本發(fā)明涉及一種觸控結(jié)構(gòu)及其應用，且特別是涉及一種具有導橋遮光層的觸控結(jié)構(gòu)及其應用。

背景技術(shù)：

隨著顯示科技的進步，目前觸控面板已經(jīng)廣泛應用于各顯示裝置。觸控面板提供使用者直覺式操作功能，使用者可以直接以手勢下達指令，也可直接點選畫面上的選項來下達指令。

以電容式觸控面板為例，其通常包括一基板與在該基板上沿第一軸向分布的第一感測電極和沿第二軸向分布的第二感測電極。兩相鄰第一感測電極之間以一導線連接。兩相鄰第二感測電極分別置于該導線的兩側(cè)邊，而以橫跨導線的橋接線(bridge)連接彼此，其中橋接線與導線之間彼此電性絕緣。由于，這些橋接線通常是由反射率偏高的金屬材料所制成。因此，當使用上述具有觸控功能的顯示裝置時，這些橋接線會反射從外界而來的光線，以至于觸控顯示裝置的熒幕可能會出現(xiàn)許多亮點，從而影響畫面品質(zhì)。

因此，仍有需要提供一種先進的觸控結(jié)構(gòu)及其應用，以改善現(xiàn)有技術(shù)所面臨的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個方面是有關(guān)于一種觸控結(jié)構(gòu)，包括：透光基板至少一個感測單元(touch sensing unit)，設于透光基板上，且此感測單元包括第一圖案化電極、第二圖案化電極導電架橋以及圖案化遮光層。第二圖案化電極被第一圖案化電極至少分隔成第一部分以及第二部分。導電架橋電連接第一部分和第二部分，并與第一圖案化電極在空間上彼此隔離(spatially insulated)。圖案化遮光層位于導電架橋與透光基板之間，且在透光基板的垂直投影方向上與導電架橋至少部分重疊。

本發(fā)明的另一個方面是有關(guān)于一種觸控顯示裝置，其包括先前所述的觸 控結(jié)構(gòu)以及位于觸控結(jié)構(gòu)的一側(cè)的顯示面板。

本發(fā)明的另一個方面是有關(guān)于一種圖案顯示結(jié)構(gòu)包括：具有圖案顯示表面的金屬層、感光遮光層以及位于感光遮光層上的覆蓋玻璃基板。感光遮光層位于金屬表面上，且具有多個開口將一部分金屬表面暴露于外，用于在感光遮光層中定義出多個顯示圖案以及位于顯示圖案中的多個遮光部，其中每一個遮光部的徑向尺寸實質(zhì)小于100微米(μm)。

根據(jù)上述，本發(fā)明的實施例是在提供一種觸控結(jié)構(gòu)以及應用該觸控結(jié)構(gòu)的觸控顯示裝置。其是利用在透光基板(玻璃覆蓋基板)的內(nèi)側(cè)表面與觸控感測電極的導電架橋之間提供一圖案化遮光層，使其與導電架橋至少部分重疊，來遮蔽穿過透光基板進入觸控結(jié)構(gòu)的外界光線，通過調(diào)整圖案化遮光層與導電架橋的重疊位置和重疊尺寸，來改善因?qū)щ娂軜蚍瓷渫饨绻饩€，而影響畫面品質(zhì)的問題。

附圖說明

圖1A至圖1E為本發(fā)明的一實施例所繪示的一系列形成觸控結(jié)構(gòu)100的制作工藝結(jié)構(gòu)局部區(qū)域的剖面示意圖；

圖2A為本發(fā)明的一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖2B為本發(fā)明的另一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖2C為本發(fā)明的再一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖3A為本發(fā)明的又一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖3B為圖3A的切線S3所繪示的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖；

圖4A為本發(fā)明的又另一實施例所繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖4B為沿著圖4A的切線S4所繪示的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖；

圖5為本發(fā)明的又一實施例所繪示的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖；

圖6為本發(fā)明的又另一實施例所繪示的觸控結(jié)構(gòu)的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖；

圖7A至圖7D為本發(fā)明的又一實施例所繪示的一系列形成觸控結(jié)構(gòu)的制作工藝結(jié)構(gòu)局部區(qū)域的剖面示意圖；

圖8為分別根據(jù)本發(fā)明的另一實施例繪示通過圖7A至圖7D所述方法制備而成的觸控顯示裝置的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖；

