激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料、導(dǎo)電性薄膜、導(dǎo)電性層疊體的制作方法
【專利摘要】本申請(qǐng)?zhí)峁┻m合激光蝕刻加工、且也能用于Ag納米線基材的激光蝕刻加工用導(dǎo)電性漿料，該激光蝕刻加工能夠以低成本且低環(huán)境負(fù)荷制造用以往的絲網(wǎng)印刷法難以適應(yīng)的L/S為50/50μm以下的高密度電極電路配線。一種激光蝕刻加工用導(dǎo)電性漿料,其特征在于,在包含含有熱塑性和/或熱固性樹(shù)脂的有機(jī)成分(A)、銀粉(B)以及有機(jī)溶劑(C)的激光蝕刻加工用導(dǎo)電性漿料中,在所述有機(jī)成分(A)中,作為粘合劑樹(shù)脂(a)含有苯氧基樹(shù)脂。
【專利說(shuō)明】
激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料、導(dǎo)電性薄膜、導(dǎo)電性層疊體
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及可制造平面方向的配置密度較高的導(dǎo)電性圖案的制造導(dǎo)電性圖案的 方法，以及能適用于該制造方法的導(dǎo)電漿料。本發(fā)明的導(dǎo)電性圖案，典型地可用于透明觸摸 屏的電極電路配線。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來(lái)，以手機(jī)、筆記本電腦、電子書等為代表的搭載透明觸摸板的電子機(jī)器的高 性能化和小型化正在急劇進(jìn)行中。對(duì)于這些電子機(jī)器的高性能化和小型化，除了要求在搭 載的電子部件的小型化、高性能化、集成度提高之外，還要求相互連接這些電子部件的電極 電路配線的高密度化。作為透明觸摸板的方式，在電極電路配線的數(shù)量較少的電阻膜方式 之外，電極電路配線的數(shù)量飛躍性地提高的靜電電容方式的普及在近年來(lái)急速進(jìn)行，基于 這樣的觀點(diǎn)，強(qiáng)烈需求電極電路配線的高密度化。此外，為使顯示器畫面更大，還有由于商 品設(shè)計(jì)上的要求，有希望進(jìn)一步縮小配置有電極電路配線的框部分的要求，基于這樣的觀 點(diǎn)，也在謀求電極電路配線的高密度化。為了滿足以上那樣的要求，需要可進(jìn)行比現(xiàn)有的電 極電路配線更好的高密度配置的技術(shù)。
[0003] 電阻膜方式的透明觸摸屏的框部分的電極電路配線的配置密度為，平面方向的線 寬和間隔的寬度分別為200μηι(以下簡(jiǎn)記為L(zhǎng)/S = 200/200ym)以上的程度，以往所進(jìn)行的是 通過(guò)導(dǎo)電漿料的絲網(wǎng)印刷將其形成。靜電電容方式的觸摸屏中，L/S的要求為ΙΟΟ/100μπι左 右以下，進(jìn)一步地，有時(shí)也需要L/S為50/50μπι以下，成為以依靠絲網(wǎng)印刷的電極電路配線形 成技術(shù)難以適應(yīng)的情況。
[0004] 作為替代絲網(wǎng)印刷的電極電路配線形成技術(shù)的候補(bǔ)的一例，可舉出光刻法。若使 用光刻法，則形成L/S為50/50μπι以下的細(xì)線也是充分可能的。但是，光刻法也有問(wèn)題。光刻 法的最典型的事例為使用感光性抗蝕劑的手法，一般，在形成銅箱層的表面基板的銅箱部 位上涂布感光性抗蝕劑，通過(guò)光掩?；蚣す獾闹苯用枥L等的方法曝光期望的圖案，進(jìn)行感 光性抗蝕劑的顯影，然后，通過(guò)將期望的圖案之外的銅箱部位用試劑溶解?除去，從而形成 銅箱的細(xì)線圖案。因此，由廢液處理導(dǎo)致的環(huán)境負(fù)荷較大，進(jìn)而工序繁雜，包括生產(chǎn)效率的 觀點(diǎn)、成本的觀點(diǎn)在內(nèi)，抱有很多問(wèn)題。
[0005] 光刻法中，也有不使用感光性抗蝕劑的方式，例如，專利文獻(xiàn)1、2中公開(kāi)了如下技 術(shù):使用導(dǎo)電漿料形成干燥涂膜，對(duì)其用激光進(jìn)行直接描繪，使被激光照射的部分固定在基 材上，將未照射部分顯影并除去，形成期望的圖案。若是這樣的方法，與一般的光刻法相比， 不使用感光性抗蝕劑，相應(yīng)地該工序就被簡(jiǎn)略化，但與以往已知的使用感光性抗蝕劑的光 刻法同樣地因需要濕法的顯影工序而存在顯影廢液處理的問(wèn)題，此外，由于作為導(dǎo)電漿料 的成分使用玻璃粉或納米尺寸的銀粉，因此存在煅燒工序中需要400Γ以上的高溫，需要極 大的能量的問(wèn)題、可使用的基材僅限于能經(jīng)受400°C以上的高溫下的煅燒工序的基材這樣 的問(wèn)題。進(jìn)而工序繁雜，不得不說(shuō)生產(chǎn)效率上也并不合適。
