曝光機文件自動檢查系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，系統(tǒng)包括：光刻曝光機文件建立條件信息模塊、光罩信息模塊、曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊和數(shù)據(jù)處理模塊；光罩信息模塊中存儲有光罩信息，曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中存儲有曝光機文件，曝光機文件建立條件信息模塊中存儲有建立曝光機文件時所需條件的參數(shù)信息；數(shù)據(jù)處理模塊調(diào)取光罩信息模塊中存儲的光罩信息，并根據(jù)該光罩信息調(diào)取存儲于曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中的曝光機文件，數(shù)據(jù)處理模塊同時調(diào)取曝光機文件建立條件信息模塊中的參數(shù)信息后，將曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的參數(shù)信息進行比對，并將比對結(jié)果進行輸出。本發(fā)明系統(tǒng)能夠提高曝光機文件的正確率和工作效率。
【專利說明】曝光機文件自動檢查系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝制程檢查系統(tǒng)，尤其涉及一種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，使得其制備工藝也變得越來越復(fù)雜。
[0003]通常在半導(dǎo)體器件的制備過程中，會經(jīng)歷很多次的光刻工藝，每一次的光刻工藝都包含一次曝光制程，所以，在半導(dǎo)體器件的制造過程中，會經(jīng)過十幾次甚至幾十次的曝光制程。在每一次的曝光制程中，都需要先確定曝光制程的相關(guān)參數(shù)，而以一套曝光機文件40層來計算，需要輸出確認的參數(shù)大致上有四千多個，并且這些參數(shù)通常是包含有正負號的精確到小數(shù)點后三位的數(shù)字。如果在輸入?yún)?shù)時出現(xiàn)任何差錯，就會導(dǎo)致曝光制程出現(xiàn)問題，具體體現(xiàn)在以下幾個方面:
[0004](I)曝光機拒絕對晶圓進行加工(reject wafer)；
[0005](2)晶圓返工重跑；
[0006](3)整個產(chǎn)品線上的晶圓進行報廢。
[0007]可以看出，如果在曝光制程中稍有差錯，輕則造成晶圓的加工停滯或者返工，重則引起大量的晶圓報廢，這無論是在成本上和生產(chǎn)進度都是不利的，所以確保曝光參數(shù)的輸入準確性是十分必要也是十分有現(xiàn)實意義的。
[0008]目前，對于曝光參數(shù)的輸入和建立大多為工程師手動進行，并且在信息輸入之后并沒有相關(guān)的檢查機制，這樣就會導(dǎo)致工程師可能在龐大的輸入數(shù)據(jù)壓力下出錯。
[0009]雖然業(yè)界已經(jīng)有ASML廠家研發(fā)出一種使曝光機文件脫離于其曝光機本身以及服務(wù)器而生成的軟件，但是由于其內(nèi)部參數(shù)定義及其復(fù)雜，操作人員需要花費很多時間去掌握其使用方法，并且運算速度相對較慢，需要花費很多的時間，所以在實際生產(chǎn)過程中并不是十分具有實用性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]鑒于上述問題，本發(fā)明提供一種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)。
[0011]本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為:
[0012]—種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，所述系統(tǒng)包括:光刻曝光機文件建立條件信息模塊、光罩信息模塊、曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊和數(shù)據(jù)處理模塊；
[0013]所述光罩信息模塊中存儲有光罩信息，所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中存儲有曝光機文件，所述曝光機文件建立條件信息模塊中存儲有建立曝光機文件時所需條件的參數(shù)信息；
[0014]所述數(shù)據(jù)處理模塊調(diào)取光罩信息模塊中存儲的光罩信息，并根據(jù)該光罩信息調(diào)取存儲于所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中的曝光機文件，所述數(shù)據(jù)處理模塊同時調(diào)取曝光機文件建立條件信息模塊中的參數(shù)信息后，將曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息進行比對，并將比對結(jié)果進行輸出。
[0015]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，當所述曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息一致，所述數(shù)據(jù)處理模塊輸出比對結(jié)果正確；
[0016]當所述曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息不一致，所述數(shù)據(jù)處理模塊輸出比對結(jié)果不正確。
[0017]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，所述系統(tǒng)還包括操作終端，通過所述操作終端將所述曝光機文件輸入至所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中。
[0018]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，通過所述操作終端對所述比對結(jié)果進行顯不。