圖9為分別根據(jù)本發(fā)明的再一實施例繪示通過圖7A至圖7D所述方法制備而成的觸控顯示裝置的部分結(jié)構(gòu)剖視圖；

圖10為本發(fā)明的一實施例所繪示的一種具有觸控功能的觸控顯示裝置的示意圖；

圖11為本發(fā)明的一實施例繪示觸控顯示裝置的結(jié)構(gòu)分解示意圖；

圖12A為本發(fā)明的一實施例所繪示的一種圖案顯示結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖12B為沿著圖12A的切線S12所繪示的圖案顯示結(jié)構(gòu)局部區(qū)域的結(jié)構(gòu)剖視圖。

符號說明

10、70、80、90：觸控顯示裝置

11、71：顯示面板 11a：出光面

100：觸控結(jié)構(gòu) 100a：感測單元

101：透光基板 101a：觸控表面

101b：透光基板的內(nèi)側(cè)表面

102：圖案化遮光層 103：圖案化電極層

103a：第一圖案化電極 103b：第二圖案化電極

103b1：第二圖案化電極的第一部分

103b2：第二圖案化電極的第二部分

104：介電層 105：圖案化金屬層

105a：導電架橋 106：保護層

107：彩色遮光層 111：次像素

111a：次像素的長軸 120：圖案顯示結(jié)構(gòu)

121a：金屬表面 121：金屬層

122：感光遮光層 122a：遮光部

122b：開口 123：覆蓋板

124：顯示圖案

200A、200B、200C：觸控結(jié)構(gòu)

300：觸控結(jié)構(gòu) 302：圖案化遮光層

302a1、302a2、302a3、302a4、302a5：遮光部

302b：開口 400：觸控結(jié)構(gòu)

402：圖案化遮光層 403a：第一圖案化電極

403b：第二圖案化電極 500：觸控結(jié)構(gòu)

502：圖案化遮光層 503a：第一圖案化電極

503b：第二圖案化電極 503c：間隙

503b1：第二圖案化電極的第一部分

503b2：第二圖案化電極的第二部分

505a：導電架橋 600：觸控結(jié)構(gòu)

602：圖案化遮光層

602a1、602a2、602a3、602a4、602a5：遮光部

603a：第一圖案化電極 603b：第二圖案化電極

700：觸控結(jié)構(gòu) 702：圖案化遮光層

703：圖案化電極層 703a：第一圖案化電極

703b：第二圖案化電極

703b1：第二圖案化電極的第一部分

703b2：第二圖案化電極的第二部分

705：圖案化金屬層 705a：導電架橋

711：透明基板 711a：透明基板的表面

800：觸控結(jié)構(gòu) 802：圖案化遮光層

802a1、802a2、802a3、802a4、802a5：遮光部

900：觸控結(jié)構(gòu) 902：圖案化遮光層

1052：金屬走線 1022：遮光圖案

L：外界光線 θ：非平角

S3、S4、S12：切線 D1：第一長度

D2：第二長度 W1：第一寬度

W2：第二寬度

P：透光基板的垂直投影方向

具體實施方式

本發(fā)明是提供一種應用于顯示裝置中的觸控結(jié)構(gòu)及其應用，可以減少觸控感測面板反射從外界而來的光線，達到改善觸控顯示裝置的顯示品質(zhì)的效果。為了對本發(fā)明的上述實施例及其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉數(shù)個優(yōu)選實施例，并配合所附的附圖作詳細說明。

但必須注意的是，這些特定的實施案例與方法，并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明仍可采用其他特征、元件、方法及參數(shù)來加以實施。優(yōu)選實施例的提出，僅用以例示本發(fā)明的技術(shù)特征，并非用以限定本發(fā)明的權(quán)利要求。該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，將可根據(jù)以下說明書的描述，在不脫離本發(fā)明的精神范圍內(nèi)，作均等的修飾與變化。在不同實施例與附圖之中，相同的元件，將以相同的元件符號加以表示。

