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觸控面板模塊、觸控裝置及其制作方法

文檔序號:6489000閱讀:217來源:國知局
觸控面板模塊、觸控裝置及其制作方法【專利摘要】本發(fā)明涉及觸控【
技術(shù)領(lǐng)域
】,提供了一種觸控面板模塊,包括一基板,一感應(yīng)層,位于該基板之上,一第一膠層,位于該感應(yīng)層之上,以及一抗干擾導(dǎo)電層,位于該第一膠層之上。此外,本發(fā)明還提供一種觸控裝置及觸控面板模塊的制造方法。本發(fā)明的觸控面板模塊可獨立制作,并具有抗電磁干擾的功能,可簡單與其他電子組件結(jié)合成為觸控裝置,降低觸控裝置的厚度且減少制程步驟?!緦@f明】觸控面板模塊、觸控裝置及其制作方法【
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】[0001]本發(fā)明涉及觸控【
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】,且特別是一種觸控面板模塊、觸控裝置及其制作方法?!?br>背景技術(shù)
】[0002]在現(xiàn)今各式消費性電子產(chǎn)品的市場中,個人數(shù)字助理(PDA)、移動電話(mobilePhone)、筆記本電腦(notebook)及平板計算機(tabletPC)等可攜式電子產(chǎn)品皆已廣泛的使用觸控面板(touchpanel)作為其數(shù)據(jù)溝通的接口工具。此外,由于目前電子產(chǎn)品的設(shè)計皆以輕、薄、短、小為方向,因此在產(chǎn)品的設(shè)計上會希望能省略如鍵盤、鼠標(biāo)等傳統(tǒng)輸入設(shè)備,尤其在講求人性化設(shè)計的平板計算機需求的帶動下,觸控式面板已經(jīng)一躍成為關(guān)鍵的零組件之一。[0003]通常,將觸控面板配置在電子組件上使用,由于觸控面板在使用是容易受到外界電磁干擾或電子組件間會產(chǎn)生電磁噪聲而互相干擾,因此如何有效抗電磁干擾增進穩(wěn)定度,已成為一重要課題,目前的觸控面板模塊通常會另加上一抗電磁干擾層以避免電磁干擾,但該抗電磁干擾層通常為一制作于載板上的抗干擾導(dǎo)電層,因此加上抗電磁干擾層也同時會增加整體觸控面板的厚度,并且使制程步驟更為復(fù)雜?!?br/>發(fā)明內(nèi)容】[0004]因此,若能于制作觸控面板模塊時,先將具有抗電磁干擾作用的抗干擾導(dǎo)電層先行制作于膠層上,后續(xù)組裝時就不需要另外再結(jié)合一抗電磁干擾層,可節(jié)省制程步驟。[0005]根據(jù)本發(fā)明的一實施例,本發(fā)明提供一種觸控面板模塊,包含一感應(yīng)層,位于一基板之上;一第一膠層,位于該感應(yīng)層之上;以及一抗干擾導(dǎo)電層,直接形成于該第一膠層上。[0006]進一步的,該觸控面板模塊更包括一保護層,位于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。[0007]進一步的,該該觸控面板模塊更包括一平坦層,位于該基板與該感應(yīng)層之間。[0008]進一步的,該該觸控面板模塊更包括一平坦層,位于該基板與該感應(yīng)層之間。[0009]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋒氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。[0010]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。[0011]根據(jù)本發(fā)明的另一實施例,本發(fā)明提供一種觸控裝置,包含一觸控面板模塊,該觸控面板模塊包括一感應(yīng)層,位于一基板之上;一第一膠層,位于該感應(yīng)層之上;以及一抗干擾導(dǎo)電層,直接形成于該第一膠層上,還有一電子組件,以及一第二膠層,位于該抗干擾導(dǎo)電層與該電子組件之間。[0012]進一步的,該電子組件包括一顯示模塊或是一電路板。[0013]進一步的,該觸控面板模塊更包括一保護層,位于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。[0014]進一步的,該觸控面板模塊更包括一平坦層,位于該基板與該感應(yīng)層之間。[0015]進一步的,該觸控面板模塊更包括一遮光框,位于該基板與該感應(yīng)層之間。