電容觸摸屏及其制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種電容觸摸屏及其制造方法，涉及觸摸屏領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有電容觸摸屏中的白色光阻透光率較高無(wú)法遮蔽金屬觸控層引線的問(wèn)題。本發(fā)明實(shí)施例提供的電容觸摸屏，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的引線在所述基板上的投影。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種電容觸摸屏的制造方法。
【專(zhuān)利說(shuō)明】電容觸摸屏及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏領(lǐng)域，尤其涉及電容觸摸屏及其制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，OGS(One Glass Solut1n,單片玻璃式)電容觸摸屏技術(shù)較目前主流的G/6(81388/^1388,玻璃/玻璃)電容觸摸屏技術(shù)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、輕、薄、透光性好等優(yōu)點(diǎn)；由于省掉一片玻璃基板以及一道貼合工序，OGS電容觸摸屏還具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品良率高等優(yōu)點(diǎn)。因此，OGS電容觸摸屏具有廣闊的市場(chǎng)前景。
[0003]OGS電容觸摸屏包括位于屏幕中心的顯示區(qū)域和位于屏幕邊緣并環(huán)繞顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域。OGS電容觸摸屏在制造過(guò)程中，會(huì)在位于屏幕最外層的基板上的非顯示區(qū)域形成黑色光阻，以遮蔽形成在黑色光阻層下方、位于屏幕內(nèi)層的金屬觸控層引線。出于產(chǎn)品美觀的考慮，市場(chǎng)上還出現(xiàn)了一種白色光阻替代黑色光阻的OGS電容觸摸屏。
[0004]但是，由于白色光阻的透光率較高，即便是將光阻層制作的非常厚也無(wú)法使透光率達(dá)到理想值，造成了用戶(hù)透過(guò)白色光阻看到金屬觸控層引線，無(wú)法實(shí)現(xiàn)遮蔽金屬觸控層引線的作用。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種電容觸摸屏及制造方法，解決了現(xiàn)有的電容觸摸屏中的白色光阻透光率較高無(wú)法遮蔽金屬觸控層引線的問(wèn)題。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]—種電容觸摸屏，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
[0008]優(yōu)選地，所述反射層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影與所述金屬觸控層的引線的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影之間的距離不小于0.5mm。
[0009]具體地，所述白色光阻層在所述基板上的投影覆蓋所述反射層在所述基板上的投影。
[0010]更進(jìn)一步地，所述白色光阻層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影與所述反射層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影之間的距離為10-20 μ m。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述反射層由非導(dǎo)電的材料制成。
[0012]可選地，所述電容觸摸屏，還包括絕緣層，形成在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上。
[0013]更進(jìn)一步地，所述反射層由導(dǎo)電金屬材料制成。
[0014]一種觸控顯示裝置，其特征在于，包括上述電容觸摸屏。
[0015]一種電容觸摸屏的制造方法，包括如下步驟:
[0016]在基板上形成白色光阻材料層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含白色光阻層的圖形；
[0017]在形成包含白色光阻層的圖形的所述基板上形成反射材料層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含反射層的圖形；所述反射層形成在所述白色光阻層上；
[0018]在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
[0019]更進(jìn)一步地，所述的制造方法，在所述形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:
[0020]在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成金屬觸控材料層；[0021 ] 通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
[0022]可選地，所述的制造方法，在所述形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:
[0023]在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成絕緣層；
[0024]在所述絕緣層上形成金屬觸控材料層；
