專利名稱：改良的單層感應觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種改良的單層感應觸控面板及其制造方法，屬于觸控線路構(gòu)造和觸控面板體復合層結(jié)構(gòu)及其制程技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的電容觸摸屏其基材設(shè)置有上下兩層ITO(氧化銦錫)圖案線路。其工作原理是通過檢測上下兩層的x、Y軸的觸點電容值的改變量，經(jīng)由觸控芯片處理后分別確定X、Y軸方向手指觸摸的位置，進而確定觸摸屏或者觸摸板上手指觸摸點的點坐標。由于現(xiàn)有的電容觸摸屏或者觸摸板需設(shè)置上下兩層ITO線路，制造エ序多，生產(chǎn)成本高，價格遠比當前大量應用的電阻觸摸屏貴，不利于電容式觸摸屏、觸摸板的推廣應用。本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)不足之處采用單層ITO線路設(shè)置在基材同一表面上，使用 OC (over coat)保護層是感光性樹脂薄膜，由丙烯基樹脂和環(huán)氧樹脂制成，兼有黒色矩陣(Black matrix)與絕緣材的作用，具有制造エ序少、生產(chǎn)成本低，降低面板體的厚度,也減輕其重量，通光性好，整體輕薄等優(yōu)點。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題本發(fā)明針對在基材同一表面上采用單層ITO線路設(shè)置，提出ー種不易破損、容易加工、產(chǎn)品成本較低、降低面板體的厚度、不用重新投大資本的生產(chǎn)線、良品率高的改良的單層感應觸控面板及其制造方法。技術(shù)方案本發(fā)明公開了ー種改良的單層感應觸控面板，透明基板層的ー表面覆設(shè)圖案線路感應層，透明絕緣涂層覆置在圖案線路感應層上；其中，圖案線路感應層設(shè)有縱向串聯(lián)觸感單元組、橫向非電性連接觸感單元組,在縱向串聯(lián)觸感單元組和橫向非電性連接觸感單元組交匯處設(shè)橋接層電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；縱向串聯(lián)觸感單元組和橫向非電性連接觸感單元組的邊緣端分別設(shè)置電極走線。上述橋接層由絕緣層和導電層組成，絕緣層為透明絕緣層覆設(shè)在透明基板層、縱向串聯(lián)觸感単元之間的連接線上；導電層為鑰鋁鑰合金層覆設(shè)在絕緣層上電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感単元，或者導電層為氧化銦錫層覆設(shè)在絕緣層上電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感単元。觸感單元為菱形或者長方形圖案線路；圖案線路感應層為氧化銦錫感應線路；透明基板層為PET基板或玻璃基板；電極走線為鑰鋁鑰合金構(gòu)成。透明基板層的厚度為75微米 250微米；圖案線路感應層和導電層的厚度為15納米 25納米；橋接層的厚度為I. O微米 2. O微米。制作改良的單層感應觸控面板的方法，包括如下步驟在無塵干燥條件下進行；步驟ー在透明基板層上鍍氧化銦錫膜透明導電材料；步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層；步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層；步驟四對圖案線路感應層整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線，并在在絕緣層表面得到導電層電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元;步驟五將透明絕緣涂層涂覆在圖案線路感應層和橋接層上。所述絕緣層的厚度為I. O微米 2. O微米。有益效果傳統(tǒng)的電容觸控設(shè)備中，分別將X，y軸感應線跡設(shè)在兩個不同的平面上，因此在觸控板的生產(chǎn)制程中，將設(shè)置在兩個不同平面上的X，I軸感應線跡疊置結(jié)合時容易產(chǎn)生氣泡并難于排除，常會有對位不準確的現(xiàn)象發(fā)生，導致觸控板的電容感應訊號的 敏感度及精確度降低的缺失。本發(fā)明公開了ー種改良的單層感應觸控面板及其制造方法，采用單層ITO線路設(shè)置在基材同一表面上，將橫向X軸線跡與縱向y軸線跡設(shè)置在同一平面上，使各感應線跡布設(shè)位置準確，以增進觸控板感應效能的敏感度及精確度。同時，本發(fā)明創(chuàng)造使用0C(overcoat)保護層是感光性樹脂薄膜，由丙烯基樹脂和環(huán)氧樹脂制成，兼有黒色矩陣(Blackmatrix)與絕緣材的作用，具有制造エ序少容易加工、產(chǎn)品生產(chǎn)成本低，降低面板體的厚度，也減輕其重量，通光性好，整體輕薄等優(yōu)點。