[0016]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋒氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。[0017]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)_聚苯乙烯磺酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。[0018]根據(jù)本發(fā)明的另一實施例,本發(fā)明提供一種觸控裝置制造方法,包含以下步驟:形成一感應(yīng)層于一基板上;形成一第一膠層于該感應(yīng)層之上;以及形成一抗干擾導(dǎo)電層于一第一膠層上。[0019]進一步的,該觸控面板模塊制作方法更包括形成一電子組件,位于該抗干擾導(dǎo)電層之上方,且形成一第二膠層于該電子組件與該抗干擾導(dǎo)電層之間。該電子組件包括一顯示模塊或是一電路板[0020]進一步的,該觸控面板模塊制作方法更包括形成一保護層于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。[0021]進一步的,該觸控面板模塊制作方法更包括形成一平坦層于該基板與該感應(yīng)層之間。[0022]進一步的,該觸控面板模塊制作方法更包括形成一遮光框于該基板與該感應(yīng)層之間。[0023]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋒氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)_聚苯乙烯磺酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。[0024]進一步的,該觸控面板模塊制作方法更包對該第一膠層進行一預(yù)處理步驟。該預(yù)處理步驟包括一深紫外光照射步驟,一淺紫外光照射步驟或是一電漿處理步驟。該深紫外光照射步驟與該淺紫外光照射步驟之光源波長介于160?190奈米,照射時間介于180?240秒。該電漿處理步驟包括:每分鐘通入100?140毫升的氬氣與60?100毫升的氧氣,壓力介于35?55帕,且進行電漿處理步驟時間為800?1000秒。[0025]進一步的,該抗干擾導(dǎo)電層形成步驟包括:形成該液體導(dǎo)電材料抗干擾導(dǎo)電層于該第一膠層上。更包括對該液體導(dǎo)電材料進行一預(yù)處理步驟。該預(yù)處理步驟包括摻入一共溶劑于該液體導(dǎo)電材料中。該共溶劑包括乙醇與二甲基亞砜。該液體導(dǎo)電材料與共溶劑體積比值為1:1?4。[0026]本發(fā)明提供的觸控裝置與其制作方法,包含有一觸控面板模塊,該觸控面板模塊之膠層上直接形成一抗干擾導(dǎo)電層,可使得觸控面板模塊直接具有抗電磁干擾的能力,在組合觸控裝置時,不需另外再貼上具有一載板的抗電磁干擾功能的組件。因此,減少觸控裝置的厚度,并簡化制程步驟。【專利附圖】【附圖說明】[0027]圖1繪示本發(fā)明第一較佳實施例的觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0028]圖2繪示本發(fā)明第二較佳實施例的觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0029]圖3繪示本發(fā)明第三較佳實施例的觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0030]圖4繪示本發(fā)明第四較佳實施例的觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0031]圖5繪示本發(fā)明一較佳實施例之觸控裝置的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0032]第6圖繪示本發(fā)明圖5之觸控裝置制作方法的流程圖?!揪唧w實施方式】[0033]為使熟習(xí)本發(fā)明所屬【
技術(shù)領(lǐng)域