[0006] 根據(jù)上述這樣的狀況，作為替代絲網(wǎng)印刷的電極電路配線形成技術(shù)的候補(bǔ)的一 例，專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)了技術(shù)的激光蝕刻方法在近年來(lái)受到矚目。若使用激光蝕刻方法，則 形成L/S為50/50μπι以下的細(xì)線也是充分可能的。激光蝕刻方法是指，將由粘合劑樹(shù)脂和導(dǎo) 電粉體構(gòu)成的層（以后稱為導(dǎo)電性薄膜)形成于絕緣性基材上，將其一部分通過(guò)激光照射從 絕緣性基材上除去的方法。但是，由于用激光照射除去導(dǎo)電性薄膜會(huì)產(chǎn)生大量的熱，因此會(huì) 給導(dǎo)電性薄膜和基材帶來(lái)熱老化，結(jié)果，可能會(huì)損害導(dǎo)電性薄膜所不可缺少的基材密貼性 和電特性。
[0007]近年來(lái)，將該激光蝕刻方法適用于Ag納米線基材的要求較多。Ag納米線基材與以 往的ITO基材相比，可低電阻化，可實(shí)現(xiàn)觸摸屏的大型化。此外，彎曲性也優(yōu)異，還具有適合 在大量生產(chǎn)中具有優(yōu)勢(shì)的卷對(duì)卷制程的優(yōu)點(diǎn)。但是，相對(duì)于ITO層，Ag納米線層與導(dǎo)電性薄 膜的接觸電阻容易變高，可適用于ITO膜的導(dǎo)電漿料未必可適用。
[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[專利文獻(xiàn)]
[0008] 專利文獻(xiàn)1:日本專利特開(kāi)2010-237573號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)2:日本專利特開(kāi)2011-181338號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)3:日本專利特愿2012-161485號(hào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[發(fā)明要解決的課題]
[0009] 本發(fā)明的目的在于，提供在將激光蝕刻方法適用于Ag納米線基材時(shí)也能無(wú)問(wèn)題地 制造高密度電極電路配線的制造方法。此外，提供可適用于這樣的制造方法的導(dǎo)電漿料。
[解決課題的手段]
[0010] 本發(fā)明人們對(duì)在平面方向上高密度配置電極電路配線的制造方法專心研究的結(jié) 果，發(fā)現(xiàn)了兼具激光蝕刻適應(yīng)性和Ag納米線基材適應(yīng)性的適于形成導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電漿 料。即，本發(fā)明由以下的構(gòu)成組成。
[0011] 1. -種激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，在包含含有熱塑性和/或熱固性樹(shù) 脂的有機(jī)成分(A)、銀粉(B)以及有機(jī)溶劑(C)的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料中，在所述有機(jī)成 分(A)中作為粘合劑樹(shù)脂(a)含有苯氧基樹(shù)脂。 2. 根據(jù)1.記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，所述粘合劑樹(shù)脂(a)含有60重 量％以上的苯氧基樹(shù)脂。 3. 根據(jù)1.或2.記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，所述粘合劑樹(shù)脂(a)的數(shù)均分子量為 3000~100000。 4. 根據(jù)1.~3.中任一項(xiàng)記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，所述導(dǎo)電漿料 是過(guò)濾過(guò)的。 5. -種導(dǎo)電性薄膜，是由所述1.~4.中任一項(xiàng)記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料形成 的。 