一種電容觸摸屏的3d制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于,所述電容觸摸屏包含:一基板層,一屏蔽層,一工作層,一保護(hù)層;其中,所述屏蔽層、工作層、保護(hù)層均有3D打印制造而成;所述電容觸摸屏為表面電容觸摸屏,當(dāng)手指輕觸所述觸摸屏,并與工作層形成耦合電容吸走交流電流,這個(gè)電流分別從四角上的電極流出,根據(jù)四角電流強(qiáng)弱,進(jìn)行計(jì)算觸摸點(diǎn)的位置;本發(fā)明采用3D打印進(jìn)行電容觸摸屏制造,工藝簡(jiǎn)單,省去傳統(tǒng)工藝曝光、顯影、刻蝕等多道復(fù)雜工藝,節(jié)約材料。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種電容觸摸屏的30制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種電容觸摸屏的30制造方法,應(yīng)用于電容觸摸屏制備。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏操作是一種新型操作方式,目前有取代傳統(tǒng)按鍵、鼠標(biāo)和鍵盤(pán)的趨勢(shì),為了操作上的方便,人們采用觸摸屏來(lái)替代其它輸入設(shè)備作為電子產(chǎn)品新的操作方式。首先用手指或其它物體觸摸安裝在顯示屏前端的觸摸屏上,然后控制中心通過(guò)觸摸屏的信號(hào)分析接觸點(diǎn)坐標(biāo),并進(jìn)行控制。
[0003]現(xiàn)有觸摸屏的制造多采用光刻和鍍膜等技術(shù),而光刻技術(shù)和鍍膜技術(shù)則需要很多道工藝?,F(xiàn)有技術(shù)制造觸摸屏的步驟詳細(xì)敘述為:①清洗110玻璃旋涂或輥涂光刻膠并預(yù)烘;③通過(guò)掩膜版曝光光刻膠利用顯影液產(chǎn)生光刻膠圖案并堅(jiān)膜利用刻蝕液將沒(méi)有光刻膠保護(hù)的區(qū)域刻蝕掉;⑥利用退膠液去除光刻膠,形成110電極圖案;⑦于另一面鍍110屏蔽層;⑧利用印刷的方法形成電極引線(xiàn);⑨涂布保護(hù)層;⑩連接引線(xiàn)與封裝;由于傳統(tǒng)工藝,需要多道黃光與鍍膜工藝,采用減法制作器件,所以造成工藝的復(fù)雜,成品率,以及原料浪費(fèi)等問(wèn)題。
[0004]綜上,針對(duì)現(xiàn)有觸摸屏制造工藝的復(fù)雜、成品率、原料浪費(fèi)等問(wèn)題,結(jié)合30打印的優(yōu)勢(shì),提出一種簡(jiǎn)單、節(jié)約原材料的工藝就顯得很有意義。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種電容觸摸屏的30制造方法。
[0006]本發(fā)明的技術(shù)方案在于:
一種電容觸摸屏的30制造方法,所述電容觸摸屏包含:
一基板層,用于承接其它材料或?qū)樱?br>
一屏蔽層,所述屏蔽層設(shè)置于所述基板層下側(cè),用于屏蔽所述觸摸屏之外的電子設(shè)備,防止電磁干擾,保證良好的工作環(huán)境;
一工作層,所述工作層設(shè)置于所述基板層另一側(cè),用于檢測(cè)電位觸摸點(diǎn)位置;
一保護(hù)層,所述保護(hù)層為一絕緣介質(zhì),設(shè)置于工作層表面,使接觸點(diǎn)與所述工作層形成耦合電容;其中,
所述屏蔽層是采用30打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層;
所述工作層包括一級(jí)導(dǎo)電層和二級(jí)導(dǎo)電層;所述二級(jí)導(dǎo)電層作用在于檢測(cè)觸摸點(diǎn),所述一級(jí)導(dǎo)電層為狹長(zhǎng)的電極引線(xiàn),所述電極引線(xiàn)一端連接所述二級(jí)導(dǎo)電層的四角,另一端連接外界驅(qū)動(dòng)電路;
所述一級(jí)導(dǎo)電層是采用30打印一層或若干層的金屬導(dǎo)電材料所構(gòu)成的導(dǎo)電層;
所述二級(jí)導(dǎo)電層是采用30打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層;
所述保護(hù)層是采用30打印一層或若干層的絕緣材料所構(gòu)成的透明層;
所述電容觸摸屏為表面電容觸摸屏,當(dāng)手指輕觸所述觸摸屏,并與工作層形成耦合電容,吸走交流電流,電流分別從四角上的電極流出,根據(jù)四角電流強(qiáng)弱,進(jìn)行計(jì)算觸摸點(diǎn)的位置,其特征在于,所述30制造步驟如下:
51:依次設(shè)計(jì)生成所述電容觸摸屏中的所述屏蔽層、第一電極層、第二電極層和保護(hù)層的三維數(shù)字模型;;
32:利用軟件對(duì)所建立的所述屏蔽層、第一電極層、第二電極層和保護(hù)層三維模型依次進(jìn)行分層,獲得2軸方向的二維子層;
83:將所述二維子層導(dǎo)入30打印機(jī)程序中,根據(jù)所建模型得出每層二維平面上的材料和形狀,設(shè)計(jì)出打印路徑;
