專利名稱：一種單層ito實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于觸控面板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的電容式觸摸屏的觸控功能面板，一般來(lái)說(shuō)ITO (氧化銦錫)導(dǎo)電走線在基板的單面或基板的雙面，即單面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)和雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)。請(qǐng)參閱圖1，圖I是現(xiàn)有的單面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板ITO走線及軟性線路板連接示意圖。對(duì)于單面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)會(huì)在蝕刻完之后的ITO圖案上蝕刻透明絕緣層和金屬 (Mo-Al-Mo或Mo或Cu)，圖I中，31和34為Y方向的感應(yīng)線路，32和33為X方向的感應(yīng)線路，35為金屬層，通過(guò)金屬層35連接左右菱形塊，最后通過(guò)金屬連接外圍到軟性線路板熱壓處。對(duì)于單面多層導(dǎo)電層結(jié)構(gòu)因通過(guò)金屬“搭橋”的方式形成X方向與Y方向的矩陣網(wǎng)絡(luò)，為了隔離Y向的ITO線和金屬膜線，在31和32的交叉處，兩層走線之間設(shè)置了絕緣層。只要利用軟性線路板將X方向與Y方向連接到觸控IC的驅(qū)動(dòng)通道與感應(yīng)通道即可實(shí)現(xiàn)觸控功能。請(qǐng)參閱圖2、圖3和圖4，圖2是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的示意圖，圖3是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的基板某一面的ITO導(dǎo)電走線圖(X方向)，圖4是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的基板另一面的ITO導(dǎo)電走線圖(Y方向)。對(duì)于雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)的觸控面板，需要在基板的兩面都要刻蝕一次或一次以上，最后利用金屬走線將觸控感應(yīng)通道連接到軟性線路板的熱壓處，如圖4，圖5，圖6所示，Y方向走線41與X方向走線42分別位于玻璃的兩面ΙΤ0，通過(guò)圖案蝕刻形成驅(qū)動(dòng)層與感應(yīng)層。通過(guò)在玻璃的兩邊熱壓軟性線路板方式將兩層的驅(qū)動(dòng)通道與感應(yīng)通道連接到觸控IC實(shí)現(xiàn)觸控功能?，F(xiàn)有的兩種結(jié)構(gòu)的工藝過(guò)程非常復(fù)雜，良率難以控制，導(dǎo)致目前的觸控功能基板的單價(jià)較高。另外，兩種結(jié)構(gòu)觸控功能面板都有金屬線(Mo-Al-Mo或Mo或Cu)層，金屬膜是真空鍍膜的方法來(lái)制備的，導(dǎo)致觸控面板的成本進(jìn)一步增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及系統(tǒng)，旨在解決現(xiàn)有的電容式觸摸屏的觸控功能面板工藝過(guò)程非常復(fù)雜，需要設(shè)置金屬線層，良率難以控制的問(wèn)題。本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，包括觸控基板、至少一驅(qū)動(dòng)電極和至少一感應(yīng)電極，所述觸控基板一面設(shè)有一層透明的導(dǎo)電膜，所述驅(qū)動(dòng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的X方向感應(yīng)塊，所述感應(yīng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的Y方向感應(yīng)塊。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置還包括軟性線路板，所述X方向感應(yīng)塊相互獨(dú)立，通過(guò)軟性線路板連線的方式將獨(dú)立感應(yīng)塊連接在一起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述Y方向的感應(yīng)塊通過(guò)ITO走線的方式連接。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述觸控基板另一面也設(shè)有一層透明的導(dǎo)電膜，所述導(dǎo)電膜的ITO方塊電阻為10 Ω / □ 500 Ω / □。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述觸控基板采用玻璃、亞克力或PET。