請參照圖1A至圖1E，圖1A至圖1E是根據(jù)本發(fā)明的一實施例所繪示的一系列形成觸控結(jié)構(gòu)100的制作工藝結(jié)構(gòu)局部區(qū)域的剖面示意圖。其中形成觸控結(jié)構(gòu)100的方法包含下述步驟：首先提供一個透光基板101(如圖1A所繪示)。在本發(fā)明的一些實施例之中，透光基板101可以是一種用來提供使用者直接觸碰或點選畫面的可透光覆蓋基板(cover lens)。換句話說，透光基板101可以是一般的玻璃基板、無堿玻璃基板(例如LCD基板)、或是以物理或是化學方式處理后的強化玻璃基板(例如玻璃覆蓋板cover glass)。透光基板101也可以是塑膠基板例如材質(zhì)是采用聚對苯二甲二乙酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚環(huán)烯烴高分子(COP)…等。在本實施例之中，透光基板101具有可與外界環(huán)境直接觸或讓使用者直接碰觸的觸控表面101a以及與觸控表面101a相對的內(nèi)側(cè)表面101b。

接著，在透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b上形成圖案化遮光層102(如圖1B所繪示)。在本發(fā)明的一些實施例之中，圖案化遮光層102可以是一種圖案化的感光層(例如是感光性的光致抗蝕劑材料)，也可以是油墨材料。在本實施例之中，可利用涂布、壓印或其他合適的方式，先在透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b上形成光致抗蝕劑層，再通過光掩模顯影來移除一部分光致抗蝕劑層，用于將一部分透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b暴露出來，形成如圖1B所繪示的圖案化遮光層102。在本實施例中，形成圖案化遮光層102的同時，可在同一道制作工藝中以剩余的光致抗蝕劑層在靠近透光基板101邊緣的位置上形成可以遮蔽形成于透光基板101邊緣的金屬走線1052的遮光圖案1022(詳細的實施方式請參見下述實施例)。因此，制作工藝中除了形 成圖案化遮光層102之外，不用再額外加一道制作工藝制作另一個遮光層來遮蔽金屬走線1052。換句話說，圖案化遮光層102與遮光圖案1022可以同一道制作工藝一起制作完成，節(jié)省制造工序與成本。

然后，在圖案化遮光層102上形成至少一層圖案化電極層103。在本發(fā)明的一些實施例之中，圖案化電極層103是一種由薄層金屬、金屬氮化物材質(zhì)，例如氮化鋁金屬化合物(Al-X-N)，金屬氧化物，例如氧化銦錫(Indium Tin Oxides，ITO)或氧化銦鋅(Indium Zinc Oxides，IZO)，或是石墨烯、納米銀絲…等所構(gòu)成的透明電極層。其中，圖案化電極層103包括至少一個第一圖案化電極103a和至少一個第二圖案化電極103b。且第二圖案化電極103b被第一圖案化電極103a至少分隔成第一部分103b1以及第二部分103b2(如圖1C所繪示為圖案化電極層103的局部區(qū)域)。

雖然，在本實施例之中，第一圖案化電極103a和第二圖案化電極103b位于同一圖案化電極層103中，但在本發(fā)明的其他實施例中，第一圖案化電極103a和第二圖案化電極103b可以分別位于不同平面上的不同圖案化電極層中(未繪示)。

之后，在圖案化電極層103上形成圖案化的介電層104，以覆蓋至少部分的第一圖案化電極103a和至少部分的第二圖案化電極103b，并將第二圖案化電極103b的第一部分103b1和第二部分103b2部分地暴露出來(如圖1D所繪示)。

在形成介電層104之后，再于介電層104上方形成圖案化金屬層105，使圖案化金屬層105通過介電層104與第一圖案化電極103a隔離，且使一部分的圖案化金屬層105與第二圖案化電極103b暴露在外的第一部分103b1和第二部分103b2電連接，用于定義出跨接于第二圖案化電極103b的第一部分103b1和第二部分103b2之間的導電架橋105a。換言之，導電架橋105a導通了第二圖案化電極103b的第一部分103b1和第二部分103b2，并且通過介電層104在空間上與第一圖案化電極103a彼此隔離，進而形成至少一個感測單元(touch sensing unit)100a。其中，導電架橋105a在透光基板101的垂直投影方向P(即沿著透光基板101的厚度方向)上與圖案化遮光層102至少部分重疊。

另外在本實施例中，形成于遮光圖案1022上方的一部分圖案化金屬層105，可以做為觸控結(jié)構(gòu)100的金屬走線1052使用。換言之，圖案化金屬層 105與觸控結(jié)構(gòu)100的金屬走線1052可以在同一道金屬層圖案化制作工藝中形成。但在本發(fā)明的其他實施例中，并不以此為限。

