專利名稱：輸入裝置及輸入裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及輸入裝置及輸入裝置的制造方法，尤其涉及能夠?qū)⒁粚?duì)透明基材準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置及輸入裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
目前，作為攜帶用的電子設(shè)備等的顯示部，使用直接用手指等操作顯示圖像的菜單項(xiàng)目或?qū)ο蠖M(jìn)行坐標(biāo)輸入用的透光型輸入裝置。作為這樣的輸入裝置，列舉有各種方式，但其中大多使用通過(guò)靜電電容值的變化來(lái)檢測(cè)輸入位置信息的靜電電容式的輸入裝置。靜電電容式的輸入裝置具有一對(duì)透明基材、用于保護(hù)表面的保護(hù)面板。在一對(duì)透 明基材上分別形成有透明電極層，以在透明電極層間形成靜電電容的方式將各透明基材層疊。靜電電容式的輸入裝置能夠根據(jù)透明電極層間的靜電電容值的變化來(lái)檢測(cè)輸入位置信息。因此，在組裝輸入裝置時(shí)，若一對(duì)透明基材的層疊位置發(fā)生錯(cuò)動(dòng)，則產(chǎn)生無(wú)法準(zhǔn)確地檢測(cè)輸入位置信息這樣的問(wèn)題。另外，對(duì)于一對(duì)透明基材和保護(hù)面板而言，當(dāng)未準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊時(shí)，存在產(chǎn)生不能檢測(cè)輸入操作的區(qū)域的情況或外觀品質(zhì)上的不良情況。作為將各透明基材或各構(gòu)件間準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊的方法，已知有分別設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記而圖像識(shí)別來(lái)進(jìn)行對(duì)位的方法。例如，在專利文獻(xiàn)I中就公開有這樣的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一例。另外，在專利文獻(xiàn)2中公開有一種能夠通過(guò)在非輸入?yún)^(qū)域形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，來(lái)提高顯示裝置與輸入裝置的對(duì)準(zhǔn)精度的結(jié)構(gòu)。在專利文獻(xiàn)3及專利文獻(xiàn)4中公開有一種能夠通過(guò)在輸入?yún)^(qū)域形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，來(lái)提高顯示裝置與輸入裝置的對(duì)準(zhǔn)精度的結(jié)構(gòu)。在先技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I日本特開平11-153805號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開2008-209554號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本特開2010-170250號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4日本特開2008-009054號(hào)公報(bào)在靜電電容式的輸入裝置中，存在因來(lái)自外部的電磁噪聲等的影響、通過(guò)手或手指接觸非輸入?yún)^(qū)域時(shí)在非輸入?yún)^(qū)域與透明電極層之間產(chǎn)生的靜電干涉的影響等，而產(chǎn)生誤輸入或誤檢測(cè)的問(wèn)題。為了防止這樣的靜電干涉，以包圍透明基材的輸入?yún)^(qū)域的方式設(shè)置GND電極層。然而，當(dāng)形成GND電極層，并在GND電極層的外側(cè)的非輸入?yún)^(qū)域形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)，非輸入?yún)^(qū)域的面積增大，難以實(shí)現(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，當(dāng)在比GND電極層靠?jī)?nèi)側(cè)的位置形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)，在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與透明電極層之間形成靜電電容，由此，輸入?yún)^(qū)域內(nèi)的靜電電容分布變得不均勻，產(chǎn)生輸入操作時(shí)的檢測(cè)靈敏度分布變得不均勻這樣的問(wèn)題
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明用于解決上述問(wèn)題，其目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，且能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置及輸入裝置的制造方法。本發(fā)明的輸入裝置的特征在于，具有透光性的第一透明基材、與所述第一透明基材對(duì)置配置的第二透明基材、在所述第一透明基材及所述第二透明基材的輸入?yún)^(qū)域分別形成的第一透明電極層和第二透明電極層、以包圍所述第一透明基材的所述輸入?yún)^(qū)域的方式形成的GND電極層，在所述第一透明基材上形成有由所述GND電極層的一部分構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，在所述第二透明基材上的與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的位置形成有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的至少一部分與所述第一 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式將所述第一透明基材和所述第二透明基材層疊。由此，能夠?qū)υ诘谝煌该骰纳闲纬傻牡谝粚?duì)準(zhǔn)標(biāo)記和在第二透明基材上形成的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行圖像識(shí)別，從而將第一透明基材和第二透明基材準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。并且，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由GND電極層的一部分構(gòu)成，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分以與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式形成，因此能夠抑制位于輸入?yún)^(qū)域的周圍的非輸入?yún)^(qū)域擴(kuò)大，從而實(shí)現(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，GND電極層以包圍輸入?yún)^(qū)域的方式形成，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，且抑制各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與透明電極層之間的靜電干涉，因此能夠防止誤檢測(cè)或誤動(dòng)作。