專利名稱：透明導電性疊層體及其制造方法、以及靜電容量式觸摸面板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種透明導電性疊層體以及透明導電性疊層體的制造方法。
背景技術：
近年來，在各種電子設備的顯示器上都安裝了作為輸入設備的透明的觸摸面板。作為觸摸面板的方式，可以列舉電阻膜式、靜電容量式等。特別是，靜電容量式能夠多點觸控，因而廣泛用于移動設備等用途。靜電容量式的觸摸面板使用形成了圖案的透明導電層。作為在該透明導電層上形成圖案的方法，例如有專利文獻I至3中所述的采用使用抗蝕劑形成圖案的光刻法的方法。作為其它方法，有專利文獻4所述的使用具有對光產生反應的官能基或部位的銦化合物以及具有相同官能基或部位的錫化合物作為導電膜形成用組合物，并進行圖案曝光的方法、以及專利文獻5所述的通過激光形成圖案的方法等。此外，由于靜電容量式的觸摸面板是用在顯示器上，因此，如果透明導電層的圖案形狀很顯眼，則存在有視認性下降的問題。由此，為了使顯示器的畫質不下降，已經提出了如專利文獻6所述的通過在透明導電層之外還形成光學調節(jié)層以提高透射率的觸摸面板用透明導電性疊層體。 現(xiàn)有技術專利文獻專利文獻I :日本特開平1-197911號公報專利文獻2 日本特開平2-109205號公報專利文獻3 :日本特開平2-309510號公報專利文獻4 :日本特開平9-142884號公報專利文獻5 :日本特開2008-140130號公報專利文獻6 :日本特開平11-286066號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的問題然而，專利文獻I至3這種采用光刻法的方法，大多需要很多制造工序。特別是在基板的兩面上設置透明導電層并形成圖案時，要一面一面地進行抗蝕劑的涂布、曝光、顯影等工序，因此制造工序繁雜。此外，在為了解決視認性下降的問題，而像專利文獻6那樣在透明導電層之外還形成光學調節(jié)層時，需要進一步增加制造工序，因此制造工序更加繁雜。此外，專利文獻4或5所述的方法，不使用抗蝕劑，能夠縮短制造工序，但是在專利文獻4的方法中，在基板的兩面上設置透明導電層并形成圖案時，使基板兩面上所形成的圖案對位是很困難的。特別是在基板的兩面上形成微細圖案時，使圖案對位是一個大問題。另一方面，在專利文獻5的方法中，可以通過激光在基板的兩面上形成相同圖案，但是在基板兩面上形成不同圖案時，存在有無法使用的問題。本發(fā)明鑒于這些現(xiàn)有技術的問題而進行，并且其目的是提供一種即使采用使用抗蝕劑在透明導電層上形成圖案的方法，也能夠以較少的制造工序在基板的兩面上同時形成不同形狀的圖案，并且即使基板兩面上所形成的圖案是微細圖案，也容易進行對位，此外，在圖案形狀不顯眼方面也有利的透明導電性疊層體及其制造方法、以及靜電容量式觸摸面板。解決問題的方法作為解決上述問題的方法，權利要求I所述的發(fā)明為一種透明導電性疊層體，其特征在于，至少具備透明基板層；在前述透明基板層兩面上所形成的第一透明導電層和第二透明導電層；在前述第一透明導電層上所形成的第一導電性圖案區(qū)域和第一非導電性圖案區(qū)域；以及在前述第二透明導電層上所形成的第二導電性圖案區(qū)域和第二非導電性圖案區(qū)域，并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸 收光的層。此外，權利要求2所述的發(fā)明為如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述透明基板層是吸收光的層，并且前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。此外，權利要求3所述的發(fā)明為如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，具備在前述透明基板層和前述第一透明導電層之間和/或在前述透明基板層和前述第二透明導電層之間所形成的樹脂層，并且前述樹脂層為吸收光的層，前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。此外，權利要求4所述的發(fā)明為如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述透明基板層由下述構成在一面上形成前述第一透明導電層的第一透明基板層；在一面上形成前述第二透明導電層的第二透明基板層；以及在前述第一透明基板層的另一面與第二透明基板層的另一面之間所形成的粘接層，其中前述粘接層是吸收光的層，并且前述粘接層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。此外，權利要求5所述的發(fā)明為如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在前述透明基板層和前述第一透明導電層之間和/或在前述透明基板層和前述第二透明導電層之間具有光學調節(jié)層。此外，權利要求6所述的發(fā)明為如權利要求5所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在波長400nm條件下的光線透射率為60 %以上，并且在波長365nm條件下的光線透射率為20%以下。此外，權利要求7所述的發(fā)明為如權利要求6所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述導電性圖案區(qū)域和前述非導電性圖案區(qū)域的總透光率的差為I. 5%以下，并且透射色調b*差為2. 0以下。此外，權利要求8所述的發(fā)明為如權利要求7所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在150°C下30分鐘時的熱收縮率為0.5%以下。此外，權利要求9所述的發(fā)明是使用權利要求8所述的透明導電性疊層體作為電極材料的靜電容量式觸摸面板。