6. -種導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述導(dǎo)電性層疊體中層疊有所述5.記載的導(dǎo)電性 薄膜和基材。 7. 根據(jù)6.記載的導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述基材具有透明導(dǎo)電層。 8. -種電路，其特征在于，是使用所述5.記載的導(dǎo)電性薄膜，或者6.或7.記載的導(dǎo)電性 層疊體而成的。 9. 一種電路，其特征在于，具有配線部位，所述配線部位是通過(guò)向所述5.記載的導(dǎo)電性 薄膜的一部分照射從二氧化碳激光、YAG激光、光纖激光以及半導(dǎo)體激光中選擇的激光，除 去所述導(dǎo)電性薄膜的一部分而形成的。 10. 根據(jù)9.記載的電路，其特征在于，所述導(dǎo)電性薄膜形成于透明導(dǎo)電性層上。 11. 一種觸摸屏，其特征在于，所述觸摸屏作為構(gòu)成部件含有所述8.~10.中任一項(xiàng)記 載的電路。
[發(fā)明的效果]
[0012] 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料，其特征在于，在包含含有熱塑性和/或熱固性樹(shù)脂的有機(jī)成分 (A)、銀粉(B)以及有機(jī)溶劑(C)的導(dǎo)電漿料中，在所述有機(jī)成分(A)中含有粘合劑樹(shù)脂(a)， 該(a)中含有苯氧基樹(shù)脂。通過(guò)具有這樣的構(gòu)成，可形成激光蝕刻加工適應(yīng)性以及Ag納米線 基材適應(yīng)性優(yōu)異的導(dǎo)電性薄膜。此處，激光蝕刻加工適應(yīng)性優(yōu)異是指，通過(guò)激光蝕刻加工， 使導(dǎo)電性薄膜的至少一部分從基材除去，形成L/S = 30/30μπι的細(xì)線時(shí)，滿足4個(gè)條件：1)確 保細(xì)線兩端間的導(dǎo)通，2)確保相鄰的細(xì)線間的絕緣，3)細(xì)線形狀良好，4)即便在激光蝕刻加 工后，對(duì)Ag納米線基材以及ΙΤ0基材的、初期以及濕熱環(huán)境負(fù)荷后的密貼性也良好。此外，Ag 納米線基材適應(yīng)性優(yōu)異是指，對(duì)Ag納米線基材的接觸電阻良好，且濕熱環(huán)境負(fù)荷后的接觸 電阻值的變化較小。由于通過(guò)過(guò)濾本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電漿料，可在凝聚的銀粉中增加 溶解份額的同時(shí)除去粗大粒子，因此發(fā)揮改善蝕刻不良的效果。
【附圖說(shuō)明】
[0013] [圖1]是表示向本發(fā)明的實(shí)施例、比較例中使用的激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn) 片照射激光的圖案的示意圖。在白色部位上照射激光，除去基材上形成的導(dǎo)電性薄膜。網(wǎng)點(diǎn) 部位上未照射激光。圖中的尺寸表示的單位為_(kāi)。
[圖2]是本發(fā)明的實(shí)施例、比較例中使用的接觸電阻評(píng)價(jià)用試驗(yàn)片的示意圖。白色部分 為Ag納米線基材或ΙΤ0基材，網(wǎng)點(diǎn)部分為Ag楽:料。圖中的尺寸表示的單位為_(kāi)。
[符號(hào)的說(shuō)明] la、 2a、3a、4a:端子 A lb、 2b、3b、4b:細(xì)線 B lc、 2c、3c、4c:端子 C
【具體實(shí)施方式】
[0014] 〈〈構(gòu)成本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的成分》 本發(fā)明中的導(dǎo)電漿料，將由熱塑性和/或熱固性成分構(gòu)成的有機(jī)成分(A)、銀粉(B)以及 有機(jī)溶劑(C)作為必需成分，所述有機(jī)成分(A)中含有粘合劑樹(shù)脂(a)，該(a)中作為必需成 分含有苯氧基樹(shù)脂。 本發(fā)明中的有機(jī)成分(A)是指，導(dǎo)電漿料中的除了無(wú)機(jī)成分和有機(jī)溶劑(C)以外的全部 部分。