】之一般技藝者能更進一步了解本發(fā)明,下文特列舉本發(fā)明之較佳實施例,并配合所附圖式,詳細說明本發(fā)明的構(gòu)成內(nèi)容及所欲達成之功效。[0034]為了方便說明,本發(fā)明之各圖式僅為示意以更容易了解本發(fā)明,其詳細的比例可依照設(shè)計的需求進行調(diào)整。在文中所描述對于圖形中相對組件之上下關(guān)系,在本領(lǐng)域之人皆應(yīng)能理解其系指對象之相對位置而言,因此皆可以翻轉(zhuǎn)而呈現(xiàn)相同之構(gòu)件,此皆應(yīng)同屬本說明書所揭露之范圍,在此容先敘明。[0035]請參考圖1,圖1繪示本發(fā)明第一較佳實施例的觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖。如圖1所示,觸控面板模塊10包含有一基板12,感應(yīng)層14、第一膠層20以及抗干擾導(dǎo)電層22?;?2可為各種透明或不透明材質(zhì),不限于硬質(zhì)基板或是可撓式基板,例如玻璃、聚碳酸脂(polycarbonate,PC)、聚對苯二甲酸乙二脂(polyethyleneterephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(polymethylmesacrylate,PMMA)、聚諷(Polysulfone,PES)或其他環(huán)烯共聚物(cyclicolefincopolymer)等。[0036]感應(yīng)層14形成于基板12上,其中,感應(yīng)層14包括復(fù)數(shù)條沿一第一方向的第一電極與復(fù)數(shù)條沿一第二方向排列的第二電極,以及復(fù)數(shù)條導(dǎo)線分別與第一電極以及第二電極電性連接,導(dǎo)線的另一端與一外部的處理器相連,但感應(yīng)層14的結(jié)構(gòu)并不以此為限。[0037]之后,感應(yīng)層14之上,更包括有一第一膠層20,以及一抗干擾導(dǎo)電層22位于第一膠層20之上。第一膠層20可為光固膠、濕固膠、熱固膠或是其他用于黏合的膠??垢蓴_導(dǎo)電層22可為一固狀的膜層,并貼合于第一膠層20上,或是以旋轉(zhuǎn)涂布、電鍍、濺鍍、印刷或其他方式形成于第一膠層20上??垢蓴_導(dǎo)電層22可以包括固體導(dǎo)電材料或是液體導(dǎo)電材料。其中固體導(dǎo)電材料例如可以是銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋅氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO);液體導(dǎo)電材料例如可以是奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)_聚苯乙烯橫酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS),或者銀漿等金屬等。由于本實施例中,抗干擾導(dǎo)電層22直接制作于第一膠層20上,因此觸控面板模塊10本身即具有抗電磁干擾的作用。[0038]此外,本實施例的觸控面板模塊10更可選擇性地加入其他組件,而具有不同的實施例,以下將針對本發(fā)明不同實施例進行說明,其中為突顯各實施例之間的不同處,相同的組件以相同之標(biāo)號表示,其制作方法與材料與第一較佳實施例所述相同,并且不另外贅述。[0039]本發(fā)明第二較佳實施例之觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖,如圖2所示,觸控面板模塊10'包含有一基板12,感應(yīng)層14、第一膠層20以及抗干擾導(dǎo)電層22。與第一較佳實施例不同之處在于,第一膠層20與感應(yīng)層14之間,更可包含有一保護層24。保護層24通常為一絕緣薄膜,覆蓋并保護感應(yīng)層14受到物理或是化學(xué)變化而被破壞。保護層24的材料選自聚酰亞胺(Polyimide,PI)、油墨、氮化娃(S3N4)或二氧化娃(Si02)等,但實施的材料范圍不以前述材料為限。值得注意的是,保護層24根據(jù)實際應(yīng)用選擇實施。其余組件與第一較佳實施例相同,在此不再贅述。[0040]本發(fā)明第三較佳實施例之觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖,如圖3所示,觸控面板模塊10',包含有一基板12,感應(yīng)層14、第一膠層20以及抗干擾導(dǎo)電層22。與第一較佳實施例不同之處在于,本實施例在感應(yīng)層14與基板12之間,更包括一平坦層18。平坦層18較佳由非導(dǎo)電材質(zhì)所形成,覆蓋于基板12之一上表面或是下表面,也可同時覆蓋基板的上表面以及下表面,以解決基板12上表面或下表面的不平整問題,使得感應(yīng)層14可形成于一平坦表面上。