本發(fā)明實(shí)施例采取的另一技術(shù)方案為一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的方法，包括在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜；光刻透明導(dǎo)電膜，蝕刻出單面ITO導(dǎo)電線觸控圖案，其中，所述導(dǎo)電線觸控圖案包括X方向感應(yīng)塊和Y方向感應(yīng)塊；設(shè)計(jì)軟性線路板，利用軟性線路板走線的方式將X方向感應(yīng)塊連接在一起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜步驟后還包括在觸控基板的另一面鍍上一層透明的導(dǎo)電膜。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述光刻透明導(dǎo)電膜，蝕刻出單面ITO導(dǎo) 電線觸控圖案步驟后還包括在觸控基板的另一面鍍上一層透明的導(dǎo)電膜。本發(fā)明實(shí)施例采取的技術(shù)方案還包括所述Y方向感應(yīng)塊利用ITO連接在一起，X方向感應(yīng)塊塊相互獨(dú)立。本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果本發(fā)明實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法不需要金屬(Mo-Al-Mo或Mo或Cu)走線，只需要刻蝕一次ITO線路，大大簡(jiǎn)化了產(chǎn)品的工藝流程，簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類功能面板璃，解決了目前電容觸摸屏觸控功能面板基本依賴高精度的光刻生產(chǎn)線及金屬鍍膜存在的制作難題，其良率可以得到大大提高，為觸控功能面板的成本降低提供了真實(shí)可行的方法，另外，通過(guò)軟性線路板將X方向獨(dú)立的功能塊進(jìn)行外部連接，可以達(dá)到在ITO上“搭橋” 一致的效果，實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控。


附圖I是現(xiàn)有的單面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板ITO走線及軟性線路板連接示意 附圖2是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的示意 附圖3是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的基板某一面的ITO導(dǎo)電走線 附圖4是現(xiàn)有的雙面多層導(dǎo)電線結(jié)構(gòu)觸控面板的基板另一面的ITO導(dǎo)電走線 附圖5是本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的結(jié)構(gòu)示意 附圖6是本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的結(jié)構(gòu)示意 附圖7是本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的軟性線路板走線的示意
附圖8是本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的軟性線路板走線的示意圖。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
請(qǐng)參閱圖5，是本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置包括觸控基板10、驅(qū)動(dòng)電極11和13和感應(yīng)電極12和14。觸控基板10可以是玻璃，也可以是其他任何透明的材質(zhì)基板(如亞克力、PET等)。觸控基板10的正面設(shè)置有一層透明的正面導(dǎo)電膜(圖未示)，透明的導(dǎo)電膜可以是ITO (氧化銦錫)，也可以是其他透明的導(dǎo)電膜。正面導(dǎo)電膜的ITO (氧化銦錫)方塊電阻為10 Ω / □ 500 Ω / 口，優(yōu)選的方案為100 Ω / □ 300 Ω / 口，這樣既能保證觸摸的靈敏度又能確?？涛g的ITO導(dǎo)電走線不能被肉眼輕易看出而影響到產(chǎn)品的視覺(jué)效果。觸控基板10的背面可以設(shè)置有一層透明的背面導(dǎo)電膜(圖未示)，透明的導(dǎo)電膜可以是ITO (氧化銦錫)，也可以是其他透明的導(dǎo)電膜。正面導(dǎo)電膜的ITO (氧化銦錫)方塊電阻為10Ω/ □ 500 Ω/ □，優(yōu)選的方案為100 Ω/ □ 300 Ω/ □，這樣既能保證觸摸的靈敏度又能確?？涛g的ITO導(dǎo)電走線不能被肉眼輕易看出而影響到產(chǎn)品的視覺(jué)效果。觸控基板10的背面導(dǎo)電膜用于屏蔽雜波信號(hào)干擾，也可以不設(shè)置這一層透明導(dǎo)電膜。驅(qū)動(dòng)電極11和13為蝕刻在正面ITO導(dǎo)電膜上的X方向感應(yīng)塊，感應(yīng)電極12和14為蝕刻在正面ITO導(dǎo)電膜上的Y方向感應(yīng)塊，其中，Y方向的感應(yīng)塊(感應(yīng)電極12和14)可以通過(guò)ITO走線的方式連接，X方向感應(yīng)塊蝕刻成獨(dú)立的單元塊，即驅(qū)動(dòng)電極11和13相互獨(dú)立，利用軟性線路板連線的方 式將蝕刻完成的獨(dú)立感應(yīng)塊(驅(qū)動(dòng)電極11和13)連接在一起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。