84:將所述基板層放在30打印裝置臺(tái)面上,在其一面上打印所述屏蔽層;所述屏蔽層,打印可以是圖案,也可以是整面;所述屏蔽層,包括一個(gè)或多個(gè)30打印子層;
85:翻轉(zhuǎn)基板,在所述基板層另一面打印工作層,根據(jù)所述三維數(shù)字模型,內(nèi)部打印所述二級(jí)導(dǎo)電層,外側(cè)打印所述一級(jí)導(dǎo)電層;所述一級(jí)導(dǎo)電層或二級(jí)導(dǎo)電層包括一層或多層30打印子層,所述一級(jí)導(dǎo)電層與所述二級(jí)導(dǎo)電層可以存在高度差;所述四角的電極引到所述觸摸屏的一側(cè),并連接于外接引線(xiàn);
86:繼續(xù)打印保護(hù)層,所述保護(hù)層為透明絕緣介質(zhì)層。
[0007]其中,在同一基板上打印一個(gè)觸摸屏或多個(gè)觸摸屏陣列,所述多個(gè)觸摸屏陣列采用切割的方式進(jìn)行分離。
[0008]所述屏蔽層為透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀,或?yàn)槊鏍罱Y(jié)構(gòu);所述網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述面狀結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。
[0009]所述透明導(dǎo)電層包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。
[0010]所述一級(jí)導(dǎo)電層為金屬材料組成;所述一級(jí)導(dǎo)電層的形狀為網(wǎng)格狀、條狀、面狀。
[0011]所述二級(jí)導(dǎo)電層為透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀,或?yàn)槊鏍罱Y(jié)構(gòu);所述網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述面狀結(jié)構(gòu)導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。
[0012]所述透明導(dǎo)電層包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。
[0013]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
本發(fā)明采用加法進(jìn)行制造,工藝較傳統(tǒng)方法大大簡(jiǎn)化,省去傳統(tǒng)工藝曝光、顯影、刻蝕等多道復(fù)雜工藝,節(jié)約生產(chǎn)原料和制造成本。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本發(fā)明提供的一種30制造電容觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明提供的一種30制造電容觸摸屏的單層屏蔽層結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明提供的一種30制造電容觸摸屏的屏蔽層結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是本發(fā)明提供的一種30制造電容觸摸屏的二級(jí)導(dǎo)電層和一級(jí)導(dǎo)電層結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5是本發(fā)明提供的一種30制造電容觸摸屏的保護(hù)層結(jié)構(gòu)示意圖; 圖6是本發(fā)明提供的一種30制造陣列式電容觸摸屏的方法下的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,結(jié)合附圖作詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0016]如圖1,在本實(shí)施例中提供的一種30制造表面電容觸摸屏的方法,具體包括:
一基板層,為玻璃基板11,用于承接其它材料或?qū)樱?br>
一屏蔽層12,設(shè)置于所述玻璃基板11下側(cè),用于屏蔽所述觸摸屏之外的電子設(shè)備,防止電磁干擾,保證良好的工作環(huán)境;
一工作層13,設(shè)置于玻璃基板11另一側(cè),用于檢測(cè)電位觸摸點(diǎn)位置;一保護(hù)層14,所述保護(hù)層14為一透明絕緣介質(zhì),設(shè)置于工作層13表面,使接觸點(diǎn)與所述工作層13形成耦合電容;其中,
所述屏蔽層是采用30打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層;