因此，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，且能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置。在本發(fā)明的輸入裝置中，優(yōu)選在所述GND電極層的外緣形成有凹部，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由所述凹部構(gòu)成，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述凹部?jī)?nèi)。由此，抑制非輸入?yún)^(qū)域的擴(kuò)大而形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，因此能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由在GND層的外緣形成的凹部構(gòu)成，因此不改變GND電極層的內(nèi)緣的形狀就能夠形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。由此，在位于GND電極層的內(nèi)側(cè)的輸入?yún)^(qū)域中能夠防止靜電電容分布的變化。另外，通過(guò)GND電極層，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，且抑制第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與各透明電極層之間的靜電干涉。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，并能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。優(yōu)選在所述GND電極層形成有開口部，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由所述開口部構(gòu)成，且所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述開口部?jī)?nèi)。這樣的形態(tài)下也能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，并能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。優(yōu)選在所述第一透明基材的平面內(nèi)，將交叉的兩個(gè)方向作為第一方向和第二方向時(shí)，所述GND電極層具有沿所述第一方向延伸的第一 GND電極部和沿所述第二方向延伸的第二 GND電極部，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由所述第一 GND電極部的一部分及所述第二 GND電極部的一部分構(gòu)成，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記具有沿著所述第一方向的第一部分和沿著所述第二方向的第二部分。由此，即使在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的附近配置引出配線層等其它圖案的情況下，也能夠使第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形狀與其它圖案明確地不同，因此能夠防止圖像識(shí)別中的誤識(shí)別。另外，在對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行圖像識(shí)別時(shí)，能夠在不擴(kuò)大非輸入?yún)^(qū)域的情況下實(shí)質(zhì)性增大圖像識(shí)別區(qū)域，因此能夠防止誤識(shí)別且能夠提高圖像識(shí)別精度。因此，能夠?qū)⒌谝煌该骰暮偷诙该骰臏?zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。
在本發(fā)明的輸入裝置中，優(yōu)選所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的所述第一部分與所述第二部分分離形成。若為這樣的形態(tài)，則能夠利用GND電極層的角部來(lái)進(jìn)行輸入裝置的靜電破壞檢查。優(yōu)選在所述第一透明基材的輸入面?zhèn)葘盈B有用于保護(hù)表面的保護(hù)面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣來(lái)對(duì)位而進(jìn)行層疊。由此，不需要另外設(shè)置用于層疊保護(hù)面板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，而能夠基于第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記將第一透明基材及第二透明基材與保護(hù)面板準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。本發(fā)明的輸入裝置的制造方法的特征在于，包括以包圍所述第一透明基材的所述輸入?yún)^(qū)域的方式形成GND電極層，并形成由所述GND電極層的一部分構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序；在所述第二透明基材的與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的位置形成第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序；以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的至少一部分與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式將所述第·一透明基材和所述第二透明基材層疊的工序。由此，能夠?qū)υ诘谝煌该骰纳闲纬傻牡谝粚?duì)準(zhǔn)標(biāo)記和在第二透明基材上形成的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行圖像識(shí)別，從而將第一透明基材和第二透明基材準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。并且，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由GND電極層的一部分構(gòu)成，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式層疊各透明基材，因此能夠抑制位于輸入?yún)^(qū)域的周圍的非輸入?yún)^(qū)域擴(kuò)大，從而實(shí)現(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，GND電極層以包圍輸入?yún)^(qū)域的方式形成，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，并抑制各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與透明電極層之間的靜電干涉，因此能夠防止誤檢測(cè)或誤動(dòng)作。因此，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，且能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置。