖3所示,為本發(fā)明一實(shí)施例的顯示面板的示意圖,如圖4所示,為圖3的A1-A2方向的截面圖。其中包括在圖中z方向從下至上的基板1、顯示層2、封裝層3和觸控層4。本發(fā)明中將觸控層4集成在封裝層3背離基板1的表面,這種方式可以減薄顯示面板而提高耐彎折性能。而考慮到在封裝層3的表面制作觸控層4時(shí)所采用的各種工藝手段可能會(huì)對(duì)原有功能層造成的損害,在封裝層3和觸控層4之間還可以設(shè)置有一隔離層5。
進(jìn)一步地,如圖5所示,本發(fā)明的隔離層5還可以設(shè)置在封裝層3的內(nèi)部。封裝層3可以包括至少兩個(gè)層級(jí)31,32,將隔離層5設(shè)置在這兩個(gè)層級(jí)31,32之間。當(dāng)封裝層3采用薄膜封裝層(TFE)時(shí),兩個(gè)層級(jí)31,32可以分別為第一薄膜層31和第二薄膜層32。
將觸控層4集成在封裝層3背離基板1的表面時(shí),觸控層4制程中可能對(duì)原有功能層產(chǎn)生的損害主要包括如下兩個(gè)方面:
(1)在封裝層3表面沉積觸控層4時(shí),一般會(huì)采用濺射方式,采用這種方式往往會(huì)伴隨著熱量的產(chǎn)生或者需要一定的高溫制程,而高溫會(huì)對(duì)顯示層2造成損害,尤其當(dāng)顯示層2采用OLED發(fā)光器件時(shí),OLED材料一般只能承受100°的溫度,在高溫下OLED材料的壽命會(huì)衰減;
(2)濕法制程中,采用的酸或堿的藥液很容易對(duì)封裝層3造成損害。
為了防止高溫對(duì)顯示層2的損害,隔離層5可以包括導(dǎo)熱層。
如圖6所示,為本發(fā)明的顯示面板中導(dǎo)熱層一種設(shè)置方式的示意圖。圖中的導(dǎo)熱層51位于封裝層3和觸控層4之間。
如圖7所示,為本發(fā)明的顯示面板中導(dǎo)熱層另一種設(shè)置方式的示意圖。其中導(dǎo)熱層51設(shè)置于封裝層3的內(nèi)部。封裝層3可以包括至少兩個(gè)層級(jí)31,32,將導(dǎo)熱層51設(shè)置在這兩個(gè)層級(jí)31,32之間。當(dāng)封裝層3采用薄膜封裝層時(shí),兩個(gè)層級(jí)31,32可以分別為第一薄膜層31和第二薄膜層32。
本發(fā)明所采用的導(dǎo)熱層51的導(dǎo)熱系數(shù)優(yōu)選為100~1000W/(m·K)。且導(dǎo)熱層51優(yōu)選可透過(guò)365nm~800nm的光,對(duì)波長(zhǎng)小于365nm的光進(jìn)行吸收,并對(duì)波長(zhǎng)為800nm~2500nm的光進(jìn)行反射,由于波長(zhǎng)為365nm~800nm的為可見(jiàn)光,因此導(dǎo)熱層51在吸收具有高能量的光的同時(shí)也不會(huì)影響顯示面板的顯示效果。
本發(fā)明所采用的導(dǎo)熱層51可以為透明納米半導(dǎo)體隔熱涂層,且該透明納米半導(dǎo)體隔熱涂層的材料優(yōu)選包括納米氧化物。隔熱原理:在太陽(yáng)光譜中,波長(zhǎng)在365nm~800nm的可光區(qū),其透過(guò)率不受影響;波長(zhǎng)在365nm之前的紫外線區(qū),其吸收率為90%;波長(zhǎng)在800~2500nm的近紅外區(qū)域,由于太陽(yáng)入射光的頻率高于納米氧化物的振動(dòng)頻率,引起了其離子的高反射,對(duì)分布于紅外波段占43%的太陽(yáng)能量起反射阻隔作用,從而表現(xiàn)出對(duì)太陽(yáng)光譜的選擇性。
該納米氧化物優(yōu)選包括氧化銦錫(ITO)、氧化錫銻(ATO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鋁(Al2O3)或氧化鈦(TiO2)中的至少一種。
納米氧化物制作方法:采用納米氧化物粉體,并將納米氧化物粉體與樹脂混合制成穩(wěn)定分散的溶劑型漿料,從而得到納米涂料,然后在通過(guò)涂層(coating)或是印刷的方式進(jìn)行涂布。