后續(xù)，經(jīng)由一連串的后段制作工藝(downstream process)，例如可以是制作保護層、功能性光學膜層、連接電路板、組裝…等制作工藝，完成觸控結(jié)構(gòu)100的制備，如圖1E所繪示，并在圖案化金屬層105上形成一保護層106。此保護層106可以是有機或是無機的材質(zhì)。另外，在圖案化電極層103與透光基板101之間可以有設置一層或是多層的膜層，材質(zhì)可以選用有機或是無機的材質(zhì)，例如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、耐高溫有機材料(大于攝氏200度)…等，以提供例如透光率提升或是玻璃強度提升的功能。

在本發(fā)明的一些實施例之中，通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)，可通過調(diào)整圖案化遮光層102與圖案化金屬層105的導電架橋105a的重疊位置和重疊尺寸，而產(chǎn)生不同的光學效果。

例如請參照圖2A，圖2A是根據(jù)本發(fā)明的一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)200A的部分結(jié)構(gòu)俯視圖。在本實施例中，沿透光基板101的垂直投影方向P上(俯視)來看，圖案化遮光層102的第一長度(D1)與第一寬度(W1)都實質(zhì)大于或等于導電架橋105a的第二長度(D1)與第二寬度(W2)；且圖案化遮光層102與導電架橋105a完全重疊。因此，穿過透光基板101的外界光線L可完全被圖案化遮光層102所遮蔽，而不會被導電架橋105a所反射(如圖1E所繪示)。

請再參照圖2B，圖2B是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)200B的部分結(jié)構(gòu)俯視圖。在本實施例中，圖案化遮光層102的長度(第一長度D1)實質(zhì)等于導電架橋105a的長度(第二長度D2)，但圖案化遮光層102的寬度(第一寬度W1)則實質(zhì)小于導電架橋105a的寬度(第二寬度W2)。雖然圖案化遮光層102與導電架橋105a橫向部分完全重疊，但穿過透光基板101的外界光線，仍有一部分未被圖案化遮光層102所遮蔽，而會被導電架橋105a所反射(未繪示)。在本實施例中，導電架橋105a沒有被圖案化遮光層102重疊到的俯視面積(roof square)占原本導電架橋105a頂面的俯視面積的比值，可以實質(zhì)介于40％至70％之間。換句話說，沿透光基板101的垂直投影方向P上來看導電架橋105a與圖案化遮光層102，兩者的俯視面積不同。

請再參照圖2C，圖2C是根據(jù)本發(fā)明的再一實施例繪示通過圖1A至圖 1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)200C的部分結(jié)構(gòu)俯視圖。在本實施例中，圖案化遮光層102的長度(第一長度D1)與寬度(第一寬度W1)都實質(zhì)等于導電架橋105a的長度(第二長度D2)與寬度(第二寬度W2)。不過，由于圖案化遮光層102并未與導電架橋105a完全對準，圖案化遮光層102的側(cè)邊橫向偏離導電架橋105a的側(cè)邊。因此圖案化遮光層102與導電架橋105a二者僅部分重疊。其中，導電架橋105a的頂面未與圖案化遮光層102重疊的面積與導電架橋105a的頂面俯視面積的比值，可以實質(zhì)小于50％。在一優(yōu)選的實施例中，導電架橋105a的寬度約3～10微米，而圖案化遮光層102的側(cè)邊橫向偏離導電架橋105a的側(cè)邊約1.5～5微米。另外，圖案化遮光層102的長度與寬度也可以不等于導電架橋105a的長度與寬度，但是仍然有橫向的偏移設計，使導電架橋105a頂面俯視面積有部分沒有被圖案化遮光層102遮住而裸露，裸露面積實質(zhì)小于50％以內(nèi)都屬于本發(fā)明的范圍內(nèi)。補充說明的是，在上述的圖2A～圖2C的實施例俯視圖中，為了清楚起見而省略介電層104沒有繪示出來。