[0015] 〈粘合劑樹(shù)脂(a)> 粘合劑樹(shù)脂(a)的種類，只要是熱塑性樹(shù)脂就沒(méi)有特別限制，但可舉出聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧 樹(shù)脂、苯氧基樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、聚酰胺-酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、酚樹(shù)脂、 丙烯酸樹(shù)脂、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸樹(shù)脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、酚樹(shù)脂、聚乙烯系樹(shù) 月旨、聚碳酸酯系樹(shù)脂、酚樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂、苯乙烯-丙烯酸樹(shù)脂、苯乙烯-丁二烯共聚樹(shù)脂、聚 砜樹(shù)脂、聚醚砜樹(shù)脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚樹(shù)脂、苯乙烯-醋酸乙烯酯共聚樹(shù)脂、聚苯乙 烯、硅樹(shù)脂、氟系樹(shù)脂等。這些樹(shù)脂可單獨(dú)使用，或作為2種以上的混合物使用。優(yōu)選從由聚 酯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、苯氧基樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、纖維素衍生物樹(shù)脂組成的群中選 擇的1種或2種以上的混合物。此外，這些樹(shù)脂中，苯氧基樹(shù)脂作為粘合劑樹(shù)脂(A)是優(yōu)選的， 作為成分是必需的。作為優(yōu)選苯氧基樹(shù)脂的理由，可舉出在激光蝕刻適應(yīng)性優(yōu)異的同時(shí)耐 熱性優(yōu)異、激光蝕刻后的回路可靠性較高這一點(diǎn)。
[0016] 作為本發(fā)明中的粘合劑樹(shù)脂(a)，作為將苯氧基樹(shù)脂作為必需成分的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，可 舉出：與其他的粘合劑樹(shù)脂相比，使用苯氧基樹(shù)脂的導(dǎo)電漿料在適用于Ag納米線基材時(shí)的 接觸電阻良好這一點(diǎn)?？烧J(rèn)為這是由于苯氧基樹(shù)脂所帶有的豐富的0H基與Ag納米線層相互 作用。
[0017] 本發(fā)明中，苯氧基樹(shù)脂是指由雙酚類和環(huán)氧氯丙烷合成的多羥基聚醚，分子量為 3000~100000。作為本發(fā)明中的粘合劑樹(shù)脂(A)使用的苯氧基樹(shù)脂是指，可舉例如雙酸A型、 雙酸A/F共聚型、雙酚S型、雙酸A/S共聚型。其中，基于基材密貼性的觀點(diǎn)，優(yōu)選雙酸A型。
[0018] 本發(fā)明中的粘合劑樹(shù)脂(a)的數(shù)均分子量沒(méi)有特別限制，優(yōu)選數(shù)均分子量為3000 ~100000,更優(yōu)選8000~50000。數(shù)均分子量若過(guò)低，則在形成的導(dǎo)電性薄膜的耐久性、耐濕 熱性方面并優(yōu)選。另一方面，數(shù)均分子量若過(guò)高，則樹(shù)脂的凝聚力增加，作為導(dǎo)電性薄膜的 耐久性等雖提高，但激光蝕刻加工適應(yīng)性顯著惡化。
[0019] 本發(fā)明中的粘合劑樹(shù)脂(a)的玻璃化溫度優(yōu)選60 °C以上，更優(yōu)選65 °C以上。玻璃化 溫度若過(guò)低，則激光蝕刻加工適應(yīng)性有時(shí)會(huì)提高，但作為導(dǎo)電性薄膜的濕熱后的可靠性有 可能降低，此外，可能會(huì)導(dǎo)致表面硬度的降低，有由于膠粘性而產(chǎn)生使用時(shí)向接觸對(duì)手側(cè)的 含漿料的成分的移動(dòng)，導(dǎo)電性薄膜可靠性降低。另一方面，若考慮印刷性、密貼性、溶解性、 漿料粘度以及激光蝕刻加工適應(yīng)性，則粘合劑樹(shù)脂(A)的玻璃化溫度優(yōu)選150°C以下，更優(yōu) 選120°C以下，更優(yōu)選100°C以下。
[0020]本發(fā)明中的有機(jī)成分(A)的酸值沒(méi)有特別限制，但優(yōu)選20當(dāng)量/106g以上500當(dāng)量/ l〇6g以下，更優(yōu)選50當(dāng)量/106g以上400當(dāng)量/106g以下。有機(jī)成分(A)中的酸值可使基材密貼 性提高，但若過(guò)高，可能會(huì)促進(jìn)有機(jī)成分的加水分解、損害導(dǎo)電性和基材密貼性。