平坦層18例如可以是以聚合物形成的平滑層,例如聚亞酰胺(polyimide,PI),也可以使以無機材料形成的,例如氮化硅(Si3N4)或是二氧化硅(Si02),本發(fā)明并不限定平坦層18的材料。值得注意的是,本實施例也可與第二較佳實施例互相結(jié)合,也就是說,本實施例的觸控面板模塊10',也可與第二較佳實施例結(jié)合,即本實施例具有一保護層24位于第一膠層20與感應(yīng)層14之間。其余組件與第一較佳實施例相同,在此不再贅述。[0041]本發(fā)明第四較佳實施例之觸控面板模塊結(jié)構(gòu)剖面示意圖,如圖4所示,觸控面板模塊10"'包含有一基板12,感應(yīng)層14、第一膠層20以及抗干擾導(dǎo)電層22。本實施例與第一較佳實施例不同之處在于,本實施例中,位在感應(yīng)層14與基板12之間,更包括一遮光框16,遮光框16通常由不透明材質(zhì)所組成,例如暗色光阻等,并覆蓋基板12的周邊區(qū)域,可遮蔽位于遮光框16之上的其他電子組件如導(dǎo)線等,使之不曝露于用戶接口中,達到美觀效果。值得注意的是,本實施例也可與本發(fā)明第二較佳實施例或是第三較佳實施例互相結(jié)合,因此,本實施例所述的觸控面板模塊10",也可包含有一保護層24位于第一膠層20與感應(yīng)層14之間,或是一平坦層18位于感應(yīng)層14與基板12之間,其中平坦層18可覆蓋于基板12以及遮光框16上,或是僅覆蓋基板12中央?yún)^(qū)域,而不延伸至遮光框16上,使得遮光框16的頂部與平坦層18的頂部齊平。其余組件與第一較佳實施例相同,在此不再贅述。[0042]上述各實施例中所述的保護層24、遮光框16以及平坦層18,可依實際制作流程,自由選擇性地加入本發(fā)明的觸控面板模塊10中,其各種組合皆屬于本發(fā)明所涵蓋的范圍內(nèi)。此外,上述所提及的觸控面板模塊10可以僅有一基板12,即該基板12可為一般觸控裝置的玻璃上蓋基板,而感應(yīng)層14直接制作于基板12上,也就是觸控玻璃一體化(touchonlens,T0L)結(jié)構(gòu)。[0043]本發(fā)明的特征在于,觸控面板模塊10之第一膠層20上直接形成一抗干擾導(dǎo)電層22,因此觸控面板模塊10本身具有抗電磁干擾的功能,此外,觸控面板模塊10可獨立制作,并可方便與其他電子組件結(jié)合成為觸控裝置,結(jié)合時也不需要另外再貼上具有一載板的抗電磁干擾功能的組件。[0044]上述第一?第四較佳實施例中的觸控面板模塊10?10"'皆可與一電子組件結(jié)合,成為一觸控裝置。在此以觸控面板模塊10與電子裝置的結(jié)合舉例說明,圖5繪示本發(fā)明一佳實施例之觸控裝置的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0045]本發(fā)明一佳實施例之觸控裝置的結(jié)構(gòu)剖面示意圖,如圖5所示。本實施例提供一種觸控裝置30,包含一觸控面板模塊10、第二膠層34以及電子組件32。其中第二膠層34置于觸控面板模塊10和電子組件32之間,并用于貼合觸控面板模塊10和電子組件32。[0046]觸控面板模塊10配置于電子組件32上作為觸控輸入設(shè)備使用。本實施例將具有抗電磁干擾的觸控面板模塊10與其他電子組件32結(jié)合,進而形成一完整的觸控裝置30。當(dāng)觸控裝置30應(yīng)用于顯示器例如為觸控顯示面板時,電子組件32例如為一顯示模塊,可以包含有液晶層、彩色濾光層、電路板或是背光模塊等,而當(dāng)觸控裝置30應(yīng)用于非顯示器時不以此為限。在此請注意,當(dāng)電子組件32為顯示面板時,基板12需為透明基板,且感應(yīng)層14也需由透明電極所組成。[0047]本發(fā)明所提出的觸控面板模塊10抗干擾導(dǎo)電層已經(jīng)直接制作于第一膠層20上,且結(jié)構(gòu)可簡單與其他電子組件組合,組合時也僅需于觸控面板模塊10與電子組件32之間涂布一第二膠層34即可。在組合觸控裝置時,不需另外再貼上具有一載板的抗電磁干擾功能的組件,可降低整體觸控裝置32的厚度,并且減少制程步驟。當(dāng)然,本實施例中雖以觸控面板模塊10結(jié)合電子組件32為例,但本發(fā)明第二?第四較佳實施例所述的觸控面板模塊1(V、1(V'或10"'也可與電子組件32結(jié)合成為不同實施態(tài)樣的觸控裝置,可理解的是,各實施例彼此間的組合也屬于本發(fā)明所涵蓋的范圍內(nèi)。[0048]上述各實施例所述的觸控面板模塊以及觸控裝置可透過本發(fā)明提供的制作方法來形成。