[0019]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，所述數(shù)據(jù)處理模塊中設(shè)置有批量處理單元，通過所述批量處理單元同時調(diào)取若干個曝光機文件。
[0020]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，采用宏處理單元作為所述批量處理單元。
[0021]所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其中，通過所述操作終端，采用Excel VBA工具對所述宏處理單元寫入宏命令。
[0022]上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點或有益效果:
[0023]本發(fā)明的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)通過光刻曝光機文件建立條件信息模塊、光罩信息模塊和曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊將原本完全獨立的光刻曝光機建立條件信息、光罩信息和曝光機文件三者相互聯(lián)系起來，并通過數(shù)據(jù)處理模塊將上述三個模塊內(nèi)的信息進行整合和比對，以實現(xiàn)對曝光機文件的自動檢查，從而及時發(fā)現(xiàn)錯誤的曝光機文件，便于對錯誤的曝光機文件進行及時的修改，避免了因錯誤的曝光機文件進行產(chǎn)品加工而產(chǎn)生的返工等問題，進而提高了曝光機文件的正確率和工作效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]參考所附附圖，以更加充分的描述本發(fā)明的實施例。然而，所附附圖僅用于說明和闡述，并不構(gòu)成對本發(fā)明范圍的限制。
[0025]圖1是本發(fā)明曝光機文件自動檢查系統(tǒng)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2是本發(fā)明實施例中數(shù)據(jù)處理模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0027]本發(fā)明提供一種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，可用于技術(shù)節(jié)點為大于等于130nm、90nm、65/55nm、45/40nm、32/28nm或小于等于22nm等的工藝中；本發(fā)明同時可用于Logic、Memory、RF、HV> Analog/Power、MEMS> CIS、Flash、eFlash 或 Package 等技術(shù)平臺中。
[0028]本發(fā)明的主要思想是通過曝光機文件自動檢查系統(tǒng)將DS (design service)光罩信息、光刻曝光機文件建立條件信息和曝光機文件這三個完全獨立的信息相互關(guān)聯(lián)起來，并運用自動化的系統(tǒng)來對曝光機文件進行檢查。
[0029]下面對本發(fā)明系統(tǒng)進行詳細說明。
[0030]本發(fā)明的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)包括:操作終端、光刻曝光機文件建立條件信息模塊、光罩信息模塊、曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊、數(shù)據(jù)處理模塊。其中，操作終端用于讓工程師對曝光機文件自動檢查系統(tǒng)進行啟動、停止以及其它相關(guān)的操作選擇，操作終端還能夠?qū)⑾到y(tǒng)內(nèi)的信息進行顯示；光刻曝光機文件建立條件信息模塊中存放有用于建立曝光機文件相關(guān)條件參數(shù)的信息；光罩信息模塊中存放有針對不同曝光工藝所需要光罩的光罩信息；曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊用于建立或產(chǎn)生曝光機文件以及導(dǎo)出建立的曝光機文件，該曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊的終端優(yōu)選為曝光機臺自帶的服務(wù)器；數(shù)據(jù)處理模塊用于進行相關(guān)比對等運算操作。
[0031]上述的若干模塊之間的信息傳遞關(guān)系通過如下方式實現(xiàn):
[0032]通過操作終端啟動曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，數(shù)據(jù)處理模塊調(diào)取光罩信息模塊中的光罩信息，并根據(jù)該光罩信息調(diào)取存儲于曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中的曝光機文件，同時調(diào)取曝光機文件建立條件信息模塊中的參數(shù)信息，然后，數(shù)據(jù)處理模塊將曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的參數(shù)信息進行比對，并將比對結(jié)果進行輸出，輸出的比對結(jié)果由一個普通的輸出終端進行輸出，如普通微型機等。
[0033]當數(shù)據(jù)處理模塊將曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與從曝光機文件建立條件信息模塊中調(diào)取的參數(shù)信息進行比對后，如果該曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與從曝光機文件建立條件信息模塊中調(diào)取的參數(shù)信息一致，那么輸出正確的結(jié)果，即經(jīng)過檢查后，可以確定建立的曝光機文件為正確；反之，如果該曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與從曝光機文件建立條件信息模塊中調(diào)取的參數(shù)信息不一致，那么則輸出錯誤的結(jié)果，即經(jīng)過檢查后，可以確定建立的曝光機文件為錯誤。
[0034]這樣，通過上述系統(tǒng)就能對工程師人為建立的曝光機文件進行自動化的檢查，以及時發(fā)現(xiàn)工程師在建立大量的曝光機文件時可能建立的錯誤的曝光機文件，然后及時采取相應(yīng)的措施以避免更大的損失。
