技術(shù)特征：
1.一種應(yīng)用于金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法，其特征在于，具體步驟如下：第一步，根據(jù)混合結(jié)構(gòu)的散射特性，用待求的電通密度和感應(yīng)電流密度來表示金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)上的散射電場，目標(biāo)上的總電場等于入射場與散射場之和，入射電場為已知激勵，均勻平面波被用來作為入射電場，其中，ZDD代表介質(zhì)對介質(zhì)的作用，ZDM表示介質(zhì)對金屬的作用，ZMD都表示介質(zhì)和金屬的相互作用部分，ZMM表示金屬對金屬的作用；第二步，將自由空間中格林函數(shù)基于加法定理展開，結(jié)合體面積分方程的表達式，給出遠場部分的聚合因子、轉(zhuǎn)移因子和配置因子的具體表達形式；第三步，利用射線追蹤的基本原理，選擇出轉(zhuǎn)移因子中角譜分量大的部分，舍棄掉角譜分量小的部分；第四步，結(jié)合體面積分方程的特性，在樹形結(jié)構(gòu)更高層采用快速遠場近似的方法計算遠場作用；第五步，矩陣方程求解以及電磁散射參數(shù)的計算。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法，其特征在于，步驟1中，矩陣方程的具體表達形式如下：其中，和分別代表體和面測試基函數(shù)，ω為電磁波角頻率，和分別為和和表示待求的電通量密度和金屬面電流密度，是自由空間的格林函數(shù)；式(1)中右邊向量是由平面波產(chǎn)生的，寫成是入射電場。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法,其特征在于，步驟二中結(jié)合體面積分方程的表達式，給出遠場部分的聚合因子、轉(zhuǎn)移因子和配置因子的具體表達形式的步驟如下：步驟2.1，建立金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的樹形結(jié)構(gòu)；步驟2.2，設(shè)在給定的一層中，任一組m中有一個場點ri，任一組n中有一個源點rj，rm、rn分別是場點組和源點組的中心點；兩個非空組中場點和源點的空間矢量記為：rij＝ri-rj＝rim+rmn+rnj，當(dāng)所分析的場點組和源點組不重合也不相鄰時，滿足|rim+rnj|<|rmn|，自由空間的標(biāo)量格林函數(shù)可在角譜空間寫成：整個積分是定義在單位球SE上的，αmn是兩個組的轉(zhuǎn)移因子，表示如下：其中，jl(kd)為球貝塞函數(shù)，為第二類球漢克爾函數(shù)，為勒讓德函數(shù)；L是無限級數(shù)的截斷長度，L＝kD+β(kD)1/3，D是分組的尺寸，β為精度參數(shù)，β≥2；用(θ，φ)表示單位球SE坐標(biāo)，積分點數(shù)為KL＝2L2，其中在θ方向共采集L個點的一維高斯積分，φ方向共采集2L個點數(shù)的梯形法則積分，單位球SE上的每個積分點都被稱為角譜分量；步驟2.3，給出ZDD、ZMD、ZDM和ZMM聚合因子，轉(zhuǎn)移因子和配置因子的具體表達式分別為：步驟2.4，當(dāng)兩個遠場作用組中心距離和組的大小確定時，將多個轉(zhuǎn)移因子構(gòu)成的轉(zhuǎn)移矩陣加上一個窗函數(shù)：在轉(zhuǎn)移因子上乘上窗函數(shù)使得兩組中心連線方向附近的轉(zhuǎn)移分量的值相對于其它部分轉(zhuǎn)移因子的值有陡峭的變化，舍棄角譜分量小的部分；步驟2.5，θr為兩作用組連線方向與z軸的夾角，φr為兩作用組連線方向向量在XOY面上投影和x軸的夾角，θe為設(shè)定的閾值對應(yīng)的角譜分量方向與兩作用組連線方向的夾角；轉(zhuǎn)移因子角譜分量的大小隨著與遠場作用組中心連線方向的夾角的增大而減小，計算角譜分量方向與兩作用組中心連線方向夾角不大于θe的角譜分量。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于金屬復(fù)雜非均勻媒質(zhì)混合目標(biāo)的電磁散射分析方法,其特征在于，步驟4采用快速遠場近似方法計算遠場作用中，當(dāng)場源之間的距離滿足式(15)的條件時，僅需計算場源連線方向上的角譜分量；組與組之間采用快速遠場近似的判據(jù)條件為：rmn>3γdlevel(15)其中dlevel為該層組的電尺寸，γ為設(shè)置的一個經(jīng)驗值，本發(fā)明中取為1.5。