[0025]通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例提供的電容觸摸屏及制造方法，通過(guò)在白色光阻層上和金屬觸控層的引線之間設(shè)置反射層，且反射層在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線在基板上的投影，當(dāng)穿過(guò)金屬觸控層的引線的光線到達(dá)反射層時(shí)，被反射層反射，不能經(jīng)由白色光阻層射出屏幕，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層和反射層看到金屬觸控層的引線，從而達(dá)到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0027]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0028]圖1A-1C為本發(fā)明實(shí)施例2中提供的電容觸摸屏的制造方法中各步驟形成結(jié)構(gòu)的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2A-2D為本發(fā)明實(shí)施例3中提供的電容觸摸屏的制造方法中各步驟形成結(jié)構(gòu)的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0031]實(shí)施例1
[0032]本實(shí)施例提供了一種電容觸摸屏，如圖2D所示，包括形成在基板11上的白色光阻層12和金屬觸控層的引線15，還包括形成在白色光阻層12和金屬觸控層的引線15之間的反射層13，反射層13在基板11上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板11上的投影。
[0033]本實(shí)施例提供的電容觸摸屏中，通過(guò)在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設(shè)置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當(dāng)穿過(guò)引線15的光線al到達(dá)反射層13時(shí)，被反射層13反射，不能經(jīng)由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達(dá)到了遮蔽金屬觸控層引線的目的，該結(jié)構(gòu)尤其適用于單片玻璃式電容觸摸屏結(jié)構(gòu)中。
[0034]上述電容觸摸屏中，反射層13的內(nèi)側(cè)邊緣在基板11上的投影與金屬觸控層的引線15的內(nèi)側(cè)邊緣在基板11上的投影之間的距離d2優(yōu)選不小于0.5mm,反射層13的投影區(qū)域不但可以完全遮住引線15的投影區(qū)域，而且超出了引線15的投影區(qū)域，因此，該距離范圍的設(shè)置更保證了用戶(hù)不能看到引線15。在實(shí)際生產(chǎn)中，該距離的大小只要滿(mǎn)足用戶(hù)不能看到引線即可，在此對(duì)該距離的最大值不做限定。
[0035]上述電容觸摸屏中，白色光阻層12在基板11上的投影優(yōu)選覆蓋反射層13在基板11上的投影。反射層13投影的區(qū)域與白色光阻層12投影的區(qū)域可以完全相同；當(dāng)然，反射層13投影的區(qū)域也可以小于白色光阻層12投影的區(qū)域，理想情況是反射層13投影的區(qū)域稍小于白色光阻層12投影的區(qū)域，白色光阻層12的內(nèi)側(cè)邊緣在基板11上的投影與反射層13的內(nèi)側(cè)邊緣在基板11上的投影之間的距離dl可以為10-20 μ m。這樣，在刻蝕形成反射層13時(shí)，就不需要嚴(yán)格控制反射層13的邊緣與白色光阻層12的邊緣對(duì)齊，從而降低了刻蝕工藝的操作難度。
[0036]若反射層13投影超出白色光阻層12投影的覆蓋范圍，在白色光阻層12的覆蓋范圍內(nèi)，經(jīng)反射層13反射的光線經(jīng)過(guò)白色光阻層12時(shí)，由于白色光阻層12的遮光作用，只有部分光線可以射出屏幕；在反射層13超出白色光阻層覆蓋范圍的部分，經(jīng)反射層13反射的光線沒(méi)有白色光阻層12的遮擋而全部射出屏幕，使得該部分的亮度相對(duì)較高，形成亮邊，而影響美觀，因此需要使白色光阻層12在基板11上的投影覆蓋反射層13在基板11上的投影。
[0037]上述電容觸摸屏中，反射層13既可以由導(dǎo)電材料制成，也可以由非導(dǎo)電的材料制成，該非導(dǎo)電材料可以為鏡面油墨，因鏡面油墨是以特殊的鋁粉顏料和少量的樹(shù)脂等基本材料組成，且鋁粉顏料屬片狀，在表面平行排列得到鏡面反射的性能，因此可起到對(duì)光線進(jìn)行反射的效果。該材料可通過(guò)印刷方式形成在基板上。如上所述，電容觸摸屏還包括形成在反射層13上的金屬觸控層的引線15，金屬觸控層是能夠?qū)崿F(xiàn)觸控功能的金屬線路層，包括位于顯示區(qū)的觸控功能部分(圖中未示出)和位于非顯示區(qū)的引線15。引線15形成在反射層13上，使得反射層13可以遮蔽屏幕內(nèi)層的引線15，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層12而看到屏幕內(nèi)層的引線15。
[0038]當(dāng)反射層13采用非導(dǎo)電的材料時(shí)，金屬觸控層就可以在形成有反射層13的基板上直接制作，從而使引線15與反射層13直接接觸，由于反射層不導(dǎo)電，因此不會(huì)對(duì)引線產(chǎn)生任何影響。而當(dāng)反射層13采用導(dǎo)電材料時(shí)，該導(dǎo)電材料可以是金屬鋁(Al)、金屬鑰(Mo)或者鑰鈮(MoNb)和鋁釹(AlNd)合金等材料，為了避免形成的引線15與反射層13直接接觸而影響引線15性能，則必須采用額外步驟將引線15與反射層13電絕緣，如下面介紹的在形成反射層13的基板上形成絕緣層后再形成引線15，但采用額外步驟會(huì)增加電容觸摸屏的制備成本，因此優(yōu)選反射層13采用非導(dǎo)電的材料制成。