所述工作層包括一級(jí)導(dǎo)電層和二級(jí)導(dǎo)電層,所述二級(jí)導(dǎo)電層作用在于檢測(cè)觸摸點(diǎn),所述一級(jí)導(dǎo)電層為狹長(zhǎng)的電極引線(xiàn),所述電極引線(xiàn)一端連接所述二級(jí)導(dǎo)電層的四角,另一端連接外界驅(qū)動(dòng)電路;所述一級(jí)導(dǎo)電層是采用30打印一層或若干層的金屬導(dǎo)電材料所構(gòu)成的導(dǎo)電層;所述二級(jí)導(dǎo)電層是采用30打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層;所述保護(hù)層是采用30打印一層或若干層的絕緣材料所構(gòu)成的透明層;
在本實(shí)施例中,所述電容觸摸屏1為表面電容觸摸屏,當(dāng)手指輕觸所述觸摸屏,并與工作層形成耦合電容,吸走交流電流,電流分別從四角上的電極流出,根據(jù)四角電流強(qiáng)弱,進(jìn)行計(jì)算觸摸點(diǎn)的位置;
本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例一提供的一種觸摸屏的制造方法,其步驟包括:
(811)采用計(jì)算機(jī)三維立體圖像處理軟件建模,如3011(^01^8、8011 (1(16(186?^1-0/6? 116
等;
(312)利用1??-10018軟件對(duì)所建立的三維模型進(jìn)行分層,獲得2軸方向厚度為0.05微米的二維子層;
(813)將所述二維子層導(dǎo)入30打印機(jī)程序中,根據(jù)所建模型得出每層二維平面上的材料和形狀,設(shè)計(jì)出打印路徑;
(314)將玻璃基板11放置與30打印成型腔內(nèi),抽真空并通入惰性氣體,如氬氣,形成保護(hù)氣氛;
(315)打印屏蔽層12。參照?qǐng)D2和圖3,所述屏蔽層12為透明導(dǎo)電層。所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu),也可為面狀結(jié)構(gòu)。網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。面狀結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述透明導(dǎo)電層的材料包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。所述屏蔽層可采用激光燒結(jié)或熔融擠出成型來(lái)制備,也可采用光敏材料的立體光固化或三維噴墨打印來(lái)制備。其中,金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)或金屬氧化物可采用選擇性激光燒結(jié)或熔融擠出成型制作而成;金屬量子點(diǎn)、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)、金屬氧化物納米結(jié)構(gòu)也可采用光敏材料的立體光固成型和三維噴墨打印制作而成。
[0017]本實(shí)施例優(yōu)選激光燒結(jié)金屬銅納米顆粒制作成有序網(wǎng)格的面狀透明導(dǎo)電層,具體步驟如下:
(3151)有序網(wǎng)格打印參數(shù)確定。根據(jù)30建模的20子層圖案,確定有序網(wǎng)格狀的面狀透明導(dǎo)電層的參數(shù),包括網(wǎng)格厚度、線(xiàn)徑和孔徑;本實(shí)施優(yōu)選面狀導(dǎo)電層的金屬網(wǎng)格線(xiàn)的厚度為0.2微米,金屬網(wǎng)格線(xiàn)的寬度為2微米,金屬網(wǎng)格孔徑為6微米;
(3152)金屬銅納米顆粒轉(zhuǎn)移。利用鋪粉輥設(shè)備沿水平方向?qū)~納米顆粒均勻轉(zhuǎn)移至基底表面,或利用增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑(金屬網(wǎng)格線(xiàn)徑方向)移動(dòng)將銅納米顆粒均勻涂布在基底表面;本實(shí)施優(yōu)選增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑移動(dòng)將銅納米顆粒均勻涂布在基底表面;
(3153)金屬銅納米顆粒熔融。控制激光束使其燒結(jié)溫度為10851,激光頭沿噴頭移動(dòng)方向移動(dòng),激光發(fā)出的高能激光通對(duì)基底表面的金屬銅納米顆粒粉末進(jìn)行照射,并溶化其掃描路徑上的銅納米顆粒,熔化后銅與玻璃基板燒結(jié)在一起,形成單層有序網(wǎng)格的面狀透明導(dǎo)電層陣列;
(8154)導(dǎo)電層陣列制備。重復(fù)步驟(3152)和(3153)從而獲得屏蔽層12 ;
(3155)基片表面處理。將制造完成的基片移出30打印設(shè)備,清理陣列表面與內(nèi)部,包括噴涂打印和激光燒結(jié)過(guò)程中殘留在基片表面多余的金屬銅納米顆粒。