在本發(fā)明的輸入裝置的制造方法中，優(yōu)選包括在所述GND電極層的外緣設(shè)置凹部，形成由所述凹部構(gòu)成的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序；以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述凹部?jī)?nèi)的方式將所述第一透明基材和所述第二透明基材層疊的工序。這樣，能夠抑制非輸入?yún)^(qū)域的擴(kuò)大而形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，因此能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由在GND層的外緣形成的凹部構(gòu)成，因此不改變GND電極層的內(nèi)緣的形狀就能夠形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。由此，在位于GND電極層的內(nèi)側(cè)的輸入?yún)^(qū)域中能夠防止靜電電容分布的變化。另外，通過(guò)GND電極層，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，且抑制第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與各透明電極層之間的靜電干涉。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，并能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。在本發(fā)明的輸入裝置的制造方法中，優(yōu)選包括在所述GND電極層設(shè)置開口部，形成由所述開口部構(gòu)成的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序；以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述開口部?jī)?nèi)的方式將所述第一透明基材和所述第二透明基材層疊的工序。這樣的形態(tài)下也能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，并能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。在本發(fā)明的輸入裝置的制造方法中，優(yōu)選包括基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣，將用于保護(hù)表面的保護(hù)面板對(duì)位，從而將所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板層疊的工序。由此，不需要另外設(shè)置用于層疊保護(hù)面板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，而能夠基于第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記將第一透明基材及第二透明基材與保護(hù)面板準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)υ诘谝煌该骰纳闲纬傻牡谝粚?duì)準(zhǔn)標(biāo)記和在第二透明基材上形成的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行圖像識(shí)別，從而將第一透明基材和第二透明基材準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)
行層疊。并且，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由GND電極層的一部分構(gòu)成，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分以與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式形成，因此能夠抑制位于輸入?yún)^(qū)域的周圍的非輸入?yún)^(qū)域擴(kuò)大，從而實(shí)現(xiàn)輸入裝置的窄框化。另外，GND電極層以包圍輸入?yún)^(qū)域的方式形成，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，且抑制各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與透明電極層之間的靜電干涉，因此能夠防止誤檢測(cè)或誤動(dòng)作。
因此，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，且能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置。


圖I是本實(shí)施方式中的輸入裝置的分解立體圖。圖2是本實(shí)施方式中的第一透明基材的俯視圖。圖3是本實(shí)施方式中的第二透明基材的俯視圖。圖4是將第一透明基材與第二透明基材對(duì)位而進(jìn)行層疊后的示意俯視透視圖。圖5是表示本實(shí)施方式的第一變形例的將第一透明基材與第二透明基材層疊后的示意俯視透視圖。圖6是表示第二變形例的將第一透明基材與第二透明基材層疊后的示意俯視透視圖。圖7是表示本實(shí)施方式的輸入裝置的制造方法的形成具有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的GND電極層的工序的圖。圖8是表示本實(shí)施方式的輸入裝置的制造方法的形成具有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的GND電極層的工序的圖。圖9是表示將第一透明基材和第二透明基材層疊的工序的圖。圖10是表示將第一透明基材及第二透明基材與保護(hù)面板層疊的工序的圖。符號(hào)說(shuō)明I輸入裝置10第一透明基材11第一透明電極層12第一引出配線層20第二透明基材21第二透明電極層22第二引出配線層31保護(hù)面板32裝飾層
4IGND 電極層41a 第一 GND 電極部41b 第二 GND 電極部42第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42a 第一凹部42b 第二凹部42c 第一開口部42d 第二開口部43第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43a 第一部分43b 第二部分43ml第一部分的基準(zhǔn)緣43m2第二部分的基準(zhǔn)緣 51輸入?yún)^(qū)域52非輸入?yún)^(qū)域61透明電極膜62金屬層63、64抗蝕劑層