[0039]如上所述，電容觸摸屏還可以包括絕緣層14，其形成在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上。也就是說(shuō)，絕緣層14位于反射層13和金屬觸控層的引線15之間.絕緣層14通常由絕緣材料制成，除了具有絕緣作用，還可以保護(hù)反射層13和白色光阻層12，并使形成有反射層13和白色光阻層12的基板表面平整。這樣，對(duì)后續(xù)形成的金屬觸控層進(jìn)行光刻以形成引線時(shí)，就可以避免爬坡困難、光刻對(duì)位困難等問(wèn)題。
[0040]當(dāng)電容觸摸屏形成有絕緣層14時(shí)，其下方的反射層13既可以采用導(dǎo)電材料，也可以采用非導(dǎo)電的材料，當(dāng)然，優(yōu)選的是采用非導(dǎo)電材料。采用導(dǎo)電材料時(shí)，設(shè)置絕緣層不僅能使基板平整，從而避免后續(xù)形成引線時(shí)的爬坡困難、光刻對(duì)位困難等問(wèn)題，還能避免反射層與引線直接接觸影響引線的電性能。
[0041]需要說(shuō)明的是，當(dāng)反射層采用導(dǎo)電材料時(shí)，由于引線15與反射層13之間只隔了一層絕緣的絕緣層14，引線15與金屬反射層13之間形成了較大的寄生電容，影響了觸摸屏的靠近非顯示區(qū)的觸控性能，對(duì)此問(wèn)題，可以采用集成電路補(bǔ)償?shù)姆绞?，通過(guò)軟件對(duì)邊緣區(qū)域異常的點(diǎn)進(jìn)行補(bǔ)償或屏蔽。
[0042]本實(shí)施例還提供一種觸控顯示裝置，包括上述實(shí)施例描述的電容觸摸屏。
[0043]由于該電容觸摸屏中的金屬觸控層弓I線被遮蔽，因此該觸控顯示裝置中的金屬觸控層引線也被遮蔽。
[0044]實(shí)施例2
[0045]本實(shí)施例提供一種用于制造實(shí)施例1的電容觸摸屏的方法，如圖1A-1C，需要說(shuō)明的是，圖1A-1C與圖1中相同的結(jié)構(gòu)具有相同的附圖標(biāo)記。該制造方法具體包括如下步驟:
[0046]S21、在基板11上形成白色光阻材料層，如圖1A所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含白色光阻層12的圖形。
[0047]S22、在形成包含白色光阻層12的圖形的基板11上形成反射材料層，如圖1B所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含反射層13的圖形；反射層13形成在白色光阻層12上。
[0048]S23、如圖1C所示，在形成包含反射層13的圖形的基板11上形成金屬觸控層的引線15，反射層13在基板11上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板11上的投影。
[0049]需要說(shuō)明的是，本發(fā)明所有實(shí)施例中描述的構(gòu)圖工藝均可以包括:在基板上涂敷光刻膠，將掩膜板遮蓋在涂敷了光刻膠的基板上，曝光、顯影之后，進(jìn)行刻蝕，最后剝離光刻膠。
[0050]本實(shí)施例提供的電容觸摸屏中，通過(guò)在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設(shè)置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當(dāng)經(jīng)過(guò)金屬觸控層的引線15的光線al到達(dá)反射層13時(shí)，被反射層13反射，不能經(jīng)由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達(dá)到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。
[0051]本實(shí)施例提供的制造方法中，反射層13既可以由導(dǎo)電材料制成，也可以由非導(dǎo)電的材料制成。當(dāng)反射層13是非導(dǎo)電的反射材料時(shí)，上述制造方法中，步驟S23中在形成包含反射層13的圖形的基板11上形成金屬觸控層的引線15可以具體包括:在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上形成導(dǎo)電的金屬觸控材料層；如圖1C所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線15的圖形。
[0052]如上所述，金屬觸控層是能夠?qū)崿F(xiàn)觸控功能的金屬線路層，包括位于顯示區(qū)的觸控功能部分(圖中未示出)和位于非顯示區(qū)的引線15。引線15形成在反射層13上，使得反射層13可以遮蔽屏幕內(nèi)層的引線15，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層12而看到屏幕內(nèi)層的引線15。
[0053]當(dāng)反射層13采用導(dǎo)電材料時(shí)，為了避免形成的引線15與反射層13直接接觸而影響引線15性能，可以采用額外步驟將引線15與反射層13電絕緣，如下面的實(shí)施例3介紹的在形成反射層13的基板上形成絕緣層后再形成引線15。
[0054]實(shí)施例3
[0055]本實(shí)施例提供一種用于制造實(shí)施例1的電容觸摸屏的方法，如圖2A-2D，需要說(shuō)明的是，圖2A-2D與圖1中相同的結(jié)構(gòu)具有相同的附圖標(biāo)記。所述制造方法具體包括如下步驟:
[0056]S31、在基板11上形成白色光阻材料層，如圖2A所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含白色光阻層12的圖形。
[0057]S32、在形成包含白色光阻層12的圖形的基板11上形成反射材料層，如圖2B所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含反射層13的圖形；反射層13形成在白色光阻層12上。
[0058]S33、如圖2C所示，在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上形成絕緣層14。
[0059]S34、在絕緣層14上形成金屬觸控材料層。
[0060]S35、如圖2D所示，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線15的圖形。