此外，權利要求10所述的發(fā)明是透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有下述工序在透明基板層的兩面上至少形成第一透明導電層和第二透明導電層的工序；在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層的表面上涂布抗蝕劑的工序；分別從光源側起依次配置濾光片和掩模，對在前述第一透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，對在前述第二透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，并且同時對涂布在前述第一透明導電層表面上的前述抗蝕劑和涂布在前述第二透明導電層表面上的前述抗蝕劑進行曝光的工序；使感光的前述抗蝕劑顯影的工序；對未被前述抗蝕劑覆蓋的前述第一透明導電層和前述第二透明導電層進行蝕刻的工序；剝離前述抗蝕劑的工序，并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸收光的層。此外，權利要求11所述的發(fā)明為如權利要求10所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述透明基板層是吸收光的層，并且前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。此外，權利要求12所述的發(fā)明為如權利要求11所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80%以上。
此外，權利要求13所述的發(fā)明為如權利要求12所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，從在前述透明基板層上形成前述透明導電層的工序到剝離前述抗蝕劑的工序，是通過卷對卷方式進行的。此外，權利要求14所述的發(fā)明為如權利要求10所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有在前述透明基板層的兩面上形成樹脂層的工序；在前述樹脂層的表面上形成第一透明導電層和前述第二透明導電層的工序，其中，前述樹脂層是吸收光的層，并且前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。此外，權利要求15所述的發(fā)明為如權利要求14所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80%以上。此外，權利要求16所述的發(fā)明為如權利要求15所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，從在前述透明基板層上形成前述透明導電層的工序到剝離前述抗蝕劑的工序，是通過卷對卷方式進行的。此外，權利要求17所述的發(fā)明是透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有在第一透明基板層的一面上至少形成第一透明導電層的工序；在第二透明基板層的一面上至少形成第二透明導電層的工序；以前述第一透明導電層和前述第二透明導電層為外偵牝并通過粘接層將前述第一透明基板層和前述第二透明基板層粘貼在一起的工序；在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層的表面上涂布抗蝕劑的工序；分別從光源側起依次配置濾光片和掩模，對在前述第一透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，對在前述第二透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，并且同時對涂布在前述第一透明導電層表面上的前述抗蝕劑和涂布在前述第二透明導電層表面上的前述抗蝕劑進行曝光的工序；使感光的前述抗蝕劑顯影的工序；對未被前述抗蝕劑覆蓋的前述第一透明導電層和前述第二透明導電層進行蝕刻的工序；剝離前述抗蝕劑的工序，并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸收光的層。此外，權利要求18所述的發(fā)明為如權利要求17所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述粘接層是吸收光的層，并且前述粘接層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
此外，權利要求19所述的發(fā)明為如權利要求18所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80%以上。發(fā)明效果根據本發(fā)明，透明基板層、樹脂層或粘接層中的任一者為吸收光的層，由此，對于在透明基板層兩面上所形成的透明導電層來說，即使同時在兩面上形成不同的圖案，也可以防止圖案彼此映入。此外，由于可以在透明基板層的兩面上同時形成不同形狀的圖案，因此，即使圖案微細，也可以很容易地進行對位。進一步，由于可以在透明基板層的兩面上形成精度更高的微細圖案，因此，可以不會因微細圖案而使圖案形狀變得顯眼，從而可以得到視認性高的透明導電性疊層體。


圖I是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例I的說明圖。圖2是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例2的說明圖。圖3是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例3的說明圖。圖4是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例4的說明圖。圖5是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例5的說明圖。圖6是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例6的說明圖。圖7是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例7的說明圖。圖8是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例8的說明圖。圖9是透明導電層的圖案例(X坐標)的說明圖。圖10是透明導電層的圖案例(Y坐標)的說明圖。圖11是透明導電層的圖案例的X坐標和Y坐標的位置關系說明圖。圖12是本發(fā)明的透明導電性疊層體的曝光工序例的說明圖。圖13是本發(fā)明的透明導電性疊層體的圖案形成工序例的說明圖。