[0018](316)打印二級(jí)導(dǎo)電層132。參照?qǐng)D4,所述二級(jí)導(dǎo)電層132為透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu),也可為面狀結(jié)構(gòu)。網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。面狀結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述透明導(dǎo)電層的材料包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。所述屏蔽層可采用激光燒結(jié)或熔融擠出成型來(lái)制備,也可采用光敏材料的立體光固化或三維噴墨打印來(lái)制備。其中,金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)或金屬氧化物可采用選擇性激光燒結(jié)或熔融擠出成型制作而成;金屬量子點(diǎn)、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)、金屬氧化物納米結(jié)構(gòu)也可采用光敏材料的立體光固成型和三維噴墨打印制作而成。
[0019]本實(shí)施例優(yōu)選光敏材料的立體光固化石墨烯制作成有序網(wǎng)格狀的透明導(dǎo)電層作為二級(jí)導(dǎo)電層132。具體步驟如下:
(3161)有序網(wǎng)格打印參數(shù)確定。根據(jù)30建模的20子層圖案,確定有序網(wǎng)格狀的面狀透明導(dǎo)電層的參數(shù),包括網(wǎng)格厚度、線(xiàn)徑和孔徑;本實(shí)施優(yōu)選面狀導(dǎo)電層的金屬網(wǎng)格厚度為20011111,金屬網(wǎng)格寬度為211111,金屬網(wǎng)格孔徑為611111;
(3162)液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯漿料轉(zhuǎn)移。利用噴涂或輥涂設(shè)備沿水平方向?qū)⑴渲煤玫囊后w紫外線(xiàn)光固化石墨烯漿料均勻轉(zhuǎn)移至基底表面,或利用增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑(金屬網(wǎng)格線(xiàn)徑方向)移動(dòng)將配置好的液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯漿料均勻涂布在基底表面;本實(shí)施優(yōu)選增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑移動(dòng)將將液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯漿料均勻涂布在基底表面。
[0020](8163)紫外線(xiàn)光固化石墨烯。選擇紫外燈的強(qiáng)度,控制紫外線(xiàn)燈沿噴涂移動(dòng)方向移動(dòng)速率,并照射其掃描路徑上的液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯漿料;
(8164) 二級(jí)導(dǎo)電層陣列制備。照射一段時(shí)間后的液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯固化,固化后石墨烯與玻璃基板燒結(jié)在一起,形成有序網(wǎng)格狀的二級(jí)導(dǎo)電層; (3165)基片表面處理。將制造完成的基片移出30打印設(shè)備,清理陣列表面與內(nèi)部,包括噴涂打印和紫外固化過(guò)程中殘留在基片表面多余的液體紫外線(xiàn)光固化石墨烯。
[0021](317)打印一級(jí)導(dǎo)電層(131)0參照?qǐng)D4,所述一級(jí)導(dǎo)電層131為透明或不透明導(dǎo)電層,所述一級(jí)導(dǎo)電層131為金屬導(dǎo)電材料包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)組成,也可為石金屬納米線(xiàn)或金屬納米帶。所述一級(jí)導(dǎo)電層為有序網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的條狀或面狀透明導(dǎo)電層,或可為無(wú)序網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的條狀或面狀透明導(dǎo)電層,也可為條狀結(jié)構(gòu)的不透明導(dǎo)電層;所述二級(jí)導(dǎo)電層可采用可選擇性激光燒結(jié)或熔融擠出成型來(lái)制備,也可采用光敏材料的立體光固化或三維噴墨打印來(lái)制備;其中,金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)可采用選擇性激光燒結(jié)或熔融擠出成型制作而成;金屬量子點(diǎn)、金屬納米線(xiàn)或金屬納米帶也可采用光敏材料的立體光固成型和三維噴墨打印制作而成
本實(shí)施例優(yōu)選激光燒結(jié)金屬銀顆粒成條狀的不透明導(dǎo)電層作為一級(jí)導(dǎo)電層131,具體步驟如下:
(3171)條狀不透明導(dǎo)電層打印參數(shù)確定。根據(jù)30建模的20子層圖案,確定條狀不透明導(dǎo)電層陣列的參數(shù),包括每條條狀導(dǎo)電層寬度,相鄰條狀導(dǎo)電層之間的間距以及組成條狀導(dǎo)電層的厚度;本實(shí)施優(yōu)選條狀導(dǎo)電層的寬度為20011%相鄰條狀導(dǎo)電層之間的間距為10011111 ;組成每條條狀導(dǎo)電層的金屬厚度為20011111。
[0022](3172)金屬銀納米顆粒轉(zhuǎn)移。利用鋪粉輥設(shè)備沿水平方向?qū)y納米顆粒均勻轉(zhuǎn)移至基底表面,或利用增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑(金屬網(wǎng)格線(xiàn)徑方向)移動(dòng)將銀納米顆粒均勻涂布在基底表面;本實(shí)施優(yōu)選鋪粉輥設(shè)備沿水平方向?qū)y納米顆粒均勻轉(zhuǎn)移至基底表面。
[0023](3173)金屬銀納米顆粒熔融??刂萍す馐蛊錈Y(jié)溫度為9621,激光頭沿設(shè)定的條狀電極方向移動(dòng),激光發(fā)出的高能激光通對(duì)基底表面的金屬銀納米顆粒粉末進(jìn)行照射,并溶化其掃描路徑上的銀納米顆粒。
[0024](8174) 一級(jí)導(dǎo)電層131制備。熔化后銀與玻璃基板燒結(jié)在一起,形成條狀結(jié)構(gòu)的不透明一級(jí)導(dǎo)電層131 ;
(3175)基片表面處理。將制造完成的基片移出30打印設(shè)備,清理陣列表面與內(nèi)部,包括噴涂打印和激光燒結(jié)過(guò)程中殘留在基片表面多余的金屬銀納米顆粒。
[0025](318)打印保護(hù)層14。參照?qǐng)D5,所述保護(hù)層14是包括聚乙烯(92 ?、聚丙烯(戶(hù)? --聚苯乙烯(93 ?、聚甲基丙烯酸甲酯(9麗…、聚氯乙烯?、尼龍(^1011〉、聚碳酸酯(90?、聚氨酯(叩?、聚四氟乙烯(特富龍,?1?幻、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的顆粒,所述保護(hù)層14的制作方法包括選擇性激光燒結(jié)和熔融擠出成型制作而成。
[0026]本發(fā)明第一實(shí)施例優(yōu)選激光燒結(jié)顆粒制作成面狀的透明絕緣層。具體步驟如下:
(3181)面狀透明絕緣層打印參數(shù)確定。根據(jù)30建模的20子層圖案,確定面狀透明絕緣層陣列的參數(shù),包括面狀絕緣層的厚度;本實(shí)施優(yōu)選面狀絕緣層的厚度為200=1
[0027](3182)9-顆粒轉(zhuǎn)移。利用鋪粉輥設(shè)備沿水平方向?qū)㈩w粒均勻轉(zhuǎn)移至基底表面,或利用增材設(shè)備(30打印)中的噴頭沿其掃描路徑(金屬網(wǎng)格線(xiàn)徑方向)移動(dòng)將顆粒均勻涂布在基底表面;本實(shí)施優(yōu)選鋪粉輥設(shè)備沿水平方向?qū)㈩w粒粒均勻轉(zhuǎn)移至基底表面。
[0028](3183)9-顆粒熔融??刂萍す馐蛊錈Y(jié)溫度為2451,激光頭沿設(shè)定的面狀方向移動(dòng),激光發(fā)出的高能激光通對(duì)基底表面的顆粒粉末進(jìn)行照射,并溶化其掃描路徑上的?1嫩顆粒。
[0029](8184)透明保護(hù)層14制備。熔化后與導(dǎo)電層結(jié)在一起,形成面狀結(jié)構(gòu)的透明保護(hù)層14 ;
(3185)基片表面處理。將制造完成的基片移出30打印設(shè)備,清理陣列表面與內(nèi)部,包括噴涂打印和激光燒結(jié)過(guò)程中殘留在基片表面多余的顆粒。
[0030](819)如圖6所示,利用激光切割,將同一基板上的多個(gè)觸摸屏切割分離;
(310)充入壓縮空氣,打開(kāi)腔門(mén),取出產(chǎn)品。
[0031]至此,本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施例的一種電容觸摸屏的30制造完成。
[0032]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,凡依本發(fā)明申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所做的均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于,所述電容觸摸屏包含: 一基板層,用于承接其它材料或?qū)樱? 