圖I是本發(fā)明的改良的單層感應觸控面板剖面總體結(jié)構(gòu)組成示意圖。其中有透明基板層I、圖案線路感應層2、透明絕緣涂層3、電極走線4、絕緣層211、導電層212。圖2是本發(fā)明的圖案線路感應層平面圖。其中有縱向串聯(lián)觸感單元組y、橫向非電性連接觸感單元組X、橋接層21、絕緣層211、導電層212、電極走線4。圖3是本發(fā)明的制作流程示意框圖。
具體實施例方式下面是本發(fā)明的具體實施例來進ー步描述圖I和圖2所示改良的單層感應觸控面板，包括透明基板層I 一表面覆設(shè)圖案線路感應層2，透明絕緣涂層3覆置在圖案線路感應層2上；其中，圖案線路感應層2設(shè)有縱向串聯(lián)觸感單元組y、橫向非電性連接觸感單元組X，在縱向串聯(lián)觸感單元組I和橫向非電性連接觸感單元組X交匯處設(shè)橋接層21電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感単元；縱向串聯(lián)觸感單元組I和橫向非電性連接觸感單元組X的邊緣端分別設(shè)置電極走線4。上述橋接層21由絕緣層211和導電層212組成，絕緣層211為透明絕緣層覆設(shè)在透明基板層I、縱向串聯(lián)觸感単元之間的連接線上；導電層212為鑰鋁鑰合金層覆設(shè)在絕緣層211上電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感単元。觸感單元為菱形或者長方形圖案線路；圖案線路感應層2為氧化銦錫感應線路；透明基板層I為PET基板；電極走線為鑰鋁鑰合金構(gòu)成。透明基板層I的厚度為75微米 250微米；圖案線路感應層2和導電層212的厚度為15納米 25納米；橋接層21的厚度為I. O微米 2. O微米。通過圖3可知，制作改良的單層感應觸控面板的方法，包括如下步驟在無塵干燥條件下進行；步驟ー在透明基板層I上鍍氧化銦錫膜透明導電材料；步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層2 ；步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層2整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層211 ；步驟四對圖案線路感應層2整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線4，并在在絕緣層211表面得到導電層212電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；步驟五將透明絕緣涂層3涂覆在圖案線路感應層2和橋接層21上。
所述絕緣層211的厚度為I. O微米 2. O微米。實施例I :透明基板層I的厚度為75微米；圖案線路感應層2和導電層212的厚度為15納米；絕緣層211的厚度為I. O微米。制作改良的單層感應觸控面板的方法，包括如下步驟在無塵干燥條件下進行；步驟ー在透明基板層I上鍍氧化銦錫膜透明導電材料；步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層2 ；步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層2整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層211 ；步驟四對圖案線路感應層2整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線4，并在在絕緣層211表面得到導電層212電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；步驟五將透明絕緣涂層3涂覆在圖案線路感應層2和橋接層21上。實施例2 透明基板層I的厚度為250微米；圖案線路感應層2和導電層212的厚度為25納米；絕緣層211的厚度為2. O微米。制作改良的單層感應觸控面板的方法，包括如下步驟在無塵干燥條件下進行；步驟ー在透明基板層I上鍍氧化銦錫膜透明導電材料；步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層2 ；步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層2整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層211 ；步驟四對圖案線路感應層2整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線4，并在在絕緣層211表面得到導電層212電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；步驟五將透明絕緣涂層3涂覆在圖案線路感應層2和橋接層21上。