具體實施例方式以下，使用附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。另外，本發(fā)明并不限定于以下所述的實施方式，并且還可以基于本領域技術人員的知識進行設計的改變等變形，這種進行了變形的實施方式也包含在本發(fā)明的范圍內。圖I是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例I的說明圖。透明導電性疊層體11由設置在透明基板I兩面上的第一透明導電層3a和第二透明導電層3b構成，該第一透明導電層3a形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b，該第二透明導電層3b形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b。此處，導電性圖案區(qū)域是指在透明導電層中具有導電性的部分，非導電性圖案區(qū)域是指在透明導電層中，除具有導電性部分以外的不具有導電性的部分。 圖2是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例2的說明圖。如圖2所示，可以在圖I中所示的透明導電性疊層體11的透明基板I和第一透明導電層3a之間以及在透明基板I和第二透明導電層3b之間，分別設置光學調節(jié)層2a、2b。作為其它的實施方式，可以僅在透明基板I和第一透明導電層3a之間或透明基板I和第二透明導電層3b之間的任一者中設置光學調節(jié)層。圖3是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例3的說明圖。透明導電性疊層體11由設置在透明基板I兩面上的第一透明導電層3a、第二透明導電層3b以及樹脂層5a、5b構成，該第一透明導電層3a形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b，該第二透明導電層3b形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b，該樹脂層5a、5b分別設置在透明基板I和第一透明導電層3a之間以及透明基板I和第二透明導電層3b之間。作為其它的實施方式，可以僅在透明基板I和第一透明導電層3a之間或透明基板I和第二透明導電層3b之間的任一者中設置樹脂層。圖4是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例4的說明圖。如圖4所示，可以在圖3中所示的透明導電性疊層體11的樹脂層5a和第一透明導電層3a之間以及在樹脂層5b和第二透明導電層3b之間分別設置光學調節(jié)層2a、2b。作為其它的實施方式，可以僅在樹脂層5a和第一透明導電層3a之間或樹脂層5b和第二透明導電層3b之間的任一者中設置光 學調節(jié)層。此外，也可以在透明基板I和樹脂層5a之間或透明基板I和樹脂層5b之間設置光學調節(jié)層。圖5是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例5的說明圖。透明導電性疊層體11由下述構成設置在第一透明基板Ia—面上的形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b的第一透明導電層3a ;設置第二透明基板Ib —面上的形成了導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b的第二透明導電層3b ;和以第一透明導電層3a及第二透明導電層3b為外側，設置在第一透明基板Ia和第二透明基板Ib之間的粘接層6。圖6是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例6的說明圖。如圖6所示，可以在圖5中所示的透明導電性疊層體11的第一透明基板Ia和第一透明導電層3a之間以及在第二透明基板Ib和第二透明導電層3b之間，分別設置光學調節(jié)層2a、2b。作為其它的實施方式，可以僅在第一透明基板Ia和第一透明導電層3a之間或第二透明基板Ib和第二透明導電層3b之間的任一者中設置光學調節(jié)層。圖7是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例7的說明圖。透明導電性疊層體11可以在第一透明基板Ia和第一透明導電層3a之間以及第二透明基板Ib和第二透明導電層3b之間，分別設置樹脂層5a、5b。作為其它的實施方式，可以僅在第一透明基板Ia和第一透明導電層3a之間或第二透明基板Ib和第二透明導電層3b之間的任一者中設置樹脂層。圖8是本發(fā)明透明導電性疊層體的截面例8的說明圖。如圖8所示，可以在圖7中所示的透明導電性疊層體11的樹脂層5a和第一透明導電層3a之間以及在樹脂層5b和第二透明導電層3b之間，分別設置光學調節(jié)層2a、2b。作為其它的實施方式，可以僅在樹脂層5a和第一透明導電層3a之間或樹脂層5b和第二透明導電層3b之間的任一者中設置光學調節(jié)層。此外，也可以在第一透明基板Ia和樹脂層5a之間或第二透明基板Ib和樹脂層5b之間設置光學調節(jié)層。本發(fā)明中所用的透明基板層l、la和lb，除了玻璃之外，還可以使用由樹脂所形成的塑料膜。作為塑料膜，只要在成膜工序和后工序中具有足夠的強度，并且表明平滑性良好，就沒有特別限定，例如，可以列舉聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚砜膜、聚砜膜、聚芳酯膜、環(huán)狀聚烯烴膜、聚酰亞胺月旲等。考慮到部件的薄型化和基材的接性，可以使用厚度為10 ii m以上200 ii m以下左右的材料。本發(fā)明中所用的透明基板層l、la和lb，優(yōu)選吸收光。這是由于，通過吸收光在透明基板層I兩面的透明導電層上形成圖案時，從透明基板層I 一側所照射的光中，未被抗蝕劑吸收的光在透明基板層I中被吸收，可以防止光到達透明基板層I另一側的抗蝕劑中。特別是在透明基板層I的兩面上同時形成不同圖案時，由于可以僅對一側的抗蝕劑進行曝光，因此可以防止一面上的圖案和另一面上的圖案重疊?；谕瑯拥睦碛?，透明基板層Ia和Ib也優(yōu)選吸收光。如上所述，透明基板層l、la和lb，優(yōu)選吸收用于使抗蝕劑曝光的光。用于使抗蝕劑曝光的光根據抗蝕劑的種類或光源種類而不同，而由于大多使用紫外區(qū)域波長(約200nm 360nm)和可見區(qū)域波長(約360nm 780nm)的光，因此透明基板層I優(yōu)選吸收這些區(qū)域的光。特別是考慮到實用性，透明基板層I優(yōu)選吸收紫外區(qū)域的光。