具體實(shí)施例方式圖I中示出本發(fā)明的實(shí)施方式中的輸入裝置I的分解立體圖。另外，圖2中示出第一透明基材10的俯視圖，圖3中示出第二透明基材20的俯視圖。如圖I所示，本實(shí)施方式的輸入裝置I具有第一透明基材10、第二透明基材20及在第一透明基材10的輸入面?zhèn)扰渲玫谋Ｗo(hù)面板31。保護(hù)面板31為了保護(hù)輸入裝置I的表面而設(shè)置，使用PC (聚碳酸酯)等樹脂基板、玻璃基板等透光性的材料形成。如圖I所示，在保護(hù)面板31的外周設(shè)有被著色了的裝飾層32，由此，劃分成透光性的輸入?yún)^(qū)域51和被著色了的非透光性的非輸入?yún)^(qū)域52。如圖I及圖2所示，在第一透明基材10的輸入?yún)^(qū)域51形成有第一透明電極層11。第一透明電極層11由沿Y1-Y2方向延伸的多個(gè)帶狀的透明電極層構(gòu)成，這多個(gè)帶狀的透明電極層在X1-X2方向上空開間隔排列。另外，如圖I及圖3所示，在第二透明基材20的輸入?yún)^(qū)域51形成有由多個(gè)帶狀的透明電極層構(gòu)成的第二透明電極層21。第二透明電極層21中沿X1-X2方向延伸的多個(gè)透明電極層在Y1-Y2方向上空開間隔排列。如圖I所示，以在第一透明電極層11與第二透明電極層21的各交點(diǎn)處形成靜電電容值的方式將第一透明基材10與第二透明基材20層疊。第一透明基材10和第二透明基材20經(jīng)由透光性的丙烯系雙面膠帶或由丙烯系光學(xué)粘接劑構(gòu)成的粘接層33 (未圖示)而層疊。另外，保護(hù)面板31和第一透明基材10同樣地經(jīng)由粘接層34(未圖示)而層疊。第一透明基材10及第二透明基材20使用透光性的薄膜狀樹脂材料，例如可以使用PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)薄膜。第一透明基材10及第二透明基材20的厚度分別形成為50 ii m 200 ii m左右。另外，第一透明電極層11及第二透明電極層21都由在可見光區(qū)域具有透光性的ITOdndium Tin Oxide)、Sn02、ZnO等的透明電極膜形成。第一透明電極層11及第二透明電極層21通過(guò)濺射法或蒸鍍法等薄膜法形成，它們的厚度都為0. 01 y m 0. 05 y m，例如形成為0. 02 y m左右。另外，在濺射法或蒸鍍法以外的方法中，還可以通過(guò)準(zhǔn)備預(yù)先形成有透明電極膜的薄膜而僅將透明電極膜轉(zhuǎn)印到透明基材上的方法、涂敷導(dǎo)電性聚合物或Ag納米金屬線等的方法來(lái)形成。在輸入裝置I的輸入操作時(shí)，若使手指接觸保護(hù)面板31表面的輸入?yún)^(qū)域51的任意的部位，則在第一透明電極層11與第二透明電極層21之間的靜電電容上附加了第一透明電極層11與手指之間的靜電電容，從而產(chǎn)生靜電電容值的變化。通過(guò)檢測(cè)第一透明電極層11與第二透明電極層21的各交點(diǎn)的靜電電容值，能夠根據(jù)靜電電容值的變化來(lái)檢測(cè)輸入位置。
如圖2所示，在第一透明電極層11的Yl側(cè)的端部連接有第一引出配線層12。第一引出配線層12在Yl側(cè)的非輸入?yún)^(qū)域52被拉回而與第一連接部13連接。第一透明電極層11與第一引出配線層12經(jīng)由用于確保連接可靠性的連接用焊盤15連接，另外，在第一透明電極層11的Y2側(cè)的端部形成有用于測(cè)定電特性的檢查用焊盤14。另外，如圖3所示，在第二透明電極層21的Xl側(cè)的端部和X2側(cè)的端部分別連接有第二引出配線層22。第二引出配線層22在非輸入?yún)^(qū)域52被拉回，而與在Yl側(cè)形成的第二連接部23連接。第一連接部及第二連接部與撓性印刷電路板(未圖示)連接，從而能夠?qū)⑤斎胛恢眯畔⑤敵?。在與撓性印刷電路板的連接中，優(yōu)選在第一透明基材10上的與第二連接部23對(duì)置的位置形成切口等(未圖示)。這樣，第一連接部13和第二連接部23并列露出，因此能夠容易地進(jìn)行與撓性印刷電路板的連接。第一引出配線層12、第二引出配線層22、第一連接部13及第二連接部23形成在與形成于保護(hù)面板31的裝飾層32在俯視下重疊的位置，操作者無(wú)法直接視覺辨認(rèn)，因此可以使用非透光性的材料。在本實(shí)施方式中，使用具有比第一透明電極層11及第二透明電極層21高的導(dǎo)電性(電阻值低)的例如AgPdCu、Cu、Al、Ag、Au、MoNb/Al、MoNb/AgPdCu等金屬材料。通過(guò)在各引出配線層及各連接部使用電阻值低的材料，而能夠確保電連接可靠性，并且即使在將第一引出配線層12及第二引出配線層22的線寬形成得更細(xì)的情況下，也能夠得到低的電阻值，因此對(duì)輸入裝置I的窄框化更有效。在本實(shí)施方式的輸入裝置I中，如圖I及圖2所示，GND電極層41以包圍輸入?yún)^(qū)域51的方式形成在第一透明基材10的非輸入?yún)^(qū)域52。GND電極層41使用與第一引出配線層12及第一連接部13同樣地具有高導(dǎo)電性的金屬材料。需要說(shuō)明的是，GND電極層41在使用時(shí)設(shè)定為接地電位。通過(guò)設(shè)置GND電極層41，能夠屏蔽來(lái)自外部的電子設(shè)備等的電磁噪聲，并能夠抑制靜電干涉。另外，即使在使手指或手接觸保護(hù)面板31表面的非輸入?yún)^(qū)域52的情況下，通過(guò)GND電極層41進(jìn)行屏蔽，在GND電極層41的內(nèi)側(cè)的輸入?yún)^(qū)域51處也能夠抑制靜電干涉。由此，能夠防止無(wú)檢測(cè)等，從而能夠穩(wěn)定地檢測(cè)輸入位置信息。另外，如上所述，在靜電電容式的輸入裝置I中，掃描第一透明電極層11與第二透明電極層21的各交點(diǎn)來(lái)檢測(cè)靜電電容值的變化，由此能夠檢測(cè)輸入位置信息。因此，為了準(zhǔn)確地檢測(cè)輸入位置信息，而需要將第一透明基材10和第二透明基材20準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。如圖2所示，在本實(shí)施方式的輸入裝置I中，在GND電極層41的外緣形成有朝向內(nèi)側(cè)而凹陷形成的第一凹部42a及第二凹部42b。由該第一凹部42a及第二凹部42b構(gòu)成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42。另外，如圖3所示，在第二透明基材20的非輸入?yún)^(qū)域52中的與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42對(duì)應(yīng)的位置形成有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43。第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43與第二引出配線層22、第二連接部23等同樣，使用具有高的導(dǎo)電性的金屬材料。在將第一透明基材10和第二透明基材20層疊時(shí)，能夠?qū)Φ谝粚?duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的位置進(jìn)行圖像識(shí)別而準(zhǔn)確地對(duì)位并進(jìn)行層疊。圖4中示出將第一透明基材10和第二透明基材20層疊后的示意俯視透視圖，尤其對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43附近進(jìn)行放大示出。如圖4所示，GND電極層41具有沿Y1-Y2方向延伸的第一 GND電極部41a和沿X1-X2方向延伸的第二 GND電極部41b。如圖4所示，在第一 GND電極部41a的外緣形成有第一凹部42a，在第二 GND電極部41b的外緣形成有第二凹部42b。第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42由第一凹部42a及第二凹部42b構(gòu) 成。另外，在第二透明基材20上形成的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43具備具有沿著Y1-Y2方向的基準(zhǔn)緣43ml的矩形形狀的第一部分43a ;具有沿著X1-X2方向的基準(zhǔn)緣43m2的矩形形狀的第二部分43b。并且，在與第一凹部42a對(duì)應(yīng)的位置形成有第一部分43a，在與第二凹部42b對(duì)應(yīng)的位置形成有第二部分43b。在本實(shí)施方式中，將矩形形狀的第一部分43a及第二部分43b的長(zhǎng)邊的一部分分別作為基準(zhǔn)緣43ml、基準(zhǔn)緣43m2。