[0021 ]〈銀粉〉 本發(fā)明中使用的銀粉由銀粉單獨(dú)構(gòu)成，不含作為用銀電鍍或合金化的銅粉的銀涂布銅 粉等的銀涂布合金微粒子。
[0022]本發(fā)明中使用的銀粉(B)的形狀沒(méi)有特別限制。作為以往已知的形狀的例，有片狀 (鱗片狀）、球狀、樹(shù)枝狀(枝蔓狀）、日本專利特開(kāi)平9-306240號(hào)公報(bào)記載的球狀的1次粒子 凝聚為三維狀后的形狀(凝聚狀)等，基于激光蝕刻性的觀點(diǎn)，它們之中，優(yōu)選使用球狀、凝 聚狀以及片狀的銀粉。
[0023]本發(fā)明中使用的銀粉(B)的中位徑(D50)優(yōu)選4μπι以下。通過(guò)使用中位徑在4μπι以下 的銀粉(Β)，有激光蝕刻加工部位的細(xì)線形狀變良好的傾向。使用中位徑比4μπι大的銀粉時(shí)， 激光蝕刻加工后的細(xì)線形狀變差，作為結(jié)果，有細(xì)線之間引發(fā)接觸、導(dǎo)致短路的可能性。進(jìn) 一步地，激光蝕刻加工中，暫時(shí)剝離?除去的導(dǎo)電性薄膜有再次附著于加工部位的可能性。 銀粉(B)的中位徑的下限沒(méi)有特別限制，但基于成本的觀點(diǎn)，且由于粒徑變細(xì)則容易凝聚， 結(jié)果分散變得困難，因此中位徑優(yōu)選80nm以上。中位徑若小于80nm，則凝聚力增加、激光蝕 刻加工適應(yīng)性惡化，除此以外基于成本的觀點(diǎn)也并不優(yōu)選。
[0024] 此外，中位徑(D50)是指，通過(guò)某種測(cè)定方法得到的累積分布曲線(體積）中，其累 計(jì)值為50%的粒徑(μπι)。本發(fā)明中，規(guī)定:將累積分布曲線用激光衍射散射式粒度分布測(cè)定 裝置（日機(jī)裝株式會(huì)社制，MICROTRAC HRA)，在全反射模式下測(cè)定。
[0025] 基于形成的導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性良好的觀點(diǎn)，相對(duì)于粘合劑成分(a) 100質(zhì)量份， 銀粉(B)的含量?jī)?yōu)選400質(zhì)量份以上，更優(yōu)選560質(zhì)量份以上。此外，基于與基材的密貼性良 好的觀點(diǎn)，相對(duì)于熱塑性樹(shù)脂(A) 100質(zhì)量份，（B)成分的含量?jī)?yōu)選1900質(zhì)量份以下，更優(yōu)選 1230質(zhì)量份以下。
[0026] 〈有機(jī)溶劑(〇> 本發(fā)明中可使用的有機(jī)溶劑(C)沒(méi)有特別限制，基于將有機(jī)溶劑的揮發(fā)速度保持在適 當(dāng)范圍的觀點(diǎn)，優(yōu)選沸點(diǎn)為100 °C以上、不足300 °C，更優(yōu)選沸點(diǎn)為150 °C以上、不足280 °C。本 發(fā)明的導(dǎo)電漿料，典型地是將熱塑性樹(shù)脂(A)、銀粉(B)、有機(jī)溶劑(C)以及根據(jù)需要的其他 成分在三輥研磨機(jī)等中分散而制作的，但此時(shí)，有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)若過(guò)低，則分散中溶劑揮 發(fā)，有構(gòu)成導(dǎo)電漿料的成分比變化的可能。另一方面，有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)若過(guò)高，則由于干燥 條件，有溶劑在涂膜中大量殘存的可能性，有引起涂膜的可靠性降低的擔(dān)憂。
[0027] 此外，作為本發(fā)明中可使用的有機(jī)溶劑(C)，優(yōu)選粘合劑(a)為可溶且可使銀粉(B) 良好地分散的有機(jī)溶劑。作為具體例，可舉出二乙二醇乙醚醋酸酯(EDGAC)、乙二醇丁醚醋 酸酯(BMGAC)、二乙二醇丁醚醋酸酯(BDGAC)、環(huán)己酮、甲苯、異佛爾酮、γ-丁內(nèi)酯、苯甲醇、 埃克森化學(xué)制的S0LVESS0 100、150、200、丙二醇單甲醚醋酸酯、己二酸、琥珀酸以及戊二酸 的二甲基酯的混合物(例如杜邦株式會(huì)社制DBE)、松油醇等，但他們之中，基于粘合劑成分 (a)的溶解性優(yōu)異、連續(xù)印刷時(shí)的溶劑揮發(fā)性適度、對(duì)絲網(wǎng)印刷等的印刷的適應(yīng)性良好的觀 點(diǎn)，優(yōu)選EDGAC、BMGAC、BDGAC以及它們的混合溶劑。