請合并參閱圖1、圖5和第6圖所示,其中第6圖繪示本發(fā)明圖5之觸控裝置之制作方法的流程圖,該制作方法主要包括步驟S10:提供一基板12,步驟S12:形成一感應(yīng)層14于基板12上,步驟S14:形成一第一膠層20于感應(yīng)層14上,以及步驟S16:形成一抗干擾導(dǎo)電層22于第一膠層20上,其中抗干擾導(dǎo)電層22的材料可選用固體導(dǎo)電材料或液體導(dǎo)電材料。[0049]一般來說,當(dāng)抗干擾導(dǎo)電層22選用固體導(dǎo)電材料時,可以直接通過濺鍍、電鍍、膜層貼合的方式形成于第一膠層20表面上。但第一膠層20的表面黏性較高,為了利于抗干擾導(dǎo)電層22的形成,或是避免抗干擾導(dǎo)電層22產(chǎn)生表面不平整的問題,本發(fā)明也可以先對第一膠層20進行一預(yù)處理后再將固體導(dǎo)電材料的抗干擾導(dǎo)電層20形成于第一膠層20表面上。第一膠層20的預(yù)處理方法可選用一深紫外光照射方法、一淺紫外光照射方法或是一電漿處理中至少一種。其中深紫外光照射步驟或是淺紫外光照射步驟的光源波長較佳介于160奈米?190奈米之間,照射時間則較佳介于180?240秒之間。當(dāng)使用電漿處理步驟對第一膠層20進行預(yù)處理時,較佳每分鐘通入100?140毫升的氬氣與60?100毫升的氧氣,環(huán)境壓力介于35?55帕,且進行電漿處理步驟時間為800?1000秒,不過上述參數(shù)僅為本實施例較佳實作數(shù)據(jù),本發(fā)明并不以此參數(shù)為限。[0050]當(dāng)抗干擾導(dǎo)電層22選用液體導(dǎo)電材料時,抗干擾導(dǎo)電層22液體材料因與第一膠層20表面具黏性的膠不兼容,故無法不經(jīng)過任何處理直接形成于第一膠層20上。本發(fā)明可以對第一膠層20進行上述方法的預(yù)處理。除了對第一膠層進行預(yù)處理外,本發(fā)明也可以對液體導(dǎo)電材料的抗干擾導(dǎo)電層22采用預(yù)處理,包括混入一共溶劑于導(dǎo)電液中,舉例來說,當(dāng)導(dǎo)電液主要成分為高導(dǎo)電分子(例如為PEDOT:PSS)時,共溶劑較佳為乙醇與二甲基亞砜(Dimethylsulfoxide,DMSO),其中導(dǎo)電液:乙醇:二甲基亞砜相互間配置的體積比例較佳介于1:廣3:0.廣0.5之間。當(dāng)抗干擾導(dǎo)電層22液體材料主要成分為奈米銀時,共溶劑同樣可為乙醇與二甲基亞砜,其中導(dǎo)電液:乙醇:二甲基亞砜相互間配置的體積比例較佳介于l:f3:0.3、.8之間。所以整體而言,導(dǎo)電液:共溶劑的體積比值約1:廣4之間。然而,上述僅為本發(fā)明較佳實施方式的溶液配置比率,其他不同變化的比率也屬本發(fā)明所涵蓋的范圍之內(nèi)??垢蓴_導(dǎo)電層22液體材料以一定比率配置完成后,經(jīng)攪拌均勻與過濾后,即可涂布于第一膠層20上。導(dǎo)電液以直接涂布、旋轉(zhuǎn)涂布、電鍍、印刷或其他方式涂于第一膠層20上后,需另外進行一成膜步驟使抗干擾導(dǎo)電層22液體導(dǎo)電材料形成抗干擾導(dǎo)電層22。成膜步驟依照抗干擾導(dǎo)電層22液體導(dǎo)電材料組成分不同而有所變化,例如當(dāng)導(dǎo)電液包含有PEDOT:PSS時,可選擇于真空環(huán)境下放置5?20分鐘干燥,或是以30?100°C的溫度加熱大約10?50分鐘。而當(dāng)導(dǎo)電液包含有奈米銀時,較佳以60?150°C的溫度加熱大約90?120分鐘。另外值得注意的是,上述對第一膠層20進行的預(yù)處理步驟以及抗干擾導(dǎo)電層22液體導(dǎo)電材料進行的預(yù)處理步驟并不相同,但其先后順序并無限制。本發(fā)明可從兩者選擇其中之一進行,以促進抗干擾導(dǎo)電層22于第一膠層20上的成型,當(dāng)然最佳的是兩者皆進行,本發(fā)明并不以此為限。[0051]此外,上述的制作方法更可選擇性地形成一遮光框于基板以及感應(yīng)層之間,且遮光框覆蓋基板的周邊區(qū)域,可達到遮蔽多余光線與美觀作用。以及選擇性形成一平坦層位于基板之上表面或下表面,以解決基板表面不平整的問題。值得注意的是,本案中遮光框與平坦層可以分別形成而不需要同時并存。另外還有選擇性地形成一保護層位于感應(yīng)層與第一膠層之間,以保護感應(yīng)層避免受到化學(xué)變化或是物理作用而損害。