通過(guò)這樣形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43，能夠?qū)Φ谝粚?duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43分別進(jìn)行圖像識(shí)別而準(zhǔn)確地對(duì)位并進(jìn)行層疊。在本實(shí)施方式的輸入裝置I中，如圖4所示，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml的一部分位于第一凹部42a的內(nèi)部，且第二部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的一部分位于第二凹部42b的內(nèi)部的方式進(jìn)行層置。例如在第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42與GND電極層41分別形成的情況下，為了形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42，需要將GND電極層41的外周的非輸入?yún)^(qū)域52的面積擴(kuò)大，從而輸入裝置I的窄框化變得困難。根據(jù)本實(shí)施方式的輸入裝置1，由在GND電極層41的外緣形成的第一凹部42a及第二凹部42b構(gòu)成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43形成在與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42對(duì)應(yīng)的位置上。由此，不用擴(kuò)大非輸入?yún)^(qū)域52就形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43，從而能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置I的窄框化。并且，即使形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43，由于GND電極層41以包圍輸入?yún)^(qū)域51的方式形成，因此也能夠有效地抑制來(lái)自外部的電磁噪聲或手指等接觸非輸入?yún)^(qū)域時(shí)的靜電干涉。另外，由于不改變GND電極層的內(nèi)緣的形狀就形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，因此在位于GND電極層41的內(nèi)側(cè)的輸入?yún)^(qū)域51中能夠防止靜電電容分布的變化。另外，通過(guò)GND電極層41，來(lái)抑制來(lái)自外部的電磁噪聲等引起的靜電干涉，并抑制第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43與各透明電極層之間的靜電干涉。因此，根據(jù)本實(shí)施方式的輸入裝置，能夠有效地抑制靜電干涉而防止誤動(dòng)作或誤檢測(cè)。在本實(shí)施方式中，通過(guò)對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的第一凹部42a、第二凹部42b及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a、第二部分43b進(jìn)行圖像識(shí)別，來(lái)將第一透明基材10和第二透明基材20對(duì)位而進(jìn)行層疊。由此，即使在各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記附近配置引出配線層等其它圖案的情況下，由于能夠使第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的形狀與其它圖案明確地不同，因此也能夠防止圖像識(shí)別中的誤識(shí)別。另外，在對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43進(jìn)行圖像識(shí)別的情況下，能夠在不擴(kuò)大非輸入?yún)^(qū)域52的情況下實(shí)質(zhì)性地增大圖像識(shí)別區(qū)域，因此能夠防止誤識(shí)別且能夠提高圖像識(shí)別精度。另外，在本實(shí)施方式中，將第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的第一凹部42a與第二凹部42b分離形成，并且，將第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a與第二部分43b分離形成。若為這樣的形態(tài)，則在GND電極層41的角部未設(shè)置第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的第一凹部42a及第二凹部42b，因此能夠利用GND電極層41的角部來(lái)進(jìn)行輸入裝置I的靜電破壞檢查。另外，由于能夠在不擴(kuò)大非輸入?yún)^(qū)域52的情況下更大地確保圖像識(shí)別區(qū)域，因此能夠防止誤識(shí)別。需要說(shuō)明的是，在圖4中，對(duì)第一透明基材10及第二透明基材20的一個(gè)角部進(jìn)行了圖示，但對(duì)角也同樣，通過(guò)設(shè)置第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43，能夠更準(zhǔn)確地進(jìn)行對(duì)位。另外，如圖2及圖3所示，在對(duì)角的非輸入?yún)^(qū)域52中，為了進(jìn)行與撓性印刷電路板的連接而具有比較寬的面積，因此不局限于圖4所示的形態(tài)，能夠以各種形態(tài)形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。 為了實(shí)現(xiàn)輸入裝置I的窄框化，例如，還研究出如下方法在第一透明基材10的一部分及第二透明基材20的一部分預(yù)先設(shè)置突出部，并在該突出部上分別形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，通過(guò)在基于各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記而將第一透明基材10和第二透明基材20貼合后，將突出部切斷，從而能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置I的窄框化。在該情況下，將各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記也和突出部一起切斷。因此，在將第一透明基材10和第二透明基材20貼合后層疊保護(hù)面板31時(shí)，對(duì)位非常困難。在本實(shí)施方式的輸入裝置I中，在實(shí)現(xiàn)窄框而將第一透明基材10和第二透明基材20層疊后，也能夠視覺辨認(rèn)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的一部分。在本實(shí)施方式中，由于能夠在第一凹部42a及第二凹部42b內(nèi)視覺辨認(rèn)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml及第二部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的一部分，因此基于基準(zhǔn)緣43ml及基準(zhǔn)緣43m2的一部分，能夠?qū)⒌谝煌该骰?0及第二透明基材20與保護(hù)面板31容易且準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的形態(tài)沒有限定為圖4所示那樣的形態(tài)。