請參照圖3A和圖3B，圖3A是根據(jù)本發(fā)明的又一實施例繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)300的部分結(jié)構(gòu)俯視圖。圖3B是沿著圖3A的切線S3所繪示的觸控結(jié)構(gòu)300的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)300的結(jié)構(gòu)大致與觸控結(jié)構(gòu)100類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)300的圖案化遮光層302包括至少一個(例如多個)開口302b(也可為間隙)，可將圖案化遮光層302區(qū)隔成彼此分離的多個遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5。

在本實施例中，每一個遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5至少都與導電架橋105a部分重疊。不過由于遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5并未遮蔽整個導電架橋105a。因此，穿過透光基板101的外界光線L，仍有一部分會被導電架橋105a所反射。在本實施例中，導電架橋105a頂面未與圖案化遮光層302重疊的俯視面積與導電架橋105a的頂面俯視面積的比值，可以實質(zhì)介于40％至50％之間(如圖3B所繪示)，換句話說，導電架橋105a的裸露面積介于40％至50％之間。

另外，由于圖案化遮光層302中具有多個開口302b，因此，在后續(xù)形成圖案化電極層303時，會有一部分的第一圖案化電極303a或一部分的第二圖案化電極303b，亦或上述二者，穿過開口302b而與透光基板101的內(nèi)側(cè) 表面101b接觸(如圖3B所繪示)。同樣地，在上述的圖3A、圖3B的實施例俯視圖中，為了清楚起見而省略介電層104沒有繪示出來。圖案化遮光層302中具有多個開口302b的這種設計，好處是因為有開口302b，所以不會完全遮擋到顯示器的子像素，尤其是高分辨率的顯示器的子像素，其尺寸大小可能會小于一個圖案化遮光層302的大小，本實施例的設計可以確保每一個子像素的光線可以由這些開口302b穿過，避免有些顏色的子像素被完全屏蔽掉。

請參照圖4A和圖4B，圖4A是根據(jù)本發(fā)明的又另一實施例所繪示通過圖1A至圖1E所述的方法制備而成的觸控結(jié)構(gòu)400的部分結(jié)構(gòu)俯視圖。圖4B是沿著圖4A的切線S4所繪示的觸控結(jié)構(gòu)400的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)400的結(jié)構(gòu)大致與觸控結(jié)構(gòu)100類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)400的圖案化遮光層402的寬度則實質(zhì)大于導電架橋105a的寬度，但圖案化遮光層402的長度實質(zhì)小于導電架橋105a的長度(如圖4A所繪示)。

在本實施例中，導電架橋105a橫向?qū)挾扰c圖案化遮光層402完全重疊而被遮蔽，但導電架橋105a長軸的兩端并未與圖案化遮光層402重疊。導電架橋105a未與圖案化遮光層402重疊的俯視面積與導電架橋105a俯視面積的比值，可以實質(zhì)介于20％至30％之間。穿過透光基板101的外界光線L，仍有一部分未被圖案化遮光層402所遮蔽，而會被導電架橋105a所反射。

另外，由于圖案化遮光層402的長度較短而未與導電架橋105a的兩端重疊。因此在后續(xù)形成圖案化電極層403時，會有一部分的第一圖案化電極403a和第二圖案化電極403b，沿著圖案化遮光層402的長軸兩端的側(cè)壁向下延伸，而與透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b接觸(如圖4B所繪示)。

請參照圖5，圖5是根據(jù)本發(fā)明的又一實施例所繪示的觸控結(jié)構(gòu)500的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)500的結(jié)構(gòu)大致與觸控結(jié)構(gòu)400類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)500的第一圖案化電極503a和第二圖案化電極503b位于透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b與圖案化遮光層502之間；且觸控結(jié)構(gòu)500的圖案化電極層503直接與透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b接觸。另外，在圖案化電極層503與透光基板101之間可以有設置一層或是多層的膜層，材質(zhì)可以選用有機或是無機的材質(zhì)，例如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、耐高溫有機材料(大于攝氏200度)…等，以提供例如透光率提升或是玻璃強度提升的功能。