當(dāng)然,關(guān)于遮光框、平坦層與保護層的形成與否,本發(fā)明并不以此為限。上述各實施例中所述的保護層、遮光框以及平坦層,可依實際制作流程,自由選擇性地加入本發(fā)明的觸控面板模塊中,其各種組合皆屬于本發(fā)明所保護的范圍內(nèi)。而此處所述之遮光框、平坦層以及保護層,其材料選擇以及制作方法等,皆與本發(fā)明第二圖?第四圖較佳實施例所述相同,在此不再贅述。[0052]上述步驟S1(TS16為制作本發(fā)明第一較佳實施例的觸控面板模塊之步驟流程。此夕卜,在完成觸控面板模塊之后,更包括步驟S20:形成一第二膠層于抗干擾導(dǎo)電層上,以及步驟S22:形成一電子組件于第二膠層上。將觸控面板模塊與電子組件結(jié)合,完成一觸控裝置。此外,觸控裝置也可與上述的遮光框、平坦層或保護層互相組合。本發(fā)明的觸控裝置可例如為觸控顯示面板或其他非透明觸控裝置,當(dāng)應(yīng)用于觸控顯示面板時,觸控面板模塊的各層,包括基板、感應(yīng)層、第一膠層與抗干擾導(dǎo)電層較佳使用透明材質(zhì)以達到透光效果,反之,當(dāng)應(yīng)用于其他觸控裝置時則無此限制。上述各步驟所提及的材料與制作方法、制作參數(shù)等與本發(fā)明第一?第四較佳實施例所述相同,在此不再贅述。[0053]綜上所述,本發(fā)明所提供的觸控面板模塊之膠層上直接形成一抗干擾導(dǎo)電層,可使得觸控面板模塊直接具有抗電磁干擾功能,此觸控面板模塊可獨立制作,并可簡單與其他組件結(jié)合。例如可與一顯示設(shè)備或電路板結(jié)合,在結(jié)合時也不需要額外再貼上具有一載板的抗電磁干擾層功能的組件,可降低觸控裝置的厚度并節(jié)省制程步驟。[0054]以上所述僅為本發(fā)明之較佳實施例,凡依本發(fā)明申請專利范圍所做之均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明之涵蓋范圍?!緳?quán)利要求】1.一種觸控面板模塊,其特征在于,包含:一感應(yīng)層,位于一基板之上;一第一膠層,位于該感應(yīng)層之上;以及一抗干擾導(dǎo)電層,直接形成于該第一膠層上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板模塊,其特征在于,更包括一保護層,位于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板模塊,其特征在于,更包括一平坦層,位于該基板與該感應(yīng)層之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板模塊,其特征在于,更包括一遮光框,位于該基板與該感應(yīng)層之間。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板模塊,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋒氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板模塊,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)_聚苯乙烯磺酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。7.一種觸控裝置,包含:一觸控面板模塊,包括一感應(yīng)層,位于一基板之上;一第一膠層,位于該感應(yīng)層之上;以及一抗干擾導(dǎo)電層,直接形成于該第`一膠層上;一電子組件;以及一第二膠層,位于該抗干擾導(dǎo)電層與該電子組件之間。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,該電子組件包括一顯示模塊或是一電路板。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,更包括一保護層,位于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,更包括一平坦層,位于該基板與該感應(yīng)層之間。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,更包括一遮光框,位于該基板與該感應(yīng)層之間。12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋒氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控裝置,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。