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應(yīng)用于金屬?gòu)?fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法與流程

文檔序號(hào):12910271閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種應(yīng)用于金屬?gòu)?fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法,根據(jù)混合結(jié)構(gòu)的散射特性,目標(biāo)上的總電場(chǎng)等于入射場(chǎng)與散射場(chǎng)之和,均勻平面波通常被用來(lái)作為入射電場(chǎng),散射電場(chǎng)可以用待求的電通密度和感應(yīng)電流密度來(lái)表示;將自由空間中格林函數(shù)基于加法定理展開(kāi),給出遠(yuǎn)場(chǎng)部分的聚合因子,轉(zhuǎn)移因子和配置因子的具體表達(dá)形式;結(jié)合體面積分方程的特性,利用射線(xiàn)追蹤的基本原理,合理的選擇出轉(zhuǎn)移因子中角譜分量大的部分,將角譜分量小的部分舍棄掉;在更高層采用快速遠(yuǎn)場(chǎng)近似的方法計(jì)算遠(yuǎn)場(chǎng)作用;矩陣方程求解以及電磁散射參數(shù)的計(jì)算。本發(fā)明對(duì)于求解金屬?gòu)?fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)散射問(wèn)題需要更少的計(jì)算內(nèi)存以及計(jì)算時(shí)間。

技術(shù)研發(fā)人員:陳如山;丁大志;樊振宏;陶詩(shī)飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者:南京理工大學(xué)
文檔號(hào)碼:201310187609
技術(shù)研發(fā)日:2013.05.20
技術(shù)公布日:2017.11.14

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