[0028] 作為有機(jī)溶劑(C)的含量，相對(duì)于漿料全部重量100重量份，優(yōu)選5重量份以上、40 重量份以下，更優(yōu)選10重量份以上、35重量份以下。有機(jī)溶劑(C)的含量若過(guò)高，則漿料粘度 變得過(guò)低，細(xì)線印刷時(shí)有容易產(chǎn)生下垂的傾向。另一方面，有機(jī)溶劑(C)的含量若過(guò)低，則作 為漿料的粘度變得極高，形成導(dǎo)電性薄膜時(shí)，例如在絲網(wǎng)印刷性顯著降低之外，有時(shí)形成的 導(dǎo)電性薄膜的膜厚會(huì)變厚，激光蝕刻加工性會(huì)降低。
[0029] 〈激光吸收劑(D)> 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中可混合激光吸收劑(D)。此處，激光吸收劑(D)是指，對(duì)激光的波長(zhǎng) 具有強(qiáng)吸收的添加劑，激光吸收劑(D)自身可以是導(dǎo)電性的，也可以是非導(dǎo)電性的。例如，當(dāng) 使用基本波的波長(zhǎng)為l〇64nm的YAG(釔鋁石榴石)激光作為光源時(shí)，可將在波長(zhǎng)1064nm具有 強(qiáng)吸收的染料和/或顏料作為激光吸收劑使用。通過(guò)混合激光吸收劑(D)，本發(fā)明的導(dǎo)電性 薄膜高效吸收激光，促進(jìn)發(fā)熱導(dǎo)致的粘合劑成分(a)的揮散或熱分解，其結(jié)果激光蝕刻加工 適應(yīng)性提尚。
[0030] 本發(fā)明中可使用的激光吸收劑(D)之中，作為具有導(dǎo)電性的物質(zhì)的例子，可舉出炭 黑、石墨粉等的碳系填料。碳系填料的混合具有提高本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性的效果， 例如炭黑在1060nm附近具有吸收波長(zhǎng)，因而若照射YAG激光、光纖激光等的1064nm波長(zhǎng)的激 光，則由于導(dǎo)電性薄膜高效吸收激光，因此對(duì)激光照射的靈敏度提高，可期待在提高激光照 射的掃描速度時(shí)和/或激光光源低輸出功率時(shí)，也會(huì)獲得良好的激光蝕刻加工適應(yīng)性這樣 的效果。作為所述碳系填料的含量，相對(duì)于銀粉(B)100重量份，優(yōu)選0.1~5重量份，更優(yōu)選 0.3~2重量份。碳系填料的混合比率過(guò)低時(shí)，提高導(dǎo)電性的效果以及提高對(duì)激光照射的靈 敏度的效果較小。另一方面，碳系填料的混合比率過(guò)高時(shí)，有導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性降低的傾 向，進(jìn)一步地，有時(shí)也會(huì)產(chǎn)生樹(shù)脂吸附于碳的空隙部位，與基材的密貼性降低的問(wèn)題。
[0031] 本發(fā)明中可使用的激光吸收劑(D)之中，作為非導(dǎo)電性的例子，可舉出以往公知的 染料、顏料以及紅外線吸收劑。更具體地，可舉出偶氮染料、金屬絡(luò)合鹽偶氮染料、吡唑啉酮 偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鑰染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、 方酸色素、吡喃鑰鹽、金屬硫醇鹽絡(luò)合物等的染料，作為顏料，可舉出黑色顏料、黃色顏料、 橙色顏料、褐色顏料、紅色顏料、紫色顏料、藍(lán)色顏料、綠色顏料、熒光顏料、金屬粉顏料，此 外可舉出聚合物結(jié)合色素。具體地，可使用不溶性偶氮顏料、偶氮色淀染料、縮合偶氮染料、 螯合偶氮染料、酞菁系顏料、蒽醌系顏料、茈以及芘酮系顏料、硫靛藍(lán)系顏料、喹吖啶酮系顏 料、二噁嗪系顏料、異吲哚啉酮系顏料、喹酞酮系顏料、染色色淀(染付技P-奪)顏料、吖嗪 顏料、亞硝基顏料、硝基顏料、天然顏料、熒光顏料、無(wú)機(jī)顏料。作為紅外線吸收劑的例子，可 舉出二亞胺鹽型（彳?二夕A塩）的紅外線吸收劑NIR-IM1、銨鹽型的NIR-AM1 (均為長(zhǎng)瀨 chemtex公司制）。優(yōu)選含有這些非導(dǎo)電性的激光吸收劑(D)0.01~5重量份，更優(yōu)選0.1~2 重量份。非導(dǎo)電性激光吸收劑(D)的混合比率過(guò)低時(shí)，提高對(duì)激光照射的靈敏度的效果較 小。非導(dǎo)電性激光吸收劑(D)的混合比率過(guò)高時(shí)，導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性有可能降低，此外，存 在激光吸收劑的色調(diào)變顯著、根據(jù)用途而并不優(yōu)選的情況。