請(qǐng)參閱圖6，是本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置包括觸控基板20、驅(qū)動(dòng)電極21、驅(qū)動(dòng)電極22、感應(yīng)電極23、驅(qū)動(dòng)電極24、驅(qū)動(dòng)電極25、感應(yīng)電極26。觸控基板10可以是玻璃，也可以是其他任何透明的材質(zhì)基板(如亞克力、PET等)。觸控基板20的正面設(shè)置有一層透明的正面導(dǎo)電膜(圖未示)，透明的導(dǎo)電膜可以是ITO (氧化銦錫)，也可以是其他透明的導(dǎo)電膜。正面導(dǎo)電膜的ITO(氧化銦錫)方塊電阻為10 Ω / □ 500 Ω / 口，優(yōu)選的方案為100 Ω / □ 300 Ω/ □，這樣既能保證觸摸的靈敏度又能確?？涛g的ITO導(dǎo)電走線不能被肉眼輕易看出而影響到產(chǎn)品的視覺(jué)效果。觸控基板10的背面可以設(shè)置有一層透明的背面導(dǎo)電膜(圖未示)，透明的導(dǎo)電膜可以是ITO(氧化銦錫)，也可以是其他透明的導(dǎo)電膜。正面導(dǎo)電膜的ITO(氧化銦錫)方塊電阻為10Ω/ □ 500Ω/ □，優(yōu)選的方案為100Ω/ □ 300 Ω / □，這樣既能保證觸摸的靈敏度又能確保刻蝕的ITO導(dǎo)電走線不能被肉眼輕易看出而影響到產(chǎn)品的視覺(jué)效果。觸控基板20的背面導(dǎo)電膜用于屏蔽雜波信號(hào)干擾，也可以不設(shè)置這一層透明導(dǎo)電膜。驅(qū)動(dòng)電極21、22、24和25為蝕刻在正面ITO導(dǎo)電膜上的X方向感應(yīng)塊，感應(yīng)電極23和26為蝕刻在正面ITO導(dǎo)電膜上的Y方向感應(yīng)塊，其中，Y方向的感應(yīng)塊(感應(yīng)電極23和26)可以通過(guò)ITO走線的方式連接，X方向感應(yīng)塊蝕刻成獨(dú)立的單元塊，即驅(qū)動(dòng)電極21和22、驅(qū)動(dòng)電極24和25相互獨(dú)立，利用軟性線路板連線的方式將驅(qū)動(dòng)電極21和24連接，驅(qū)動(dòng)電極22和25連接，起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。請(qǐng)參閱圖7和圖8，圖7是本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的軟性線路板走線的示意圖，圖8是本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置的軟性線路板走線的示意圖。蝕刻完成之后X方向的感應(yīng)塊為獨(dú)立的功能塊，通過(guò)軟性線路板走線可以級(jí)聯(lián)在一起。達(dá)到在ITO上金屬“搭橋”一樣的效果，從而形成X方向與Y方向的驅(qū)動(dòng)感應(yīng)矩陣。如圖7，圖8所述，71和81為軟性線路板，通過(guò)在軟性線路板71和81上走線的方式進(jìn)行獨(dú)立感應(yīng)塊的連接，最后連接到觸控IC管腳。實(shí)現(xiàn)與現(xiàn)有互電容觸摸屏一致的觸控結(jié)構(gòu)。因與現(xiàn)有互電電容一致的結(jié)構(gòu)，故可以實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸摸。本發(fā)明第一實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的方法包括
步驟10 :在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜；
步驟11:光刻步驟10上的透明導(dǎo)電膜，蝕刻出單面ITO導(dǎo)電線觸控圖案，其中，Y方向感應(yīng)塊利用ITO連接在一起，X方向感應(yīng)塊塊相互獨(dú)立。步驟12 :在觸控基板的另一面鍍上一層透明的導(dǎo)電膜；
在步驟12中，觸控基板的另一面上的膜用于屏蔽雜波信號(hào)干擾，也可以不做這一層透明導(dǎo)電膜。步驟13 :設(shè)計(jì)軟性線路板，利用軟性線路板走線的方式將X方向獨(dú)立的 感應(yīng)塊連接在一起。本發(fā)明第二實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的方法包括
步驟20 :在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜；
步驟21 :在觸控基板的另一面鍍上一層透明的導(dǎo)電膜
在步驟21中，觸控基板的另一面鍍上的導(dǎo)電膜用于屏蔽雜波信號(hào)干擾，
也可以不做這一層透明導(dǎo)電膜；
步驟22 :光刻步驟20上的透明導(dǎo)電膜，蝕刻出如圖5、圖6等的單面ITO 導(dǎo)電線觸控圖案；