該導(dǎo)熱層51的厚度優(yōu)選為100nm~20um,該范圍值僅是一個(gè)綜合考慮了納米半導(dǎo)體隔熱涂層的導(dǎo)熱性能和顯示面板的整體厚度之后得到的一個(gè)優(yōu)選的設(shè)置范圍。具體地,導(dǎo)熱層51的厚度可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行選擇和調(diào)整,在該范圍之外取值也是可以的,例如需要更薄的顯示面板,進(jìn)一步減少導(dǎo)熱層51的厚度,均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
為了防止酸堿藥液對(duì)封裝層3的損害,隔離層5可以包括耐酸堿腐蝕層。
如圖8所示,為本發(fā)明的顯示面板中耐酸堿腐蝕層一種設(shè)置方式的示意圖。其中耐酸堿腐蝕層52設(shè)置于封裝層3和觸控層4之間,可以有效解決觸控層4形成過(guò)程中濕法制程在封裝層3表面的酸堿腐蝕問(wèn)題。
此酸堿腐蝕層52的材料可以是耐酸堿腐蝕的無(wú)機(jī)材料,氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZrO2)等,也可以是有機(jī)材料,聚四氟乙烯,聚偏氟乙烯等。具體地,酸堿腐蝕層52可以設(shè)置為至少一層無(wú)機(jī)材料層或至少一層有機(jī)材料層或至少一層無(wú)機(jī)材料層與至少一層有機(jī)材料層的組合。且耐酸堿腐蝕層52的厚度優(yōu)選為100nm~20um,同樣地,該厚度僅為一個(gè)綜合考慮了耐酸堿腐蝕要求和顯示面板的整體厚度之后得到的一個(gè)優(yōu)選的設(shè)置范圍。具體地,耐酸堿腐蝕層52的層數(shù)和厚度均可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行選擇和調(diào)整,在該范圍之外取值也是可以的,例如需要更薄的顯示面板,進(jìn)一步減少耐酸堿腐蝕層52的厚度,均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。耐酸堿腐蝕層52對(duì)硫酸、硝酸、草酸、醋酸溶液、氫氧化鉀溶液和氫氧化鈉溶液均具有耐腐蝕性。
進(jìn)一步地,為了達(dá)到更好的保護(hù)效果,該隔離層同時(shí)包括導(dǎo)熱層和耐酸堿腐蝕層,不僅對(duì)顯示層2起到高溫隔離,也對(duì)封裝層3起到酸堿隔離。
如圖9所示,為本發(fā)明顯示面板中隔離層同時(shí)包含導(dǎo)熱層和耐酸堿腐蝕層的一種實(shí)施方式的示意圖。其中在封裝層3和觸控層4之間不僅設(shè)置有導(dǎo)熱層51,還設(shè)置有耐酸堿腐蝕層52。導(dǎo)熱層51和耐酸堿腐蝕層52的設(shè)置順序可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行改變。此處,為了保護(hù)導(dǎo)熱層51不受酸堿藥液的腐蝕,優(yōu)選設(shè)置耐酸堿腐蝕層52在導(dǎo)熱層51的上方。
如圖10所示,為本發(fā)明的顯示面板中隔離層同時(shí)包含導(dǎo)熱層和耐酸堿腐蝕層的另一種實(shí)施方式的示意圖。顯示面板中也同時(shí)設(shè)置了導(dǎo)熱層51和耐酸堿腐蝕層52,與圖9的區(qū)別在于,導(dǎo)熱層51設(shè)置于封裝層3的內(nèi)部。同樣地,封裝層3可以包括至少兩個(gè)層級(jí)31,32,將導(dǎo)熱層51設(shè)置在這兩個(gè)層級(jí)31,32之間。當(dāng)封裝層3采用薄膜封裝層時(shí),兩個(gè)層級(jí)31,32可以分別為第一薄膜層31和第二薄膜層32。
另外,需要說(shuō)明的是,本發(fā)明中的封裝層3不限于采用薄膜封裝層,也可以采用現(xiàn)有技術(shù)中其他的封裝方式。薄膜封裝層一般可以采用多個(gè)薄膜層結(jié)合的結(jié)構(gòu),可以根據(jù)實(shí)際需要,在其中任一薄膜層形成之后,先在已形成的薄膜層之上通過(guò)涂層或印刷的方式覆蓋一層透明納米隔熱涂料,形成導(dǎo)熱層51,然后在導(dǎo)熱層51之上繼續(xù)沉積形成其他的薄膜層。