作為可以用于吸收紫外光的光吸收材料，可以列舉紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂等，并且可以在透明基板層中添加紫外線吸收劑，或使構成透明基板層的樹脂和具有紫外線吸收功能的樹脂共聚。透明基板層l、la和Ib中含有的紫外線吸收劑，可以列舉二苯甲酮類、苯并三唑類、苯甲酸酯類、水楊酸酯類、三嗪類、氰基丙烯酸酯類等。具體來說，例如，作為苯并三唑類紫外線吸收劑，可以列舉2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(I-甲基-I-苯乙基)苯酚、2-[5_氯(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(叔丁基)苯酚、2-(2H-苯并三唑-基)-4，6_ 二-叔戊基苯酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1，1，3，3_四甲基丁基)苯酚等，或它們的混合物、改性物、聚合物、衍生物等。此外，例如，作為三嗪類紫外線吸收劑，可以列舉2-(4，6-二苯基-1，3，5-三嗪_2_基)_5_[(己基)氧基]-苯酌\2-[4-[ (2-輕基-3-十二燒氧基丙基)氧基]~2~輕基苯基]_4，6-雙(2,4- _■甲基苯基)-1,3,5- 二嚷、2- {4-[ (2-輕基-3-十二燒氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基}-4，6-雙(2，4_ 二甲基苯基)-1，3，5_三嗪、2，4_雙(2，4_ 二甲基苯基)-6-(2-羥基-4-異辛氧基苯基)-S-三嗪等，或它們的混合物、改性物、聚合物、衍生物等。它們可以單獨使用，也可以將多種混合使用。此外，具有紫外線吸收功能的樹脂，是在上述列舉的二苯甲酮類、苯并三唑類、苯甲酸酯類、水楊酸酯類、三嗪類、氰基丙烯酸酯類等非反應性紫外線吸收劑中導入乙烯基、丙烯?；?、甲基丙烯?；染哂芯酆闲噪p鍵的官能基、醇羥基、氨基、羧基、環(huán)氧基、異氰酸酯基等的材料而得到?？梢允惯@些樹脂和透明基板層l、la和Ib中含有的樹脂共聚，并用作具有紫外線吸收功能的透明基板層。上述列舉的光吸收材料，不僅可以單獨使用，還可以將多種組合使用。例如，通過使用可吸收的光波長不同的多種光吸收材料，能夠在較寬的波長區(qū)域中吸收不需要的光。光吸收材料的含量，只要可以防止未被透明基板層l、la和Ib —面上的抗蝕劑吸收的光到達另一面的抗蝕劑，就沒有特別限定，但相對于構成透明基板層l、la和Ib的樹脂來說，其含量優(yōu)選為0. 01重量％以上20重量％以下。當小于該下限值時，無法充分吸收不需要的光，因此不優(yōu)選。而當超過該上限值時，透明基板層l、la和Ib的透明性下降，在外觀上不優(yōu)選。作為透明基板層l、la和Ib中含有的材料，除了上述材料以外，還可以使用公知的、各種添加劑或穩(wěn)定劑，例如抗靜電劑、增塑劑、潤滑劑、易粘接劑等。為了改善與各層的密合性，還可以實施電暈處理、低溫等離子處理、離子轟擊處理、藥劑處理等作為前處理。本發(fā)明中所用的樹脂層5a、5b，可以設置為使透明導電性疊層體11具有機械強度。作為可以使用的樹脂，沒有特別限定，但優(yōu)選為具有透明性、適當?shù)挠捕纫约皺C械強度的樹脂。具體來說，優(yōu)選為以可期待進行三維交聯(lián)的3官能以上的丙烯酸酯為主成分的單體或交聯(lián)性低聚物的光固化性樹脂。作為3官能以上的丙烯酸酯單體，優(yōu)選為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、異氰脲酸EO改性三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。并特別優(yōu)選為異氰脲酸EO改性三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯。它們可以單獨使用，也可以將兩種以上并用。此外，除了這些3官能以上的丙烯酸酯夕卜，還可以并用環(huán)氧基丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯等所謂的丙烯酸類樹脂。作為交聯(lián)性低聚物，優(yōu)選為聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧基(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸低聚物。具體來說有聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A型環(huán)氧基丙烯酸酯、聚氨酯的二丙烯酸酯、甲酚酚醛清漆型環(huán)氧基(甲基)丙烯酸酯等。樹脂層5a、5b，除此之外還可以含有顆粒、光聚合引發(fā)劑等添加劑。作為添加的顆粒，可以列舉有機或無機顆粒，而如果考慮透明性，則優(yōu)選使用有機顆粒。作為有機顆粒，可以列舉由丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴樹脂、聚酰胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚硅氧烷樹脂和氟樹脂等所形成的顆粒。顆粒的平均粒徑，根據樹脂層5a、5b的厚度而不同，而由于霧度等外觀上的原因，使用下限為2 u m以上，更優(yōu)選為5 u m以上，并且上限為30 y m以下，并優(yōu)選為15 y m以下的顆粒。此外，基于同樣的理由，顆粒的含量相對于樹脂來說，優(yōu)選為0. 5重量％以上5重量％以下。在添加光聚合引發(fā)劑時，作為自由基產生型的光聚合引發(fā)劑，有苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙醚、芐基甲基縮酮等苯偶姻及其烷基醚類、乙酰苯、2，2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯、I-羥基環(huán)己基苯基酮等乙酰苯類、甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌類、噻噸酮、2，4_ 二乙基噻噸酮、2，4_ 二異丙基噻噸酮等噻噸酮類、乙酰苯二甲基縮酮、芐基二甲基縮酮等縮酮類、二苯甲酮、4，4_ 二甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮類和偶氮化合物等。它們可以單獨使用或作為兩種以上的混合物使用，此外，還可以和三乙醇胺、甲基二乙醇胺等叔胺、2-二甲基氨基乙基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光引發(fā)助劑等組合使用。上述光聚合引發(fā)劑的添加量，相對于主成分的樹脂，為0. I重量％以上5重量％以下，并優(yōu)選為0. 5重量％以上3重量％以下。當不到下限值時，硬涂層的固化不充分，因此不優(yōu)選。此外，當超過上限值時，產生了硬涂層的黃變，并且耐候性下降，因此不優(yōu)選。用于 使光固化型樹脂固化的光是紫外線、電子束或伽馬射線等，當其為電子束或伽馬射線時，并不是必須含有光聚合引發(fā)劑或光引發(fā)助劑。作為這些放射源，可以使用高壓水銀燈、氙燈、金屬鹵化物燈或加速電子等。