例如，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43可以為正方形、圓形、十字或它們的組合等通常的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。另外，在圖4中，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43 (第一部分43a、第二部分43b)的一部分位于第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42 (第一凹部42a、第二凹部42b)的內(nèi)部的方式進(jìn)行層疊，但不局限于此，即使形成為第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a及第二部分43b整體分別位于第一凹部42a內(nèi)及第二凹部42b內(nèi)的大小也沒有任何問(wèn)題。需要說(shuō)明的是，在本實(shí)施方式的輸入裝置I中，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43分別具有多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，但不局限于該形態(tài)，即使在僅形成第一凹部42a與第一部分43a的組合或第二凹部42b與第二部分43b的組合中的任一方的情況下，也能夠進(jìn)行圖像識(shí)別而準(zhǔn)確地對(duì)位。圖5示出本實(shí)施方式的第一變形例的將第一透明基材10和第二透明基材20層疊后的示意俯視透視圖。如圖5所示，可以不將第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42分離而在GND電極層41的角部連接設(shè)置。在該情況下，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a、第二部分43b也連接而形成為L(zhǎng)字狀。在第一變形例中，也能夠基于第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的基準(zhǔn)緣43ml、43m2來(lái)準(zhǔn)確地進(jìn)行對(duì)位。圖6中示出本實(shí)施方式的第二變形例。如圖6所示，在第一 GND電極部41a上形成有第一開口部42c，在第二 GND電極部41b上形成有第二開口部42d。由第一開口部42c及第二開口部42d構(gòu)成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42。另外，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43與圖4同樣，具有第一部分43a及第二部分43b。在本變形例中，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml的一部分位于第一開口部42c內(nèi)部，且第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第二部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的一部分位于第二開口部42d內(nèi)部的方式進(jìn)行層疊。由此， 將第一透明基材10及第二透明基材20準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。在本變形例中，能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置I的窄框化，且能夠抑制靜電干涉?！摧斎胙b置的制造方法〉接著，基于附圖，對(duì)輸入裝置I的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。圖7(a) 圖7(c)及圖8(a) 圖8(c)中示出形成具有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的GND電極層41的工序圖。圖7及圖8的各左圖中示出第一透明基材10的示意俯視透視圖，各右圖中示出在與圖7 (a)的VII-VII線及圖8(a)的VIII-VIII線對(duì)應(yīng)的部位切斷時(shí)的剖視圖。首先，在第一透明基材10上通過(guò)濺射法或蒸鍍法等將ITO等透明電極膜61成膜。接著，在透明電極膜61的整面通過(guò)濺射法或蒸鍍法將金屬層62成膜。金屬層62可以使用AgPdCu、Cu、Al、Ag、Au、MoNb/Al、MoNb/AgPdCu等低電阻材料。需要說(shuō)明的是，金屬層62既可以為單層也可以為層疊體。如圖7(a)所示，在形成第一透明電極層11及GND電極層41的區(qū)域?qū)盈B抗蝕劑層63。此時(shí)，與形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的部位對(duì)應(yīng)，在抗蝕劑層63上設(shè)置凹部63a、63b而進(jìn)行層疊。需要說(shuō)明的是，雖然在圖7(a) (C)及圖8(a) (C)中未圖示，但在形成第一引出配線層12、第一連接部13的區(qū)域也層疊抗蝕劑層63，而以同樣的工序形成第一引出配線層12及第一連接部13 (在以后的說(shuō)明中進(jìn)行省略)。接著，在圖7(b)的工序中，通過(guò)蝕刻除去在未層疊有抗蝕劑層63的區(qū)域露出的金屬層62。在該蝕刻工序中可以選擇濕蝕刻。通過(guò)圖7(b)的工序，在形成第一透明電極層11及GND電極層41的區(qū)域殘留有金屬層62。在圖7(c)的工序中，通過(guò)蝕刻除去在未層疊有抗蝕劑層63的區(qū)域露出的透明電極膜61。之后，當(dāng)除去抗蝕劑層63時(shí)，在形成第一透明電極層11及GND電極層41的區(qū)域殘留有透明電極膜61與金屬層62的層疊體。在圖8(a)所示的工序中，跨形成檢查用焊盤14及GND電極層41的區(qū)域?qū)盈B抗蝕劑層64。需要說(shuō)明的是，在圖8中雖然未圖示，但在設(shè)置第一引出配線層12與第一透明電極層11的連接焊盤部及第一引出配線層12的區(qū)域也層疊有抗蝕劑層64。之后，如圖8(b)所示，通過(guò)蝕刻除去未被抗蝕劑層64覆蓋的金屬層62。由此，使第一透明電極層11露出而形成。之后，在圖8(C)的工序中，通過(guò)除去抗蝕劑層64，在第一透明基材10上形成第一透明電極層11及GND電極層41。通過(guò)這樣的工序，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42 (第一凹部42a、第二凹部42b)通過(guò)最初的抗蝕劑層63能夠位置精度良好地形成。并且，在之后的蝕刻工序中由抗蝕劑層64進(jìn)行保護(hù)，因此不會(huì)受到多次蝕刻的影響，可維持所期望的形狀而形成。對(duì)于在第二透明基材20上形成第二透明電極層21及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的工序而言，也能夠以與圖7 (a) 圖7 (C)及圖8(a) 圖8(c)同樣的工序形成。
