專利名稱：導(dǎo)電薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種導(dǎo)電薄膜。
背景技術(shù)：
電容觸摸屏以其透明度高，多點(diǎn)觸摸，壽命長等居多優(yōu)點(diǎn)，近年來，越來越受到市場的青睞。目前，通常采用真空蒸鍍或者磁控濺射方式將透明導(dǎo)電材料氧化銦錫(ITO)鍍制在PET或者玻璃基板上形成導(dǎo)電薄膜以應(yīng)用于電容觸摸屏。然而，銦元素是一種稀土元素，在大自然中儲量比較小，價(jià)格比較昂貴，從而使得導(dǎo)電薄膜的成本較高
實(shí)用新型內(nèi)容
基于此，有必要提供一種成本較低的導(dǎo)電薄膜。一種導(dǎo)電薄膜，包括塑料薄膜基材及鋪設(shè)于所述塑料薄膜基材上的金屬網(wǎng)，所述金屬網(wǎng)具有多個(gè)陣列排布的孔洞。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述孔洞為方形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線及多個(gè)相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線垂直相交形成所述孔洞。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述孔洞為菱形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線及多個(gè)相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線傾斜相交形成所述孔洞。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬網(wǎng)的孔洞為正六邊形且呈蜂巢狀。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬網(wǎng)的孔洞為三角形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線、多個(gè)相互平行的第二金屬線及多個(gè)相互平行的第三金屬線，第二金屬線與第一金屬線傾斜相交形成多個(gè)陣列排布的菱形孔，第三金屬線與菱形孔的兩個(gè)相對的端點(diǎn)相交從而將菱形孔分割形成所述三角形的孔洞。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬網(wǎng)的表面形成有抗氧化鍍層。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述塑料薄膜基材的表面還形成具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬網(wǎng)的網(wǎng)線寬度大于等于45nm且小于等于40000nmo在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬網(wǎng)由銅線、銀線、鑰鋁鑰合金線或銅鎳合金線形成。上述導(dǎo)電薄膜，通過在塑料薄膜基材表面鋪設(shè)金屬網(wǎng)，使用時(shí)可以根據(jù)需要將金屬網(wǎng)再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材上形成圖案感應(yīng)層而應(yīng)用于觸控屏中，導(dǎo)電薄膜避免使用氧化銦錫，從而導(dǎo)電薄膜的成本較低。
圖I為一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖I中導(dǎo)電薄膜的金屬網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為另一實(shí)施方式中導(dǎo)電薄膜的金屬網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為另一實(shí)施方式中導(dǎo)電薄膜的金屬網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為另一實(shí)施方式中導(dǎo)電薄膜的金屬網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜的制備方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
為了便于理解本實(shí)用新型，下面將參照相關(guān)附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本實(shí)用新型的首選實(shí)施例。但是，本實(shí)用新型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對本實(shí)用新型的公開內(nèi)容更加透徹全面。需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固設(shè)于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本文所使用的術(shù)語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的。除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實(shí)用新型的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實(shí)用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本實(shí)用新型。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。請參閱圖1，一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜10包括塑料薄膜基材110及鋪設(shè)于塑料薄膜基材Iio上的金屬網(wǎng)120。塑料薄膜基材110表面還形成有具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層(圖未示)。