此外，樹脂層5a、5b的厚度沒有特別限定，但優(yōu)選為0. 5pm以上15 pm以下的范圍。此外，更優(yōu)選折射率和透明基板層11相同或相近，其優(yōu)選為I. 45以上I. 75以下的程度。樹脂層5a、5b的形成方法，是將作為主成分的樹脂等溶解在溶劑中，并通過模涂法、淋幕涂布法、輥涂法、逆轉輥涂布法、凹版涂布法、刮刀涂布法、棒涂法、旋涂法、微凹版涂布法等公知的涂布方法形成。對于溶劑來說，只要是溶解上述主成分樹脂等的溶劑，就沒有特別限定。具體來說，作為溶劑，可以列舉乙醇、異丙醇、異丁醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異戊酯、乳酸乙酯、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、甲基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等。這些溶劑可以單獨使用I種，也可以將兩種以上并用。根據和透明基板層l、la和Ib相同的理由，本發(fā)明的樹脂層5a、5b，優(yōu)選吸收用于 使抗蝕劑曝光的光，并特別優(yōu)選吸收紫外光。作為吸收紫外光的樹脂層，可以列舉含有紫外線吸收劑的樹脂層、含有具有紫外線吸收功能的樹脂的樹脂層等，作為具體的光吸收材料，可以列舉和透明基板層l、la和Ib中含有的材料相同的材料。此外，光吸收材料的含量，優(yōu)選為和透明基板層l、la和Ib的含量相同的程度。樹脂層5a、5b可以是樹脂層單獨具有吸收光的功能，并且也可以是和透明基板層
I、la和Ib —起具有吸收光的功能。通過使樹脂層5a、5b以及透明基板層I、la和Ib這兩者都具有吸收光的功能，可以充分吸收未被透明基板層一面上的抗蝕劑吸收的光，并且可以進一步防止一面上的圖案和另一面上的圖案重疊。此外，樹脂層5a、5b以及透明基板層l、la和Ib這兩者可以都具有吸收光的功能，并且可以改變樹脂層5a、5b以及透明基板層l、la和Ib所能夠吸收的光的波長。由此，當使用波長區(qū)域較寬的光源時，可以吸收較寬波長區(qū)域中不需要的光。本發(fā)明的粘接層6，是用于粘接第一透明基板Ia和第二透明基板Ib的層。作為可以用于粘接層6的樹脂，可以列舉丙烯酸類樹脂、聚硅氧烷類樹脂、橡膠類樹脂等，并優(yōu)選使用緩沖性和透明性優(yōu)良的樹脂。根據和透明基板層l、la和Ib相同的理由，本發(fā)明的粘接層6優(yōu)選吸收用于使抗蝕劑曝光的光，并特別優(yōu)選吸收紫外光。作為吸收紫外光的樹脂層，可以列舉含有紫外線吸收劑的樹脂層、含有具有紫外線吸收功能的樹脂的樹脂層等，作為具體的光吸收材料，可以列舉和透明基板層l、la和Ib中含有的材料相同的材料。此外，光吸收材料的含量，優(yōu)選為和透明基板層l、la和Ib的含量相同的程度。粘接層6，可以是粘接層單獨具有吸收光的功能，并且也可以是和透明基板層I、Ia和Ib或樹脂層5a、5b —起具有吸收光的功能。通過使其和透明基板層I、Ia和Ib或樹脂層5a、5b —起具有吸收光的功能，可以充分吸收未被透明基板層一面上的抗蝕劑吸收的光，并且可以進一步防止一面上的圖案和另一面上的圖案重疊。此外，粘接層6、透明基板層l、la和Ib以及樹脂層5a、5b可以全部都具有吸收光的功能，并且也可以改變粘接層6、透明基板層l、la和Ib以及樹脂層5a、5b彼此所能夠吸收的光的波長。由此，當使用波長區(qū)域較寬的光源時，可以吸收較寬波長區(qū)域中不需要的光。
光學調節(jié)層2a、2b，具有使第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上所形成的圖案不顯眼的功能，并且是用于提高視認性的層。當使用無機化合物作為光學調節(jié)層2a、2b時，可以使用氧化物、硫化物、氟化物、氮化物等材料。由上述無機化合物所形成的薄膜，其折射率根據材料而不同，而通過以特定的膜厚形成其折射率不同的薄膜，可以調節(jié)光學特性。另外，作為光學功能層的層數(shù)，根據其目標光學特性，也可以為多層。作為折射率低的材料，可以列舉氧化鎂(I. 6)、二氧化硅(I. 5)、氟化鎂(I. 4)、氟化鈣(I. 3 I. 4)、氟化鈰(I. 6)、氟化鋁(1.3)等。此外，作為折射率高的材料，可以列舉氧化鈦(2. 4)、氧化錯(2. 4)、硫化鋅(2. 3)、氧化鉭(2. I)、氧化鋅(2. I)、氧化銦(2. 0)、氧化鈮(2. 3)、氧化鉭(2.2)。其中，上述括號內的樹脂表示折射率。第一透明導電層3a和第二透明導電層3b，可以列舉氧化銦、氧化鋅、氧化烯中的任一種，或它們的兩種或3種的混合氧化物，以及加入了其它添加物的材料等，但是其可以根據目的、用途而使用各種材料，并且沒有特別限定。當前，可靠性最高、具有最多實際效果的材料是氧化銦錫(ITO)。 在將作為最通常的透明導電膜的氧化銦錫(ITO)用作第一透明導電層3a和第二透明導電層3b時，氧化銦中摻雜的氧化錫的含有比可根據設備所要求的說明，選擇任意的比例。例如，當透明基板為塑料膜時，對于為了提高機械強度而用于使薄膜結晶化的濺射靶材料來說，氧化錫的含有比優(yōu)選為不到10重量％，而為了將薄膜無定形化并具有撓性，氧化錫的含有比優(yōu)選為10重量％以上。此外，當要求薄膜具有低電阻時，氧化錫的含有比優(yōu)選為3重量％到20重量％的范圍。作為光學調節(jié)層2a、2b和第一透明導電層3a以及第二透明導電層3b的制造方法，只要能夠控制膜厚，就可以是任意成膜方法，其中薄膜的干式成膜法是特別優(yōu)良的。其可以采用真空蒸鍍法、濺射法等物理氣相析出法、CVD法等化學氣相析出法。特別是為了形成大面積的均勻膜質量的薄膜，優(yōu)選為工藝過程穩(wěn)定、薄膜致密的濺射法。