需要說(shuō)明的是，在圖7及圖8中，表示在GND電極層41的外緣形成有第一凹部42a的情況，但是不局限于此，即使為圖5所示那樣的L字狀的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42或圖6所示那樣的由開口部43a、43b構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43等其它的形態(tài)，也能夠通過(guò)同樣的工序形成。另外，抗蝕劑層63、64的圖案形成、通過(guò)蝕刻除去金屬層62、透明電極膜61的工序也沒有限定為圖7(a) (C)、圖8(a) (C)的工序。例如，可以為如下這樣的方法在圖7 (C)后，不新形成圖8(a)的抗蝕劑層64，而以使抗蝕劑層63殘留在形成檢查用焊盤14及GND電極層41的區(qū)域上的方式進(jìn)行除去。圖9(a) 圖9(c)中示出將第一透明基材10和第二透明基材20層疊的工序圖。各左圖中示出局部放大俯視圖，各右圖中示出在與圖9 (a)的IX-IX線對(duì)應(yīng)的部位切斷時(shí)的剖視圖。對(duì)準(zhǔn)的方法沒有特別地限定，但可以通過(guò)圖像處理裝置分別讀取第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43來(lái)識(shí)別位置。例如，如圖9 (a)所示，可以對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42的第一凹部42a的直線部和第二凹部42b的直線部進(jìn)行圖像識(shí)別，而將第一凹部42a的直線部和第二凹部42b的直線部的延長(zhǎng)線交叉的點(diǎn)作為第一透明基材10的基準(zhǔn)點(diǎn)A。同樣，如圖9(b)所示，可以對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml的直線部和第二部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的直線部進(jìn)行圖像識(shí)別，而將對(duì)第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml的直線部和第二 部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的直線部進(jìn)行延長(zhǎng)的直線的交叉的點(diǎn)作為第二透明基材20的基準(zhǔn)點(diǎn)B。之后，以使兩基準(zhǔn)點(diǎn)成為適當(dāng)?shù)奈恢玫姆绞酵ㄟ^(guò)自動(dòng)設(shè)備對(duì)第一透明基材10及第二透明基材20的位置進(jìn)行調(diào)整而將它們貼合，從而能夠準(zhǔn)確地對(duì)位而進(jìn)行層疊。通過(guò)這樣的工序，如圖9(c)所示，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的至少一部分與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42在俯視下重疊、即第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的第一部分43a的基準(zhǔn)緣43ml的一部分位于第一凹部42a內(nèi)，且第二部分43b的基準(zhǔn)緣43m2的一部分位于第二凹部42b內(nèi)的方式將第一透明基材10和第二透明基材20經(jīng)由粘接層33層疊。根據(jù)本實(shí)施方式的輸入裝置I的制造方法，能夠抑制非輸入?yún)^(qū)域52的擴(kuò)大而形成第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43，因此能夠?qū)崿F(xiàn)輸入裝置I的窄框化。并且，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記42及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43與各透明電極層之間的靜電干涉也由GND電極層41抑制，因此在位于GND電極層41的內(nèi)側(cè)的輸入?yún)^(qū)域51能夠防止靜電電容分布的變化和靜電干涉。因此，通過(guò)GND電極層41能夠有效地抑制靜電干涉，從而能夠防止誤動(dòng)作或誤檢測(cè)。圖10(a) 圖10(c)中示出將第一透明基材10及第二透明基材20與保護(hù)面板31層疊的工序圖。各左圖中示出局部放大俯視圖，各右圖中示出在與圖10(c)的X-X線對(duì)應(yīng)的部位切斷時(shí)的剖視圖。如圖10(a)所示，在保護(hù)面板31的非輸入?yún)^(qū)域52層疊有裝飾層32。在層疊保護(hù)面板31時(shí)，可以對(duì)例如裝飾層32的內(nèi)緣的角部進(jìn)行圖像識(shí)別而將該角部作為基準(zhǔn)點(diǎn)C。另外，在通過(guò)圖9(a) 圖9(c)的工序?qū)盈B的第一透明基材10與第二透明基材20的層疊體中，能夠視覺辨認(rèn)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的基準(zhǔn)緣43ml的直線部的一部分及基準(zhǔn)緣43m2的直線部的一部分。因此，與圖9 (b)的工序同樣，能夠?qū)⒒鶞?zhǔn)點(diǎn)B作為基準(zhǔn)位置(參照?qǐng)D10(b))。并且，以使基準(zhǔn)點(diǎn)C和基準(zhǔn)點(diǎn)B成為適當(dāng)?shù)奈恢玫姆绞綄⒈Ｗo(hù)面板31和第一透明基材10及第二透明基材20經(jīng)由粘接層34層疊。由此，如圖10 (c)所示，能夠制造在表面配置有保護(hù)面板31的輸入裝置I。需要說(shuō)明的是，保護(hù)面板31的基準(zhǔn)點(diǎn)C沒有限定為圖10(a)那樣的裝飾層32的內(nèi)緣的角部，可以另外設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。并且，在層疊保護(hù)面板31之后，也能夠從第二透明 基材20側(cè)視覺辨認(rèn)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的基準(zhǔn)緣43ml、基準(zhǔn)緣43m2的一部分，因此在層疊液晶面板或有機(jī)EL面板等顯示裝置和輸入裝置I時(shí)，也能夠基于第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記43的基準(zhǔn)緣43ml、基準(zhǔn)緣43m2而進(jìn)彳丁層置。
權(quán)利要求
1.一種輸入裝置，其特征在于，具有 透光性的第一透明基材； 與所述第一透明基材對(duì)置配置的第二透明基材； 在所述第一透明基材及所述第二透明基材的輸入?yún)^(qū)域分別形成的第一透明電極層和第二透明電極層； 以包圍所述第一透明基材的所述輸入?yún)^(qū)域的方式形成的GND電極層， 在所述第一透明基材上形成有由所述GND電極層的一部分構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記， 在所述第二透明基材上的與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的位置形成有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記， 