其中，具有防?；蜢F化功能的功能層，由具有防?；蜢F化功能的涂料涂敷形成，涂料里面有金屬氧化物顆粒；具有硬化功能的功能層由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成；具有增透功能的功能層為二氧化鈦鍍層、氟化鎂鍍層或氟化鈣鍍層。功能層可以選擇性的設(shè)置于塑料薄膜基材110的一側(cè)表面或兩側(cè)相對的表面。優(yōu)選的，功能層形成于塑料薄膜基材110遠(yuǎn)離金屬網(wǎng)110的一側(cè)表面，即金屬網(wǎng)110及功能層分別鋪設(shè)于塑料薄膜基材110的兩個(gè)相對的表面。需要說明的是，當(dāng)塑料薄膜基材110的表面具有功能層時(shí)，金屬網(wǎng)120形成于功能層的表面。請同時(shí)參閱圖2，金屬網(wǎng)120形成于塑料薄膜基材110的表面。金屬網(wǎng)120具有多個(gè)陣列排布的孔洞121。本實(shí)施方式中，多個(gè)孔洞121的形狀及大小均相同。本實(shí)施方式中，孔洞121為正方形。金屬網(wǎng)120包括多個(gè)相互平行的第一金屬線123及多個(gè)相互平行的第二金屬線125，第一金屬線123與第二金屬線125垂直相交形成多個(gè)陣列排布的正方形的孔洞321。本實(shí)施方式中，金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線即第一金屬線123及第二金屬線125為銅線、銀線、鑰鋁鑰合金線或銅鎳合金線。為了防止金屬網(wǎng)120氧化，還可以在金屬網(wǎng)120的表面形成抗氧化層?？寡趸瘜拥牟牧蠟榻?、鉬、鎳或鎳金合金等惰性金屬。[0029]金屬網(wǎng)120的厚度大于等于45nm且小于等于40000nm。金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度D大于等于45nm且小于等于40000nm。需要說明的是，金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線的寬度D對觸控屏10的分辨率會(huì)有影響，當(dāng)金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度D過大時(shí)，肉眼可以看到網(wǎng)線，從而會(huì)影響觸控屏10的分辨率。優(yōu)選的，金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度大于等于45nm且小于等于5000nm。為了保證觸控屏10對信號的敏感性，則金屬網(wǎng)120的開口率K與導(dǎo)電薄膜10的透過率T1以及塑料薄膜基材的透過率T2之間存在如下關(guān)系=T1 = τ2*κ。由此可以根據(jù)導(dǎo)電薄膜10的設(shè)計(jì)光學(xué)透過率計(jì)算出滿足條件的金屬網(wǎng)120的開口率。以下以金屬網(wǎng)120的孔洞121為正方形為例進(jìn)行說明。金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度為D，金屬網(wǎng)120的孔洞121的開口寬度為L。金屬網(wǎng)120可以看作由多個(gè)邊長為D+L的晶胞組成，金屬網(wǎng)120的開口率K =孔洞121的面積除以晶胞的面積。具體在本實(shí)施方式中，K=L2/(L+D)2。 上述導(dǎo)電薄膜10中，在塑料薄膜基材110表面鋪設(shè)金屬網(wǎng)120，使用時(shí)可以根據(jù)需要將金屬網(wǎng)再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材110上形成圖案感應(yīng)層而應(yīng)用于觸控屏中，導(dǎo)電薄膜10避免使用氧化銦錫，從而導(dǎo)電薄膜10的成本較低；同時(shí)，金屬網(wǎng)的透過率較高，且導(dǎo)電薄膜10的柔韌性較好；導(dǎo)電薄膜10的方塊電阻較低，可以達(dá)到I歐姆/ 口 ；導(dǎo)電薄膜10的透過率可以通過控制金屬網(wǎng)120的開口率及塑料薄膜基材110的透過率來控制，較為靈活。需要說明的是，金屬網(wǎng)120的孔洞121不限于為圖2所示的正方形，也可為多邊形。請參閱圖3，另一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)與導(dǎo)電薄膜10的結(jié)構(gòu)大體相同，其不同在于金屬網(wǎng)320的孔洞321為陣列排布的菱形。金屬網(wǎng)320包括多個(gè)相互平行的第一金屬線323及多個(gè)相互平行的第二金屬線325,第一金屬線323與第二金屬線325相交且第一金屬線323與第二金屬線325相互傾斜形成多個(gè)陣列排布的菱形的孔洞321。請參閱圖4，另一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)與導(dǎo)電薄膜10的結(jié)構(gòu)大體相同，其不同在于金屬網(wǎng)420的孔洞421為陣列排布的三角形。金屬網(wǎng)420包括多個(gè)相互平行的第一金屬線423、多個(gè)相互平行的第二金屬線425及多個(gè)相互平行的第三金屬線427，第二金屬線425與第一金屬線423傾斜相交形成多個(gè)陣列排布的菱形孔，第三金屬線427與菱形孔的兩個(gè)相對的端點(diǎn)相交從而將菱形孔分割成陣列分布的三角形的孔洞421。本實(shí)施方式中，孔洞421為正三角形，第二金屬線423與第三金屬線427與第一金屬線421的夾角均為 60°。請參閱圖5，另一實(shí)施方式的導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)與導(dǎo)電薄膜10的結(jié)構(gòu)大體相同，其不同在于金屬網(wǎng)520的孔洞521為呈蜂巢狀排布的正六邊形。請同時(shí)參閱圖I、圖2及圖6，上述導(dǎo)電薄膜10的制備方法，包括以下步驟步驟S101、在塑料薄膜基材110表面形成金屬層。金屬層的厚度大于等于45nm且小于等于40000nm。塑料薄膜基材110的材料為聚對苯二甲酸類塑料(PET)或聚碳酸酯(PC)。