如圖9或圖10所示，在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上施加了 X坐標和Y坐標的圖案。如圖9或圖10所示，形成的圖案是由黑色所表示的導電性圖案區(qū)域4a和白色所表示的非導電性圖案區(qū)域4b形成的。此外，雖然未圖示，但導電性圖案區(qū)域4a與可以檢測電流變化的電路連接。如果人的手指等接近作為檢測電極的導電性圖案區(qū)域4a，則整體的靜電容量產生變化，因此電流在電路中流動，可以判定接觸位置。通過分別在透明基板層的兩面上設置圖9和圖10的圖案，并如圖11所不將X坐標和Y坐標的圖案組合起來，與電流變化檢測電路連接，可以得到二維的位置信息。另外，圖11中黑色所表示的圖案是在透明基板層的表面?zhèn)刃纬傻膶щ娦詧D案區(qū)域4a，灰色所表示的圖案是在透明基板層的里側形成的導電性圖案區(qū)域4a。第一透明導電層3a和第二透明導電層3b的圖案形狀，除了如圖9和圖10所示的鉆石型圖案以外，還有網眼型圖案等，而為了正確讀取二維的位置信息，需要形成盡可能微細的圖案，并且對透明基板層兩面上所設置的圖案進行正確的對位。作為第一透明導電層3a和第二透明導電層3b的圖案形成方法，可以列舉在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上涂布抗蝕劑，并通過曝光、顯影形成圖案，然后將透明導電層化學溶解的光刻方法、通過在真空中進行化學反應而使其氣化的方法、通過激光使透明導電層升華的方法等。圖案形成方法，可以根據圖案形狀、精度等進行適當選擇，而為了對第一透明導電層3a和第二透明導電層3b同時形成彼此不同的圖案，優(yōu)選使用光刻的方法。以圖I所示的透明導電性疊層體11為例，在圖12中表示本發(fā)明的透明導電性疊層體采用光刻法的曝光工序。透明導電性疊層體11的第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上所形成的導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b的形成方法，首先是分別在第一透明導電層3a的表面上涂布抗蝕劑7a，在第二透明導電層3b的表面上涂布抗蝕劑7b。接著，分別從光源8a側起依次在第一透明導電層3a上配置用于形成圖案的光源8a、阻斷特定波長光的濾光片9a和掩模IOa ;以及從光源Sb側起依次在第二透明導電層3b上配置用于形成圖案的光源Sb、阻斷特定波長光的濾光片9b和掩模10b。然后，通過由濾光片9a和9b阻斷了特定波長光后的光，同時使抗蝕劑7a和7b曝光。這時，由于透明基板I具有吸收光的功能，因此未被抗蝕劑7a吸收的光被透明基板層I吸收，從而可以防止涂布在第二透明導電層3b表面上的抗蝕劑7b被曝光。相反，未被抗蝕劑7b吸收的光被透明基板層I吸收，從而可以防止涂布在第一透明導電層3a表面 上的抗蝕劑7a被曝光。此外，本發(fā)明的透明導電性疊層體采用光刻法的曝光工序，由于可以在透明基板I的兩面上同時形成圖案，因此可以很容易地進行兩面上所形成的圖案的對位。當一面一面地形成透明基板I兩面上的圖案時，在一面上形成圖案后，必須配合該圖案的位置在另一面上形成圖案，其位置難以調整。特別是在為了正確地讀取2維的位置信息，或為了提高圖案的視認性而形成微細圖案時，通過一面一面地形成圖案，無法高精度地進行對位。此處，濾光片9a和9b是用于阻斷由光源8a和Sb照射的某些特定波長的光的過濾器。通過將吸收用于使抗蝕劑曝光的光的透明基板層l、la和lb、樹脂層5a、5b或粘接層6組合起來，可以選擇性地阻擋用于使透明基板層一面上的抗蝕劑曝光的光，從而防止另一面的抗蝕劑感光。例如，當透明基板層I、Ia和lb、樹脂層5a、5b或粘接層6含有紫外線吸收劑時，濾光片9a和9b阻擋了可見區(qū)域波長的光，而紫外區(qū)域波長的光使透明基板層一面上的抗蝕劑曝光。未被透明基板層一面上的抗蝕劑吸收的光，被透明基板層l、la和lb、樹脂層5a、5b或粘接層6中含有的紫外線吸收劑吸收，從而防止另一面的抗蝕劑感光。這時，濾光片9a和9b在波長365nm中的光線透射率優(yōu)選為80%以上。通過限定為該范圍，可以通過紫外區(qū)域的光僅對透明基板層一面上的抗蝕劑進行曝光，并且可以防止另一面上的抗蝕劑曝光以及圖案的映入。此外，根據抗蝕劑的種類，有時無法由透射濾光片9a和9b的光進行充分感光，因此，通過將濾光片9a和9b在波長400nm中的光線透射率調整為0. 1%至30%，可以使一面上的抗蝕劑充分感光，并且可以防止另一面上的抗蝕劑曝光以及圖案的映入。此外，掩模IOa和IOb是用于在抗蝕劑7a和7b上形成圖案的掩模，具體來說是用于形成圖9或圖10所不的圖案等。圖2至圖8所示的本發(fā)明的透明導電性疊層體同樣也可以通過上述曝光工序而形成在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上所形成的導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b。本發(fā)明的透明導電性疊層體通過光刻形成圖案的方法中的各工序示于圖13。圖13作為一個例子，表示制造圖I的透明導電性疊層體11的各工序。首先，準備透明基板1(工序(a))，在其兩面上形成第一透明導電層3a和第二透明導電層3b (工序(b))。進一步，在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b的表面上，分別涂布抗蝕劑7a、7b (工序(C))。然后，使用圖12所示的光源8a、8b、阻斷特定波長光的濾光片9a、9b、掩模10a、10b，使抗蝕劑7a、7b曝光(工序(d))。另外，7c是通過光而感光后的抗蝕劑。接著，通過顯影液除去未感光的抗蝕劑(工序(e))，對第一透明導電層3a和第二透明導電層3b的露出部分進行蝕刻(工序(f))。最后，剝離感光的抗蝕劑7c，得到透明導電性疊層體11。圖13是表示使用負型的抗蝕劑形成圖案的方法中的各工序的圖，此外也可以使用正型的抗蝕劑形成圖案圖2至圖8所示的本發(fā)明的透明導電性疊層體同樣也可以通過上述各工序而形成在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上所形成的導電性圖案區(qū)域4a和非導電性圖案區(qū)域4b。本發(fā)明的透明導電性疊層體11，優(yōu)選通過卷對卷方式進行從在透明基板層上形成透明導電層的工序到剝離前述抗蝕劑的工序。由此，可以大幅縮短制造時間。