步驟23 :設(shè)計(jì)軟性線路板，利用軟性線路板走線的方式將X方向獨(dú)立的 功能塊連接在一起。本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果本發(fā)明實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法不需要金屬(Mo-Al-Mo或Mo或Cu)走線，只需要刻蝕一次ITO線路，大大簡(jiǎn)化了產(chǎn)品的工藝流程，簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類功能面板璃，解決了目前電容觸摸屏觸控功能面板基本依賴高精度的光刻生產(chǎn)線及金屬鍍膜存在的制作難題，其良率可以得到大大提高，為觸控功能面板的成本降低提供了真實(shí)可行的方法，另外，通過(guò)軟性線路板將X方向獨(dú)立的功能塊進(jìn)行外部連接，可以達(dá)到在ITO上“搭橋” 一致的效果，實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，包括觸控基板、至少一驅(qū)動(dòng)電極和至少一感應(yīng)電極，其特征在于所述觸控基板一面設(shè)有一層透明的導(dǎo)電膜，所述驅(qū)動(dòng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的X方向感應(yīng)塊，所述感應(yīng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的Y方向感應(yīng)塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，其特征在于，還包括軟性線路板，所述X方向感應(yīng)塊相互獨(dú)立，通過(guò)軟性線路板連線的方式將獨(dú)立感應(yīng)塊連接在一起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，其特征在于，所述Y方向的感應(yīng)塊通過(guò)ITO走線的方式連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，其特征在于，所述觸控基板另一面也設(shè)有一層透明的導(dǎo)電膜，所述導(dǎo)電膜的ITO方塊電阻為10Ω/ □ 500Ω/ 口。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置，其特征在于，所述觸控基板采用玻璃、亞克力或PET。
6.一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的方法，包括 在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜； 光刻透明導(dǎo)電膜，蝕刻出單面ITO導(dǎo)電線觸控圖案，其中，所述導(dǎo)電線觸控圖案包括X方向感應(yīng)塊和Y方向感應(yīng)塊； 設(shè)計(jì)軟性線路板，利用軟性線路板走線的方式將X方向感應(yīng)塊連接在一起形成矩陣網(wǎng)絡(luò)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的方法，其特征在于，所述在觸控基板上鍍一層透明的導(dǎo)電膜步驟后還包括在觸控基板的另一面鍍上一層透明的導(dǎo)電膜。
全文摘要
本發(fā)明屬于觸控面板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法。本發(fā)明單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置包括觸控基板、至少一驅(qū)動(dòng)電極和至少一感應(yīng)電極，所述觸控基板一面設(shè)有一層透明的導(dǎo)電膜，所述驅(qū)動(dòng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的X方向感應(yīng)塊，所述感應(yīng)電極為蝕刻在導(dǎo)電膜上的Y方向感應(yīng)塊。本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明實(shí)施例的單層ITO實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的裝置及方法不需要金屬走線，只需要刻蝕一次ITO線路，大大簡(jiǎn)化了產(chǎn)品的工藝流程，簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類功能面板璃，解決了目前電容觸摸屏觸控功能面板基本依賴高精度的光刻生產(chǎn)線及金屬鍍膜存在的制作難題，其良品率可以得到大大提高。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102830883SQ20121033827
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2012年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月13日
發(fā)明者周自立, 姚伏恒 申請(qǐng)人:深圳市中顯微電子有限公司