本發(fā)明還提供一種顯示裝置,包括上述的顯示面板,該顯示裝置包括上述的顯示面板。該顯示裝置可以是電腦顯示器、手機(jī)、平板電腦、電子相冊(cè)等廣泛應(yīng)用的顯示裝置。采用上述顯示面板的顯示裝置,可以滿足柔性顯示裝置不同程度的彎折需求,適用于更大規(guī)模的推廣應(yīng)用。由于現(xiàn)有技術(shù)中柔性顯示裝置多采用OLED顯示技術(shù),因此本發(fā)明的顯示層中的顯示器件優(yōu)選為OLED顯示器件,然而,本發(fā)明不限于此,采用其他類型的顯示器件也在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
如圖11所示,本發(fā)明一實(shí)施例提供一種顯示面板的制備方法,包括如下步驟:
提供一基板;
在基板的一側(cè)形成顯示層;
在顯示層背離基板的一側(cè)形成第一薄膜層;
在第一薄膜層背離顯示層的一側(cè)形成納米半導(dǎo)體隔熱涂層;
在納米半導(dǎo)體隔熱涂層背離該第一薄膜層的一側(cè)形成第二薄膜層,第一薄膜層與該第二薄膜層組成封裝層;
在封裝層背離該顯示層的一側(cè)形成觸控層。
需要說(shuō)明的是,此處納米半導(dǎo)體隔熱涂層形成于薄膜封裝層的內(nèi)部,該第一薄膜層和第二薄膜層只是對(duì)薄膜封裝層位于納米半導(dǎo)體隔熱涂層上方和下方兩部分的統(tǒng)稱,而不是特指該納米半導(dǎo)體隔熱涂層的上方或下方僅有一層,第一薄膜層和/或第二薄膜層可以分別包括多個(gè)不同的層級(jí),均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
進(jìn)一步地,形成封裝層之后,還優(yōu)選包括在封裝層背離顯示層的一側(cè)形成耐酸堿腐蝕層的過(guò)程,該觸控層形成于耐酸堿腐蝕層背離封裝層的一側(cè)。該耐酸堿腐蝕層的材料和結(jié)構(gòu),以及形成的納米半導(dǎo)體隔熱涂層和耐酸堿腐蝕層的功能均如上所述,在此不再贅述。
如圖12所示,本發(fā)明另一實(shí)施例還提供一種顯示面板的制備方法,包括如下步驟:
提供一基板;
在基板的一側(cè)形成顯示層;
在顯示層背離基板的一側(cè)形成封裝層;
在封裝層背離顯示層的一側(cè)形成納米半導(dǎo)體隔熱涂層;
在納米半導(dǎo)體隔熱涂層背離封裝層的一側(cè)形成觸控層。
進(jìn)一步地,形成納米半導(dǎo)體隔熱涂層之后,還可選包括在納米半導(dǎo)體隔熱涂層背離封裝層的一側(cè)形成耐酸堿腐蝕層的過(guò)程,該觸控層形成于耐酸堿腐蝕層背離納米半導(dǎo)體隔熱涂層的一側(cè)。耐酸堿腐蝕層的材料和結(jié)構(gòu),以及形成的納米半導(dǎo)體隔熱涂層和耐酸堿腐蝕層的功能均如上所述,在此不再贅述。
納米半導(dǎo)體隔熱涂層優(yōu)選根據(jù)如下方法制備:
將納米半導(dǎo)體材料的粉體與樹脂混合制成納米涂料;
將納米涂料涂布于封裝層背離顯示層的一側(cè);
對(duì)納米涂料進(jìn)行固化。
如上所述,納米半導(dǎo)體材料優(yōu)選為納米氧化物,且該納米氧化物優(yōu)選包括氧化銦錫、氧化錫銻、氧化鋅、氧化鋁或氧化鈦中的至少一種。形成的納米半導(dǎo)體隔熱涂層的特性和導(dǎo)熱原理如上所述,在此不再贅述。
綜上,本發(fā)明所提供的顯示面板及顯示裝置具有下列優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明提供了一種將觸控層集成在封裝層表面的技術(shù)方案,在封裝層的內(nèi)部,和/或封裝層和觸控層之間設(shè)置隔離層,防止觸控層制程中高溫和/或腐蝕液對(duì)顯示層的損害;從而可以在保障顯示面板的顯示和觸控性能的基礎(chǔ)上減小顯示面板的厚度,提高顯示面板的耐彎折性能,更適用于柔性顯示裝置。
以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換,都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。