本發(fā)明的透明導電性疊層體11，優(yōu)選在波長400nm條件下的光線透射率為60 %以上，并且在波長365nm條件下的光線透射率為20%以下。在為該范圍時，可以在透明導電性疊層體的兩面上同時對不同圖案進行曝光。此外，通過兩面同時曝光，很容易進行兩面圖案的對位，并且可以形成微細圖案，因此，在將本發(fā)明的透明導電性疊層體11用作靜電容量式觸摸面板的電極材料時，能夠以高感度正確地讀取2維的位置信息。此外，由于可以形成微細圖案，因此難以看見圖案形狀，圖案的視認性提高。特別優(yōu)選的是，構成透明導電性疊層體11的透明基板層l、la和lb、樹脂層5a、5b或粘接層6在波長400nm條件下的光線透射率為80%以上，并且在波長365nm條件下的光線透射率為20%以下。此外，本發(fā)明的透明導電性疊層體11，優(yōu)選其導電性圖案區(qū)域和非導電性圖案區(qū)域的總透光率的差為I. 5%以下，并且透射色調b*差為2. 0以下。在為該范圍時，即使在透明導電性疊層體的兩面上形成不同的圖案，其圖案形狀也不顯眼，并且視認性提高。此外，本發(fā)明的透明導電性疊層體11，在150°C下30分鐘時的熱收縮率優(yōu)選為0. 5%以下。在為該范圍時,可以抑制由于在形成第一透明導電層3a和第二透明導電層3b的工序或使抗蝕劑7a、7b干燥的工序中所施加的熱而導致的收縮，并且可以防止在第一透明導電層3a和第二透明導電層3b上所形成的圖案的位置偏離。實施例接著，對實施例和比較例進行說明?！磳嵤├?>使用具有紫外線吸收功能的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(東 > 公司制，厚度100 u m)作為透明基板，并使用微凹版涂布機在透明基板的兩面上涂布下述組成的樹脂層形成用涂布液，在60°C下干燥I分鐘，并通過紫外線使其固化，形成樹脂層。[樹脂層形成用涂布液的組成]樹脂紫光UV_7605B(日本合成化學公司制)100重量份引發(fā)劑:4化力今工了 184(千八' M >公司制)4重量份
溶剤こ酸甲酯100重量份接著，在透明基板兩面上所形成的樹脂層的兩個表面上，通過濺射法將ITO形成30nm的膜，作為透明導電層。然后，使用如圖12和圖13所示的光刻方法，在以下的曝光條件下，兩面同時形成圖9和圖10所示的圖案，從而在透明導電層上形成導電性圖案區(qū)域和非導電性圖案區(qū)域。[曝光條件]光源超高壓水銀燈(ゥシォ電機公司制)濾光片阻斷380 600nm范圍的波長掩ネ旲圖9和圖10所不的鉆石型圖案〈實施例2>除了使用不具有紫外線吸收功能的聚對苯ニ甲酸こニ醇酯膜(東レ公司制，厚度100μπι)作為透明基板，并且在樹脂層形成用涂布液中含有O. 5重量份三嗪類紫外線吸收劑(2-{4-[(2-羥基-3-十三烷氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基}-4，6-雙(2，4-ニ甲基苯基)-1，3，5_三嗪)以外，使用和實施例I同樣的條件和方法，在透明導電層上形成導電性圖案區(qū)域和非導電性圖案區(qū)域?！幢容^例〉除了使用不具有紫外線吸收功能的聚對苯ニ甲酸こニ醇酯膜(東レ公司制，厚度100μπι)作為透明基板以外，使用和實施例I同樣的條件和方法，在透明導電層上形成導電性圖案區(qū)域和非導電性圖案區(qū)域。通過下述評價方法評價所得的透明導電性疊層體。[評價方法]光線透射率使用分光光度計(日立ハィテク公司制)，并針對在波長400nm和365nm中的光線透射率，測定所得的透明導電性疊層體的透射率。外觀通過目視評價所得的透明導電性疊層體的色調。圖案化通過目視確認所得的透明導電性疊層體兩面上的圖案，并評價一面的圖案形狀是否映入到另一面的圖案形狀中。由實施例I和2所得的透明導電性疊層體，在400nm和365nm條件下的光線透射率，在實施例I的透明導電性疊層體中分別為61%和0%，在實施例2的透明導電性疊層體中分別為65%和10%，由此可見，其可以同時對透明導電性疊層體兩面上的不同圖案進行曝光。此外，在外觀上也沒有黃色調等缺陷，并且兩面上的圖案也沒有彼此圖案的映入。另ー方面，由比較例所得的透明導電性疊層體，在400nm和365nm條件下的光線透射率為67%和40%，由此可見，其無法同時對透明導電性疊層體兩面上的不同圖案進行曝光。此外，雖然外觀上沒有黃色調等缺陷，但對于兩面上的圖案來說，顯著存在有彼此圖案的映入。エ業(yè)實用性本發(fā)明可以用于在各種電子設備的顯示器上作為輸入設備所安裝的透明觸摸面 板。特別是可以用于能夠多點觸控的移動設備等。符號說明I...透明基板層
la...第一透明基板層Ib...第二透明基板層2a、2b...光學調節(jié)層
3a...第一透明導電層3b...第二透明導電層4a...導電性圖案區(qū)域4b...非導電性圖案區(qū)域5a、5b….樹脂層6...粘接層7a、7b...抗蝕劑7c···感光的抗蝕劑8a、8b...光源9a、9b….濾光片10a、10b···掩模11...透明導電性疊層體
權利要求
1.一種透明導電性疊層體，其特征在于，至少具備透明基板層；在前述透明基板層的兩面上所形成的第一透明導電層和第二透明導電層；在前述第一透明導電層上所形成的第一導電性圖案區(qū)域和第一非導電性圖案區(qū)域；以及在前述第二透明導電層上所形成的第二導電性圖案區(qū)域和第二非導電性圖案區(qū)域，并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸收光的層。
2.如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述透明基板層是吸收光的層，并且前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
3.如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，具備在前述透明基板層和前述第一透明導電層之間和/或在前述透明基板層和前述第二透明導電層之間所形成的樹脂層，并且前述樹脂層為吸收光的層，前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
4.如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述透明基板層由下述構成在一面上形成前述第一透明導電層的第一透明基板層；在一面上形成前述第二透明導電層的第二透明基板層；以及在前述第一透明基板層的另一面與第二透明基板層的另一面之間所形成的粘接層， 其中前述粘接層是吸收光的層，并且前述粘接層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