[0061]本實(shí)施例提供的電容觸摸屏中，通過(guò)在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設(shè)置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當(dāng)經(jīng)過(guò)金屬觸控層的引線15的光線al到達(dá)反射層13時(shí)，被反射層13反射，不能經(jīng)由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶(hù)不能透過(guò)白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達(dá)到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。
[0062]本實(shí)施例中，絕緣層14通常由絕緣材料制成，除了具有絕緣作用，還可以保護(hù)反射層13和白色光阻層12，并使形成有反射層13和白色光阻層12的基板表面平整。這樣，對(duì)后續(xù)形成的金屬觸控層進(jìn)行光蝕以形成引線時(shí)，就可以避免爬坡困難、光刻對(duì)位困難等問(wèn)題。
[0063]引線15形成在絕緣層14上，引線15與反射層13之間由于間隔了絕緣層而電絕緣，避免了形成的引線15與導(dǎo)電的反射層13直接接觸而影響引線15性能。
[0064]需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例提供的制造方法中，反射層13既可以由導(dǎo)電材料制成，也可以由非導(dǎo)電的材料制成，優(yōu)選的是采用非導(dǎo)電材料。采用導(dǎo)電材料時(shí)，設(shè)置絕緣層不僅能使基板平整，從而避免后續(xù)形成引線時(shí)的爬坡困難、光刻對(duì)位困難等問(wèn)題，還能避免反射層與引線直接接觸影響引線的電性能。
[0065]如果反射層采用導(dǎo)電材料，由于引線15與反射層13之間只隔了一層絕緣的絕緣層14，引線15與金屬反射層13之間形成了較大的寄生電容，影響了觸摸屏的靠近非顯示區(qū)的觸控性能，對(duì)此問(wèn)題，可以采用集成電路補(bǔ)償?shù)姆绞剑ㄟ^(guò)軟件對(duì)邊緣區(qū)域異常的點(diǎn)進(jìn)行補(bǔ)償或屏蔽。
[0066]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為o -1i I
【權(quán)利要求】
1.一種電容觸摸屏，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，其特征在于，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏，其特征在于，所述反射層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影與所述金屬觸控層的引線的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影之間的距離不小于0.5mmο
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏，其特征在于，所述白色光阻層在所述基板上的投影覆蓋所述反射層在所述基板上的投影。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電容觸摸屏，其特征在于，所述白色光阻層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影與所述反射層的內(nèi)側(cè)邊緣在所述基板上的投影之間的距離為10-20 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏，其特征在于，所述反射層由非導(dǎo)電的材料制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容觸摸屏，其特征在于，還包括絕緣層，形成在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電容觸摸屏，其特征在于，所述反射層由導(dǎo)電金屬材料制成。
8.—種觸控顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的電容觸摸屏。
9.一種電容觸摸屏的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 在基板上形成白色光阻材料層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含白色光阻層的圖形； 在形成包含白色光阻層的圖形的所述基板上形成反射材料層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含反射層的圖形；所述反射層形成在所述白色光阻層上； 在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成金屬觸控材料層； 通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括: 在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成絕緣層； 在所述絕緣層上形成金屬觸控材料層； 通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK104331201SQ201410598383
【公開(kāi)日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年10月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月29日
【發(fā)明者】謝濤峰, 張雷, 吳玲艷, 劉洋 申請(qǐng)人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司