實施例3 透明基板層I的厚度為158微米；圖案線路感應層2和導電層212的厚度為20納米；絕緣層211的厚度為I. 5微米。制作改良的單層感應觸控面板的方法，包括如下步驟在無塵干燥條件下進行；步驟ー在透明基板層I上鍍氧化銦錫膜透明導電材料；步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層2 ；步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層2整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層211 ；步驟四對圖案線路感應層2整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線4，并在在絕緣層211表面得到導電層212電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；
步驟五將透明絕緣涂層3涂覆在圖案線路感應層2和橋接層21上。
權(quán)利要求
1.ー種改良的單層感應觸控面板，其特征在干包括透明基板層(I) 一表面覆設(shè)圖案線路感應層(2)，透明絕緣涂層(3)覆置在圖案線路感應層(2)上；其中，圖案線路感應層(2)設(shè)有縱向串聯(lián)觸感單元組(y)、橫向非電性連接觸感單元組(X),在縱向串聯(lián)觸感單元組(y)和橫向非電性連接觸感單元組(X)交匯處設(shè)橋接層(21)電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元；縱向串聯(lián)觸感單元組(y)和橫向非電性連接觸感單元組(X)的邊緣端分別設(shè)置電極走線(4)。
2.如權(quán)利要求I所述改良的單層感應觸控面板，其特征在干所述橋接層(21)由絕緣層(211)和導電層(212)組成，絕緣層(211)為透明絕緣層覆設(shè)在透明基板層(I)、縱向串聯(lián)觸感単元之間的連接線上；導電層(212)為鑰鋁鑰合金層覆設(shè)在絕緣層(211)上電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感單元。
3.如權(quán)利要求I所述改良的單層感應觸控面板，其特征在于所述觸感單元為菱形或者長方形圖案線路；圖案線路感應層⑵為氧化銦錫感應線路；透明基板層⑴為PET基板或玻璃基板；電極走線(4)為鑰鋁鑰合金構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求I所述改良的單層感應觸控面板，其特征在干所述透明基板層(I)的厚度為75微米 250微米；圖案線路感應層(2)和導電層(212)的厚度為15納米 25納米；橋接層(21)的厚度為I. O微米 2. O微米。
5.—種如權(quán)利要求I所述的制作改良的單層感應觸控面板的方法，該方法包括如下步驟，其特征在于所述步驟在無塵條件下進行； 步驟ー在透明基板層(I)上鍍氧化銦錫膜透明導電材料； 步驟ニ設(shè)置靶標，對步驟一中氧化銦錫透明導電材料層涂光阻材料進行光阻蝕刻脫膜得到圖案線路感應層(2); 步驟三在步驟ニ中圖案線路感應層(2)整面旋轉(zhuǎn)涂布透明的OC光阻材料，光阻蝕刻得到絕緣層(211)； 步驟四對圖案線路感應層(2)整面鍍鑰鋁鑰合金貼光阻膜，曝光顯影蝕刻得到電極走線(4)，并在在絕緣層(211)表面得到導電層(212)電性連接交匯處相鄰斷開的橫向非電性連接觸感単元； 步驟五將透明絕緣涂層(3)涂覆在圖案線路感應層(2)和橋接層(21)上。
6.如權(quán)利要求5所述制作改良的單層感應觸控面板的方法，其特征在于所述絕緣層(211)的厚度為I. O微米 2. O微米；圖案線路感應層⑵和導電層(212)的厚度為15納米 25納米。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種改良的單層感應觸控面板及其制造方法，屬于觸控線路構(gòu)造和觸控面板體復合層結(jié)構(gòu)及其制程技術(shù)領(lǐng)域。采用單層ITO線路設(shè)置在基材同一表面上，將橫向x軸線跡與縱向y軸線跡設(shè)置在同一平面上，使各感應線跡布設(shè)位置準確，以增進觸控板感應效能的敏感度及精確度。
文檔編號G06F3/041GK102693028SQ201110072789
公開日2012年9月26日 申請日期2011年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月25日
發(fā)明者李世強 申請人:牧東光電(蘇州)有限公司