在本實施例之中，由于觸控結(jié)構(gòu)500的第一圖案化電極503a、第二圖案化電極503b、透光基板101以及圖案化遮光層502與觸控結(jié)構(gòu)400中相似結(jié)構(gòu)的相對位置不同，因此制作觸控結(jié)構(gòu)500的步驟順序與制作觸控結(jié)構(gòu)400的步驟順序也有所差別。其中，制作觸控結(jié)構(gòu)500的步驟，是先在透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b上形成具有第一圖案化電極503a和第二圖案化電極503b的圖案化電極層503。之后，再于圖案化電極層503上依序形成圖案化遮光層502、介電層104、圖案化金屬層505以及保護層106。如同前述的圖案化遮光層102、302一般，圖案化遮光層502在透光基板101的外側(cè)以同一道制作工藝形成可以遮蔽多數(shù)條金屬走線1052的遮光圖案1022。其中，金屬走線1052可以與感測單元中的第一圖案化電極503a以及第二圖案化電極503b電連接。

由于，圖案化電極層503第一圖案化電極503a和第二圖案化電極503b之間具有至少一個(多個)用來隔離第一部分503b1和第二部分503b2的間隙503c。因此，當后續(xù)在圖案化電極層503上形成圖案化遮光層502時，會有一部分的圖案化遮光層502穿過第一圖案化電極503a和第二圖案化電極503b之間的間隙503c而與透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b接觸。

又由于在本實施例之中，導電架橋505a的兩端必須分別與位于圖案化遮光層502下方的第二圖案化電極503b的第一部分503b1和第二部分503b電性接觸，因此圖案化遮光層502的長度必須小于導電架橋505a的長度，以容許導電架橋505a的兩端沿著介電層104和圖案化金屬層505長軸兩端的側(cè)壁向下延伸至第二圖案化電極503b的第一部分503b1和第二部分503b。

另外，圖案化遮光層502的是采用光掩模顯影來加以定義，圖案化遮光層502兩側(cè)的側(cè)壁，呈現(xiàn)由上至下逐漸擴大的剖面輪廓，具有較平緩的延伸坡度。因此，當使用厚度較薄的圖案化金屬層505來建構(gòu)導電架橋505a，以電連接第二圖案化電極503b的第一部分503b1和第二部分503b的連接部505a1時，有利于提高圖案化金屬層505(導電架橋505a)的制作工藝可靠度。

在本發(fā)明的一些實施例之中，由于圖案化遮光層502的絕緣阻抗與介電層104相似，因此也可以選擇性地省略介電層104的使用，而直接在圖案化遮光層502上形成包括導電架橋505a的圖案化金屬層505。

請參照圖6，圖6是根據(jù)本發(fā)明的又另一實施例所繪示的觸控結(jié)構(gòu)600的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)600與的結(jié)構(gòu)與制作方法大致與觸 控結(jié)構(gòu)300類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)600的第一圖案化電極603a和第二圖案化電極603b位于透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b與圖案化遮光層602之間；且觸控結(jié)構(gòu)600的圖案化電極層603直接與透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101b接觸。

在本實施例之中，觸控結(jié)構(gòu)600的圖案化遮光層602包括至少一個(例如多個)開口602b，可將圖案化遮光層602區(qū)隔成彼此分離的遮光部602a1、602a2、602a3、602a4和602a5。由于遮光部602a1、602a2、602a3、602a4和602a5并未遮蔽整個導電架橋105a。因此，穿過透光基板101的外界光線L，仍有一部分未被圖案化遮光層602所遮蔽，而會被導電架橋105a所反射。

圖7A至圖7D，圖7A至圖7D是根據(jù)本發(fā)明的又一實施例所繪示的一系列形成觸控結(jié)構(gòu)700的制作工藝結(jié)構(gòu)局部區(qū)域的剖面示意圖。其中觸控結(jié)構(gòu)700形成于顯示面板71出光面的透明基板711上。形成觸控結(jié)構(gòu)700的方法包括下述步驟：首先在透明基板711遠離液晶層的表面711a上形成包含有第一圖案化電極703a和第二圖案化電極703b的圖案化電極層703(如圖7A所繪示)。

接著，在圖案化電極層703上形成一介電層104，以覆蓋第一圖案化電極703a和第二圖案化電極703b，并將第二圖案化電極703b的第一部分703b1和第二部分703b2部分地露出來(如圖7B所繪示)。

然后，在介電層104上形成圖案化金屬層705，使第一圖案化電極703a通過介電層104與圖案化金屬層705隔離，并使一部分的圖案化金屬層705與第二圖案化電極703b暴露于外的第一部分703b1和第二部分703b2部分地電連接，用于定義出跨接于第二圖案化電極703b的第一部分703b1和第二部分703b2之間的導電架橋705a(如圖7C所繪示)。