[0032] 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中可添加下述的無(wú)機(jī)物。作為無(wú)機(jī)物，可使用碳化硅、碳化硼、 碳化鈦、碳化鋯、碳化鉿、碳化釩、碳化鉭、碳化鈮、碳化鎢、碳化鉻、碳化鉬、碳化鈣、金剛石 碳內(nèi)酰胺等的各種碳化物;氮化硼、氮化鈦、氮化鋯等的各種氮化物，硼化鋯等的各種硼化 物;氧化鈦(二氧化鈦）、氧化鈣、氧化鎂、氧化鋅、氧化銅、氧化鋁、二氧化硅、氣相二氧化硅 (例如，日本AEROSIL公司制的AER0SIL)、膠體二氧化硅等的各種氧化物;鈦酸鈣、鈦酸鎂、鈦 酸鍶等的各種鈦酸化合物;二硫化鉬等的硫化物;氟化鎂、氟化碳等的各種氟化物;硬脂酸 鋁、硬脂酸鈣、硬脂酸鋅、硬脂酸鎂等的各種金屬皂;此外，滑石、膨潤(rùn)土、滑石粉（夕少夕）、 碳酸鈣、膨潤(rùn)土、高嶺土、玻璃纖維、云母等。通過(guò)添加這些無(wú)機(jī)物，有時(shí)可能使印刷性和耐 熱性、進(jìn)而機(jī)械特性和長(zhǎng)期耐久性提高。其中，在本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中，基于賦予耐久性、印 刷適應(yīng)性、特別是絲網(wǎng)印刷適應(yīng)性的觀點(diǎn)，優(yōu)選氣相二氧化硅。
[0033]本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中可添加下述的酸成分。作為酸成分，可舉出對(duì)苯二甲酸、間苯 二甲酸、鄰苯二甲酸、2，6-萘二羧酸等的芳香族二羧酸，琥珀酸、戊二酸、己二酸、癸二酸、十 二烷二羧酸、壬二酸等的脂肪族二羧酸、二聚酸等的碳原子數(shù)12~28的二元酸、1，4_環(huán)己烷 二羧酸、1，3_環(huán)己烷二羧酸、1，2_環(huán)己烷二羧酸、4-甲基六氫鄰苯二甲酸酐、3-甲基六氫鄰 苯二甲酸酐、2-甲基六氫鄰苯二甲酸酐、二羧基氫化雙酸A、二羧基氫化雙酚S、二聚酸、氫化 二聚酸、氫化萘二羧酸、三環(huán)癸二羧酸等的脂環(huán)族二羧酸、羥基安息香酸、乳酸等的羥基羧 酸。此外，可添加偏苯三酸酐、均苯四酸酐等的三價(jià)以上的羧酸，富馬酸等的不飽和二羧酸， 二羥甲基丁酸、二羥甲基丙酸等的羧酸二醇。 此外，本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中，可混合觸變性賦予劑、消泡劑、阻燃劑、增粘劑、抗水解劑、 流平劑、增塑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、阻燃劑、顏料、染料。進(jìn)一步地，作為樹(shù)脂分解抑 制劑，可適當(dāng)混合碳化二亞胺、環(huán)氧化物等。它們可單獨(dú)使用或一并使用。
[0034] 〈固化劑(E)> 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料中，可將能與粘合劑樹(shù)脂(a)反應(yīng)的固化劑，以不損害本發(fā)明效果的 程度混合。通過(guò)混合固化劑，有固化溫度提高、生產(chǎn)工序的負(fù)荷增加的可能性，但通過(guò)涂膜 干燥時(shí)或激光蝕刻時(shí)產(chǎn)生的熱導(dǎo)致的交聯(lián)，可期待涂膜的耐濕熱性的提高。
[0035] 可與本發(fā)明的粘合劑成分(a)反應(yīng)的固化劑，其種類沒(méi)有限制，但基于密貼性、耐 彎曲性、固化性等，特別優(yōu)選異氰酸酯化合物和/或環(huán)氧樹(shù)脂。進(jìn)一步地，關(guān)于異氰酸酯化合 物，若使用將異氰酸酯基嵌段化的化合物，則貯藏穩(wěn)定性提高，是優(yōu)選的。作為異氰酸酯化 合物之外的固化劑，可舉出甲基化三聚氰胺、丁基化三聚氰胺、苯并三聚氰二胺、尿素樹(shù)脂 等的氨基樹(shù)脂、酸酐、咪唑類、酚樹(shù)脂等的公知的化合物。這些固化劑中，可并用根據(jù)其種類 選擇的公知的催化劑或促進(jìn)劑。作為固化劑的混合量，是以不損害本發(fā)明效果的程度混合 的量，并沒(méi)有特別限制，但相對(duì)于粘合劑成分(a)100質(zhì)量份，優(yōu)選0.5~50質(zhì)量份，更優(yōu)選1 ~30質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選2~20質(zhì)量份。