以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的至少一部分與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式將所述第一透明基材與所述第二透明基材層疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述GND電極層的外緣形成有凹部，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由所述凹部構(gòu)成，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述凹部?jī)?nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述GND電極層形成有開口部，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記由所述開口部構(gòu)成，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述開口部?jī)?nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項(xiàng)所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述第一透明基材的平面內(nèi)，將交叉的兩個(gè)方向設(shè)為第一方向和第二方向時(shí)，所述GND電極層具有沿所述第一方向延伸的第一 GND電極部和沿所述第二方向延伸的第二 GND電極部， 所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記具有由所述第一 GND電極部的一部分形成的第一部分和由所述第二 GND電極部的一部分形成的第二部分，所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記具有沿著所述第一方向的第一部分和沿著所述第二方向的第二部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輸入裝置，其特征在于， 所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的所述第一部分與所述第二部分分離形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項(xiàng)所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述第一透明基材的輸入面?zhèn)葘盈B有用于保護(hù)表面的保護(hù)面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣進(jìn)行對(duì)位而層疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述第一透明基材的輸入面?zhèn)葘盈B有用于保護(hù)表面的保護(hù)面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣進(jìn)行對(duì)位而層疊。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的輸入裝置，其特征在于， 在所述第一透明基材的輸入面?zhèn)葘盈B有用于保護(hù)表面的保護(hù)面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣進(jìn)行對(duì)位而層疊。
9.一種輸入裝置的制造方法，該輸入裝置具有透光性的第一透明基材；與所述第一透明基材對(duì)置配置的第二透明基材；在所述第一透明基材及所述第二透明基材的輸入?yún)^(qū)域分別形成的第一透明電極層和第二透明電極層，所述輸入裝置的制造方法的特征在于，包括 以包圍所述第一透明基材的所述輸入?yún)^(qū)域的方式形成GND電極層，并形成由所述GND電極層的一部分構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序； 在所述第二透明基材的與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的位置上形成第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序; 以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的至少一部分與所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在俯視下重疊的方式將所述第一透明基材與所述第二透明基材層疊的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的輸入裝置的制造方法，其特征在于，包括 在所述GND電極層的外緣設(shè)置凹部，而形成由所述凹部構(gòu)成的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序; 以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述凹部?jī)?nèi)的方式將所述第一透明基材與所述第二透明基材層疊的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的輸入裝置的制造方法，其特征在于，包括 在所述GND電極層設(shè)置開口部，而形成由所述開口部構(gòu)成的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的工序; 以所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣的至少一部分在俯視下位于所述開口部?jī)?nèi)的方式將所述第一透明基材與所述第二透明基材層疊的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的輸入裝置的制造方法，其特征在于， 包括基于所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)緣，使用于保護(hù)表面的保護(hù)面板對(duì)位，從而將所述第一透明基材及所述第二透明基材與所述保護(hù)面板層疊的工序。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)靜電干涉的抑制及窄框化，且能夠?qū)⑼该骰拈g準(zhǔn)確對(duì)位而進(jìn)行層疊的輸入裝置及輸入裝置的制造方法。該輸入裝置的特征在于，具有透光性的第一透明基材(10)、與所述第一透明基材(10)對(duì)置配置的第二透明基材(20)、以包圍第一透明基材(10)的輸入?yún)^(qū)域(51)的方式形成且用于防止靜電干涉的GND電極層(41)，在第一透明基材(10)上形成有由所述GND電極層(41)的一部分構(gòu)成的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(42)，在第二透明基材(20)上的與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(42)對(duì)應(yīng)的位置形成有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(43)，以第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(43)的至少一部分與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(42)在俯視下重疊的方式將第一透明基材(10)和第二透明基材(20)層疊。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102778983SQ20121008039
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2012年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月13日
發(fā)明者杉井詠一 申請(qǐng)人:阿爾卑斯電氣株式會(huì)社