之后，在介電層104上形成圖案化遮光層702，并使圖案化遮光層702與導電架橋705a至少部分重疊；再貼附覆蓋玻璃基板(透光基板)701之后完成觸控結(jié)構(gòu)700的制備(如圖7D所繪示)。在本發(fā)明的一些實施例中，還可選擇性地在圖案化遮光層702上涂布一層保護層106。由于，觸控結(jié)構(gòu)700的制備與顯示面板70是整合在一起。因此，可再經(jīng)由后續(xù)的一連串后段制作工藝，例如可以是制作保護層、功能性光學膜層、連接電路板、組裝…等制作工藝，而形成觸控顯示裝置70。

在本實施例中，圖案化遮光層702的長度與寬度都實質(zhì)大于或等于導電 架橋705a的長度與寬度；且圖案化遮光層702與導電架橋705a完全重疊。因此，穿過覆蓋玻璃基板701的外界光線L可完全被圖案化遮光層702所遮蔽，而不會被導電架橋705a所反射。

請參照圖8，圖8是分別根據(jù)本發(fā)明的另一實施例繪示通過圖7A至圖7D所述方法制備而成的觸控顯示裝置80的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)800的結(jié)構(gòu)與制作方法大致與觸控結(jié)構(gòu)700類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)800的圖案化遮光層802包括至少一個(例如多個)開口802b，可將圖案化遮光層802區(qū)隔成彼此分離的遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5。在本實施例之中，每一個遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5至少都與導電架橋705a部分重疊。不過由于遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5并未遮蔽整個導電架橋705a。因此，穿過覆蓋玻璃基板701的外界光線L，仍有一部分未被圖案化遮光層802所遮蔽，而會被導電架橋705a所反射。

請參照圖9，圖9是分別根據(jù)本發(fā)明的再一實施例繪示通過圖7A至圖7D所述方法制備而成的觸控顯示裝置90的部分結(jié)構(gòu)剖視圖。其中，觸控結(jié)構(gòu)900與的結(jié)構(gòu)與制作方法大致與觸控結(jié)構(gòu)700類似，差別只在于觸控結(jié)構(gòu)900的圖案化遮光層902的長度實質(zhì)小于導電架橋705a的長度。在本實施例中，導電架橋705a橫向(即平行導電架橋705a的短軸的方向)與圖案化遮光層902完全重疊，但導電架橋705a的兩端并未與圖案化遮光層902重疊。因此，穿過覆蓋玻璃基板701的外界光線L，仍有一部分未被圖案化遮光層902所遮蔽，而會被導電架橋705a所反射。

前述以透光基板101為基底形觸控結(jié)構(gòu)的實施例，例如觸控結(jié)構(gòu)100，也可與顯示面板11結(jié)合而形成具有觸控功能的觸控顯示裝置10。例如請參照圖10，圖10是根據(jù)本發(fā)明的一實施例所繪示的一種具有觸控功能的觸控顯示裝置10。其中，觸控顯示裝置10的觸控結(jié)構(gòu)100鄰接于顯示面板11的出光面11a。在本實施例中，觸控結(jié)構(gòu)100保護層106a面對顯示面板11的出光面11a。

另外，觸控結(jié)構(gòu)100也可以包括一個形成在透光基板101的內(nèi)側(cè)表面101a的周邊，圍繞第一圖案化電極103a、第二圖案化電極103b、導電架橋105a和圖案化遮光層102的圖案化的彩色遮光層107。在本發(fā)明的一些實施例中，彩色遮光層107可以由多層白色或彩色油墨所堆疊而成。為了邊緣線 性的美觀，優(yōu)選會利用圖案化遮光層102在彩色遮光層107內(nèi)側(cè)設置內(nèi)框1022。

例如，在本實施例之中，在形成圖案化遮光層102的同時，會在透光基板外側(cè)同時形成一遮光圖案1022用來作為觸控結(jié)構(gòu)100的內(nèi)框，之后再形成彩色遮光層107。彩色遮光層107會部分覆蓋遮光圖案1022并使其鄰接彩色遮光層107。此時由透光基板101的垂直投影方向P(俯視)來看，遮光圖案1022可以構(gòu)成一個內(nèi)框。另外，還可以在將一部分圖案化的金屬層105堆疊于彩色遮光層107上，用于形成多數(shù)條金屬走線1052(如圖10所繪示)。其中，金屬走線1052可以與感測單元中的第一圖案化電極103a以及第二圖案化電極103b電連接。