[0035]進一步的，可將批處理的理念應(yīng)用于上述系統(tǒng)中，使得可以同時對多個已建立的曝光機文件一起進行檢查，并且檢查結(jié)果也會一同進行輸出，為了達到上述功能，在本發(fā)明的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)中的數(shù)據(jù)處理模塊中還設(shè)置有一個批量處理單元，該批量處理單元能夠同時將多個曝光機文件進行調(diào)取，并且依次對多個曝光機文件進行檢查后，對該多個曝光機文件的檢查結(jié)果一同進行輸出。對于該批量處理單元可優(yōu)選采用宏處理單元。可以采用帶有宏運算功能的工具對該宏處理單元進行宏命令的寫入，其中，可優(yōu)選采用Excel VBA工具進行宏命令的寫入。
[0036]下面通過一實施例對本發(fā)明具有批量處理能力的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)的使用方法進行說明。
[0037]通過操作終端對建立曝光機文件相關(guān)條件的參數(shù)信息進行整理，產(chǎn)生宏運行模板文件，然后將光罩信息輸入到該模板文件中，工程師根據(jù)建立曝光機文件相關(guān)條件的參數(shù)信息和光罩信息手動輸入曝光機文件(即建立曝光機文件)，然后運行宏，以對建立的曝光機文件進行檢查，在運行宏的過程中可以選取若干曝光機文件進行檢查，最后通過宏運行模板反饋出檢查結(jié)果。
[0038]綜上所述，本發(fā)明的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)通過對DS光罩信息、曝光機文件建立條件參數(shù)信息和曝光機文件三者進行關(guān)聯(lián)，使得對建立的曝光機文件進行自動化檢查成為可能。并且，由于本系統(tǒng)還能夠?qū)ζ毓鈾C文件進行批量的檢查，并能夠?qū)z查的結(jié)果進行批量地輸出，這可以使工程師對大量的曝光機文件中的錯誤文件和正確文件一目了然，從而可以方便、及時地對錯誤的曝光機文件進行發(fā)現(xiàn)和處理，提高了曝光機文件建立的正確率和工作效率。
[0039]對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，閱讀上述說明后，各種變化和修正無疑將顯而易見。因此，所附的權(quán)利要求書應(yīng)看作是涵蓋本發(fā)明的真實意圖和范圍的全部變化和修正。在權(quán)利要求書范圍內(nèi)任何和所有等價的范圍與內(nèi)容，都應(yīng)認為仍屬本發(fā)明的意圖和范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括:光刻曝光機文件建立條件信息模塊、光罩信息模塊、曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊和數(shù)據(jù)處理模塊； 所述光罩信息模塊中存儲有光罩信息，所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中存儲有曝光機文件，所述曝光機文件建立條件信息模塊中存儲有建立曝光機文件時所需條件的參數(shù)信息； 所述數(shù)據(jù)處理模塊調(diào)取光罩信息模塊中存儲的光罩信息，并根據(jù)該光罩信息調(diào)取存儲于所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中的曝光機文件，所述數(shù)據(jù)處理模塊同時調(diào)取曝光機文件建立條件信息模塊中的參數(shù)信息后，將曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息進行比對，并將比對結(jié)果進行輸出。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，當所述曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息一致，所述數(shù)據(jù)處理模塊輸出比對結(jié)果正確； 當所述曝光機文件建立所需要更改的參數(shù)與調(diào)取的所述參數(shù)信息不一致，所述數(shù)據(jù)處理模塊輸出比對結(jié)果不正確。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括操作終端，通過所述操作終端將所述曝光機文件輸入至所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊中。
4.如權(quán)利要求1所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，通過一微型機對所述比對結(jié)果進行顯示。
5.如權(quán)利要求4所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理模塊中設(shè)置有批量處理單元，通過所述批量處理單元同時調(diào)取若干個曝光機文件。
6.如權(quán)利要求5所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，采用宏處理單元作為所述批量處理單元。
7.如權(quán)利要求6所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，通過所述操作終端，采用Excel VBA工具對所述宏處理單元寫入宏命令。
8.如權(quán)利要求1所述的曝光機文件自動檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光機文件建立/導(dǎo)出模塊的終端為曝光機臺自帶的服務(wù)器。
【文檔編號】G06F11/22GK103617170SQ201310506771
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年10月23日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月23日
【發(fā)明者】趙靜芬, 馬蘭濤, 陳力鈞 申請人:上海華力微電子有限公司