14.一種觸控面板模塊制作方法,包含:形成一感應(yīng)層于一基板上;形成一第一膠層于該感應(yīng)層之上;以及形成一抗干擾導(dǎo)電層于一第一膠層上。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括形成一電子組件,位于該抗干擾導(dǎo)電層之上方,且形成一第二膠層于該電子組件與該抗干擾導(dǎo)電層之間。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該電子組件包括一顯示模塊或是一電路板。17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括形成一保護層于該第一膠層與該感應(yīng)層之間。18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括形成一平坦層于該基板與該感應(yīng)層之間。19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括,形成一遮光框于該基板與該感應(yīng)層之間。20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用銦錫氧化物(IndiumTinOxides,ITO)、銦鋅氧化物(IndiumZincOxide,IZO)、招鋒氧化物(Zincoxidedoping3oxidation2aluminium,AZO)等固體導(dǎo)電材料。21.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層材料選用奈米銀等奈米導(dǎo)電原子,奈米碳管、銀漿等金屬或者聚(3,4-乙烯二氧噻吩)_聚苯乙烯橫酸(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate),PEDOT:PSS)等液體導(dǎo)電材料。22.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括對該第一膠層進行一預(yù)處理步驟。23.根據(jù)權(quán)利要求122所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該預(yù)處理步驟包括一深紫外光照射步驟,一淺紫外光照射步驟或是一電漿處理步驟。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該深紫外光照射步驟與該淺紫外光照射步驟之光源波長介于160~190奈米,照射時間介于180~240秒。25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該電漿處理步驟包括:每分鐘通入100~140毫升的IS氣與60~100毫升的氧氣,壓力介于35~55帕,且進行電漿處理步驟時間為800~1000秒。26.根據(jù)權(quán)利要求21所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該抗干擾導(dǎo)電層形成步驟包括:形成該液體導(dǎo)電材料抗干擾導(dǎo)電層于該第一膠層上。27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,更包括對該液體導(dǎo)電材料進行一預(yù)處理步驟。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該預(yù)處理步驟包括摻入一共溶劑于該液體導(dǎo)電材料中。29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該共溶劑包括乙醇與二甲基亞砜。30.根據(jù)權(quán)利要求28所述的觸控面板模塊制作方法,其特征在于,該液體導(dǎo)電材料與共溶劑體積比值為1:1~4?!疚臋n編號】G06F3/041GK103677366SQ201210350412【公開日】2014年3月26日申請日期:2012年9月20日優(yōu)先權(quán)日:2012年9月20日【發(fā)明者】李裕文,劉仁昌,莊江強,邱宗科申請人:宸鴻科技(廈門)有限公司
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