塑料薄膜基材110的表面還可根據(jù)需要形成具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層(圖未示)。功能層可以選擇性的設(shè)置于塑料薄膜基材110的一側(cè)表面或兩側(cè)相對的表面。其中，具有防?；蜢F化功能的功能層，由具有防?；蜢F化功能的涂料涂敷形成，涂料里面有金屬氧化物顆粒；具有硬化功能的功能層由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成；具有增透功能的功能層為由蒸鍍或磁控濺射形成的二氧化鈦鍍層、氟化鎂鍍層或氟化鈣鍍層。本實(shí)施方式中，金屬層由真空蒸鍍、化學(xué)氣相沉積或溶膠凝膠形成。金屬層的材料為銅、銀、鑰鋁鑰合金或銅鎳合金。需要說明的是，當(dāng)塑料薄膜基材110的表面具有功能層時(shí)，金屬層形成于功能層的表面。為了防止金屬層氧化，還可以在金屬層的表面真空蒸鍍或磁控濺射形成抗氧化層，抗氧化層的材料為金、鉬、鎳或鎳金合金等惰性金屬。
步驟S102、利用曝光顯影方法將金屬層加工出網(wǎng)格以形成金屬網(wǎng)120以形成鋪設(shè)于塑料薄膜基材110上的金屬網(wǎng)120，金屬網(wǎng)120具有多個(gè)陣列排布的孔洞121。本實(shí)施方式中，多個(gè)孔洞121的形狀及大小均相同。金屬網(wǎng)120的孔洞可以為陣列排布的正方形、菱形、三角形或正六邊形。金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度D大于等于45nm且小于等于40000nm。需要說明的是，金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線的寬度D對觸控屏10的分辨率會(huì)有影響，當(dāng)金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度D過大時(shí)，肉眼可以看到網(wǎng)線，從而會(huì)影響觸控屏10的分辨率。優(yōu)選的，金屬網(wǎng)120的網(wǎng)線寬度大于等于45nm且小于等于5000nm。金屬網(wǎng)120的開口率K與導(dǎo)電薄膜110的透過率T1以及塑料薄膜基材的透過率T2之間存在如下關(guān)系k = T1A20上述導(dǎo)電薄膜10在塑料薄膜基材110表面鋪設(shè)金屬網(wǎng)120，使用時(shí)可以根據(jù)需要將金屬網(wǎng)120再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材110上形成圖案感應(yīng)層而應(yīng)用于觸控屏中，導(dǎo)電薄膜10避免使用氧化銦錫，從而導(dǎo)電薄膜10的成本較低，且可以通過曝光顯影的方法制備金屬網(wǎng)120，工藝簡單，效率較高。以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種導(dǎo)電薄膜，包括塑料薄膜基材，其特征在于，所述導(dǎo)電薄膜還包括鋪設(shè)于所述塑料薄膜基材上的金屬網(wǎng)，所述金屬網(wǎng)具有多個(gè)陣列排布的孔洞。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述孔洞為方形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線及多個(gè)相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線垂直相交形成所述孔洞。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述孔洞為菱形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線及多個(gè)相互平行的第二金屬線，所述第一金屬線與所述第二金屬線傾斜相交形成所述孔洞。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述金屬網(wǎng)的孔洞為正六邊形且呈蜂巢狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述金屬網(wǎng)的孔洞為三角形，所述金屬網(wǎng)包括多個(gè)相互平行的第一金屬線、多個(gè)相互平行的第二金屬線及多個(gè)相互平行的第三 金屬線，第二金屬線與第一金屬線傾斜相交形成多個(gè)陣列排布的菱形孔，第三金屬線與菱形孔的兩個(gè)相對的端點(diǎn)相交從而將菱形孔分割形成所述三角形的孔洞。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述金屬網(wǎng)的表面形成有抗氧化鍍層。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述塑料薄膜基材的表面還形成具有防眩、硬化、增透或霧化功能的功能層。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述金屬網(wǎng)的網(wǎng)線寬度大于等于45nm且小于等于40000nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述金屬網(wǎng)由銅線、銀線、鑰鋁鑰合金線或銅鎳合金線形成。
專利摘要一種導(dǎo)電薄膜，包括塑料薄膜基材及鋪設(shè)于所述塑料薄膜基材上的金屬網(wǎng)，所述金屬網(wǎng)具有多個(gè)陣列排布的孔洞。上述導(dǎo)電薄膜通過在塑料薄膜基材表面鋪設(shè)金屬網(wǎng)，使用時(shí)可以根據(jù)需要將金屬網(wǎng)再次曝光顯影從而在塑料薄膜基材上形成圖案感應(yīng)層而應(yīng)用于觸控屏中，導(dǎo)電薄膜避免使用氧化銦錫，從而導(dǎo)電薄膜的成本較低。
文檔編號G06F3/044GK202632794SQ20122016813
公開日2012年12月26日 申請日期2012年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月19日
發(fā)明者程志政, 蔡榮軍 申請人:深圳歐菲光科技股份有限公司