請參照圖11，圖11是根據(jù)本發(fā)明的一實施例繪示觸控顯示裝置10的結(jié)構(gòu)分解示意圖。在本發(fā)明的一些實施例之中，觸控顯示裝置10的顯示面板11具有多個次像素(sub-pixels)111，且至少會有一個次像素111與觸控結(jié)構(gòu)100重疊。由于，每一個次像素111的尺寸例如為20微米×60微米，而每一個圖案化遮光層102的尺寸例如為260微米×10微米。為了減少次像素111被圖案化遮光層102遮蔽的面積，可以使次像素111的長軸111a與導電架橋105a的長軸夾有一非平角θ。在本實施例之中，次像素111的長軸111a與導電架橋105a的長軸之間所夾的非平角θ為85°～90°。亦即，若次像素111的長軸111a與導電架橋105a的長軸是水平方向排列，次像素111有可能被導電架橋105a大面積的遮蔽，導致顯示品質(zhì)下降。

請參照圖12A和圖12B，圖12A是根據(jù)本發(fā)明的一實施例所繪示的一種圖案顯示結(jié)構(gòu)120。圖12B為沿著圖12A的切線S12所繪示的圖案顯示結(jié)構(gòu)120部分結(jié)構(gòu)剖視圖。其中，圖案顯示結(jié)構(gòu)120包括：具有金屬表面121a的金屬層121、感光遮光層122以及位于感光遮光層122上的覆蓋板123(例如強化玻璃基板或是塑膠基板)。換句話說，感光遮光層122先設置于覆蓋板123上，金屬層121再依序設于感光遮光層122上。其中，感光遮光層122經(jīng)過圖案化后具有多個開口122b以及多個遮光部。開口122b可以將一部分金屬表面121a暴露于外，用于在感光遮光層122中定義出至少一個顯示圖案124，其中每一個遮光部122a的徑向尺寸實質(zhì)小于100微米(μm)。金屬層121對應開口122b與遮光部122a的位置覆蓋感光遮光層122。圖12B僅為示意，實際上金屬層121有可能會填滿多開口122b。感光遮光層122可以例 如是前述實施例所提及的遮光圖案1022。顯示圖案124例如可以是商標、文字、花紋圖案…等，并不予限定。

在本實施例之中，感光遮光層122可以是一種圖案化的光致抗蝕劑層，例如黑色矩陣。圖案顯示結(jié)構(gòu)120的制備，可利用涂布或壓印或其他合適的方式，先在金屬層表面121a上形成光致抗蝕劑涂層(感光遮光層122)，再通過光掩模顯影來移除一部分光致抗蝕劑涂層，將一部分金屬層表面121a暴露出來，用于定義出顯示圖案124，并同時在顯示圖案124中余留一部分的感光遮光層122以形成多個遮光部122a。

其中，每一個遮光部122a的外形，可以根據(jù)圖案顯示結(jié)構(gòu)120顯示圖案124的設計需求而呈現(xiàn)規(guī)則或不規(guī)則的圓型、矩形、三角形、多邊形或其他不規(guī)則形狀的排列。也可以通過調(diào)整位于不同區(qū)域中的開口122b的尺寸大小或形狀來控制顯示圖案124中由金屬層表面121a反射的光線多寡，達到調(diào)整顯示圖案124的亮度的目的。

根據(jù)上述，本發(fā)明的實施例是在提供一種觸控結(jié)構(gòu)以及應用該觸控結(jié)構(gòu)的觸控顯示裝置。其是利用在透光基板(玻璃覆蓋基板)的內(nèi)側(cè)表面與觸控感測電極的導電架橋之間提供一圖案化遮光層，使其與導電架橋至少部分重疊，來遮蔽穿過透光基板進入觸控結(jié)構(gòu)的外界光線，通過調(diào)整圖案化遮光層與導電架橋的重疊位置和重疊尺寸，來改善因?qū)щ娂軜蚍瓷渫饨绻饩€，而影響畫面品質(zhì)的問題。

雖然結(jié)合以上優(yōu)選實施例公開了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍應當以附上的權(quán)利要求所界定的為準。