一屏蔽層,所述屏蔽層設(shè)置于所述基板層下側(cè),用于屏蔽所述觸摸屏之外的電子設(shè)備,防止電磁干擾,保證良好的工作環(huán)境; 一工作層,所述工作層設(shè)置于所述基板層另一側(cè),用于檢測(cè)電位觸摸點(diǎn)位置; 一保護(hù)層,所述保護(hù)層為一絕緣介質(zhì),設(shè)置于所述工作層表面,使接觸點(diǎn)與所述工作層形成耦合電容;其中, 所述屏蔽層是采用3D打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層; 所述工作層包括一級(jí)導(dǎo)電層和二級(jí)導(dǎo)電層;所述二級(jí)導(dǎo)電層作用在于檢測(cè)觸摸點(diǎn),所述一級(jí)導(dǎo)電層為狹長(zhǎng)的電極引線(xiàn),所述電極引線(xiàn)一端連接所述二級(jí)導(dǎo)電層的四角,另一端連接外界驅(qū)動(dòng)電路;其中, 所述一級(jí)導(dǎo)電層是采用3D打印一層或若干層的金屬導(dǎo)電材料所構(gòu)成的導(dǎo)電層; 所述二級(jí)導(dǎo)電層是采用3D打印一層或若干層的導(dǎo)電材料所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層; 所述保護(hù)層是采用3D打印一層或若干層的絕緣材料所構(gòu)成的透明層; 所述電容觸摸屏為表面電容觸摸屏,當(dāng)手指輕觸所述觸摸屏,并與工作層形成耦合電容,吸走交流電流,電流分別從四角上的電極流出,根據(jù)四角電流強(qiáng)弱,進(jìn)行計(jì)算觸摸點(diǎn)的位置,其特征在于,所述3D制造步驟如下: 51:依次設(shè)計(jì)生成所述電容觸摸屏中的所述屏蔽層、第一電極層、第二電極層和保護(hù)層的三維數(shù)字模型;; 52:利用軟件對(duì)所建立的所述屏蔽層、第一電極層、第二電極層和保護(hù)層三維模型依次進(jìn)行分層,獲得Z軸方向的二維子層; 53:將所述二維子層導(dǎo)入3D打印機(jī)程序中,根據(jù)所建模型得出每層二維平面上的材料和形狀,設(shè)計(jì)出打印路徑; 54:將所述基板層放在3D打印裝置臺(tái)面上,在其一面上打印所述屏蔽層;所述屏蔽層,打印可以是圖案,也可以是整面;所述屏蔽層,包括一個(gè)或多個(gè)3D打印子層; 55:翻轉(zhuǎn)基板,在所述基板層另一面打印工作層,根據(jù)所述三維數(shù)字模型,內(nèi)部打印所述二級(jí)導(dǎo)電層,外側(cè)打印所述一級(jí)導(dǎo)電層;所述一級(jí)導(dǎo)電層或二級(jí)導(dǎo)電層包括一層或多層3D打印子層,所述一級(jí)導(dǎo)電層與所述二級(jí)導(dǎo)電層可以存在高度差;所述四角的電極引到所述觸摸屏的一側(cè),并連接于外接引線(xiàn); 56:繼續(xù)打印保護(hù)層,所述保護(hù)層為透明絕緣介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:在同一基板上打印一個(gè)觸摸屏或多個(gè)觸摸屏陣列,所述多個(gè)觸摸屏陣列采用切割的方式進(jìn)行分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:所述屏蔽層為透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀,或?yàn)槊鏍罱Y(jié)構(gòu);所述網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述面狀結(jié)構(gòu)導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:所述透明導(dǎo)電層包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:所述一級(jí)導(dǎo)電層為金屬或金屬氧化物材料組成;所述一級(jí)導(dǎo)電層的形狀為網(wǎng)格狀、條狀或面狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:所述二級(jí)導(dǎo)電層為透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)為有序網(wǎng)格狀或無(wú)序網(wǎng)格狀,或?yàn)槊鏍罱Y(jié)構(gòu);所述網(wǎng)格狀導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料或非透明導(dǎo)電材料構(gòu)成;所述面狀結(jié)構(gòu)導(dǎo)電層由透明導(dǎo)電材料構(gòu)成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種電容觸摸屏的3D制造方法,其特征在于:所述透明導(dǎo)電層包括金屬納米顆粒、金屬量子點(diǎn)、金屬氧化物、石墨烯、碳納米管、金屬納米線(xiàn)中的一種或兩種及其以上復(fù)合而成。
【文檔編號(hào)】G06F17/50GK104407750SQ201410237625
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年5月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月31日
【發(fā)明者】郭太良, 張永愛(ài), 周雄圖, 葉蕓, 林金堂, 林志賢, 林銻杭, 林婷 申請(qǐng)人:福州大學(xué)