5.如權利要求I所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在前述透明基板層和前述第一透明導電層之間和/或在前述透明基板層和前述第二透明導電層之間具有光學調節(jié)層。
6.如權利要求5所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在波長400nm條件下的光線透射率為60%以上，并且在波長365nm條件下的光線透射率為20%以下。
7.如權利要求6所述的透明導電性疊層體，其特征在于，前述導電性圖案區(qū)域和前述非導電性圖案區(qū)域的總透光率的差為I. 5%以下，并且透射色調b*差為2. 0以下。
8.如權利要求7所述的透明導電性疊層體，其特征在于，在150°C下30分鐘時的熱收縮率為0. 5%以下。
9.使用權利要求8所述的透明導電性疊層體作為電極材料的靜電容量式觸摸面板。
10.一種透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有下述工序在透明基板層的兩面上至少形成第一透明導電層和第二透明導電層的工序；在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層的表面上涂布抗蝕劑的工序；分別從光源側起依次配置濾光片和掩模，對在前述第一透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，對在前述第二透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，并且同時對涂布在前述第一透明導電層表面上的前述抗蝕劑和涂布在前述第二透明導電層表面上的前述抗蝕劑進行曝光的工序；使感光后的前述抗蝕劑顯影的工序；對未被前述抗蝕劑覆蓋的前述第一透明導電層和前述第二透明導電層進行蝕刻的工序；剝離前述抗蝕劑的工序， 并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸收光的層。
11.如權利要求10所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述透明基板層是吸收光的層，并且前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
12.如權利要求11所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80 %以上。
13.如權利要求12所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，從在前述透明基板層上形成前述透明導電層的工序到剝離前述抗蝕劑的工序，是通過卷對卷方式進行的。
14.如權利要求10所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有在前述透明基板層的兩面上形成樹脂層的工序；在前述樹脂層的表面上形成第一透明導電層和前述第二透明導電層的工序， 其中，前述樹脂層是吸收光的層，并且前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
15.如權利要求14所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80%以上。
16.如權利要求15所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，從在前述透明基板層上形成前述透明導電層的工序到剝離前述抗蝕劑的工序，是通過卷對卷方式進行的。
17.—種透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，具有在第一透明基板層的一面上至少形成第一透明導電層的工序；在第二透明基板層的一面上至少形成第二透明導電層的工序；以前述第一透明導電層和前述第二透明導電層為外側，并通過粘接層將前述第一透明基板層和前述第二透明基板層粘貼在一起的工序；在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層的表面上涂布抗蝕劑的工序；分別從光源側起依次配置濾光片和掩模，對在前述第一透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，對在前述第二透明導電層上形成圖案的光源與光進行阻斷，并且同時對涂布在前述第一透明導電層表面上的前述抗蝕劑和涂布在前述第二透明導電層表面上的前述抗蝕劑進行曝光的工序；使感光的前述抗蝕劑顯影的工序；對未被前述抗蝕劑覆蓋的前述第一透明導電層和前述第二透明導電層進行蝕刻的工序；剝離前述抗蝕劑的工序，并且，在前述第一透明導電層和前述第二透明導電層之間所形成的至少I層是吸收光的層。
18.如權利要求17所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述粘接層是吸收光的層，并且前述粘接層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收功能的樹脂。
19.如權利要求18所述的透明導電性疊層體的制造方法，其特征在于，前述濾光片在波長365nm條件下的光線透射率為80 %以上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種透明導電性疊層體及其制造方法、以及靜電容量式觸摸面板，該透明導電性疊層體中，能夠以較短的制造工序在基板的兩面上同時形成不同形狀的微細圖案，并且即使是微細圖案，也容易進行對位。本發(fā)明的透明導電性疊層體11由下述構成透明基板層1；在透明基板層1的兩面上所形成的具有第一導電性圖案區(qū)域4a和第一非導電性圖案區(qū)域4b的第一透明導電層1a；以及具有第二導電性圖案區(qū)域4a和第二非導電性圖案區(qū)域4b的第二透明導電層1b，并且，在第一透明導電層1a和第二透明導電層1b之間所形成的至少1層具有吸收光的功能。
文檔編號G06F3/041GK102639318SQ20108005317
公開日2012年8月15日 申請日期2010年3月9日 優(yōu)先權日2009年11月27日
發(fā)明者小林裕 申請人:凸版印刷株式會社