[0036] 作為可混入本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的異氰酸酯化合物的例子，有芳香族或脂肪族的二 異氰酸酯、三價(jià)以上的聚異氰酸酯等，也可以是低分子化合物、高分子化合物的任意種。例 如可舉例四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等的脂肪族二異氰酸酯，甲苯基二異 氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、亞二甲苯基二異氰酸酯等的芳香族二異氰酸酯，氫化二苯 基甲烷二異氰酸酯、氫化亞二甲苯基二異氰酸酯、二聚酸二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯 等的脂環(huán)族二異氰酸酯，或者這些異氰酸酯化合物的三聚體，以及這些異氰酸酯化合物的 過(guò)剩量和例如乙二醇、丙二醇、三羥甲基丙烷、甘油、山梨糖醇、乙二胺、單乙醇胺、二乙醇 胺、三乙醇胺等的低分子活性氫化合物或各種聚酯多元醇類、聚醚多元醇類、聚酰胺類的高 分子活性氫化合物等反應(yīng)而得到的末端含有異氰酸酯基的化合物。此外，作為異氰酸酯基 的嵌段化劑，可舉例如苯酚、苯硫酚、甲硫基苯酚、乙硫基苯酚、甲酚、二甲苯酚、間苯二酚、 硝基苯酚、氯苯酚等的酚類;丙酮肟、甲基乙基酮肟、環(huán)己酮肟等的肟類；甲醇、乙醇、丙醇、 丁醇等的醇類;氯乙醇、1，3_二氯-2-丙醇等的鹵代醇類;叔丁醇、叔戊醇等的叔醇類；ε-己 內(nèi)酰胺、S-戊內(nèi)酰胺、γ -丁內(nèi)酰胺、β_丙內(nèi)酰胺等的內(nèi)酰胺類，此外，還可舉出芳香族胺類、 亞胺類、乙酰丙酮、乙酰乙酸酯、丙二酸乙酯等的活性亞甲基化合物，硫醇類、亞胺類、咪唑 類、尿素類、二芳基化合物類、亞硫酸氫鈉等。其中，基于固化性，特別優(yōu)選肟類、咪唑類、胺 類。
[0037] 作為本發(fā)明中的固化劑使用的環(huán)氧化合物，可舉例如，雙酚Α縮水甘油醚、雙酚S縮 水甘油醚、酚醛清漆縮水甘油醚、溴化二等的縮水甘油醚型、六氫化鄰苯二甲酸縮水甘油 酯、二聚酸縮水甘油酯等的縮水甘油酯型、異氰尿酸三縮水甘油酯或3,4_環(huán)氧環(huán)己基甲基 羧酸酯、環(huán)氧化聚丁二烯、環(huán)氧化大豆油等的脂環(huán)族或脂肪族環(huán)氧化物等，可以單獨(dú)使用一 種，也可以并用兩種以上。其中，基于固化性的觀點(diǎn)，最優(yōu)選雙酸A縮水甘油醚，其中，進(jìn)一步 優(yōu)選分子量不足3000、一分子中具有2個(gè)以上的縮水甘油醚基的雙酸A縮水甘油醚。
[0038] 〈〈本發(fā)明的導(dǎo)電漿料所謀求的物性》 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的粘度沒(méi)有特別限定，可根據(jù)涂膜的形成方法適當(dāng)調(diào)整。例如，通過(guò) 絲網(wǎng)印刷向基材涂布導(dǎo)電漿料時(shí)，導(dǎo)電漿料的粘度在印刷溫度下優(yōu)選lOOdPa · s以上，進(jìn)一 步優(yōu)選150dPa · s以上。上限沒(méi)有特別限定，但粘度若過(guò)高，則有時(shí)導(dǎo)電性薄膜的膜厚變得 過(guò)厚，激光蝕刻加工適應(yīng)性會(huì)降低。
[0039]本發(fā)明的導(dǎo)電漿料，優(yōu)選F值為60~95%，更優(yōu)選為75~95%。所謂F值是表示相對(duì) 于漿料中所含的全部固體成分1〇〇質(zhì)量份的填料的質(zhì)量份的數(shù)值，表示為F值=(填料質(zhì)量 份/固體成分質(zhì)量份）x 100。此處所說(shuō)的填料質(zhì)量份是指導(dǎo)電性粉末的質(zhì)量份，固體成分的 質(zhì)量份是指溶劑以外的成分的質(zhì)量份，包括導(dǎo)電性粉末、有機(jī)成分、其他的固化劑或添加劑 的全部。若F值過(guò)低，則無(wú)法獲得顯示良好導(dǎo)電性的導(dǎo)電性薄膜，若F值過(guò)高，則導(dǎo)電性薄膜 和基材的密貼性和/或?qū)щ娦员∧さ谋砻嬗捕扔薪档偷膬A向，也無(wú)法避免印刷性的降低。此 外，此處，導(dǎo)電性粉末是指銀粉(B)。
[0040] 〈〈本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的制造方法》 本發(fā)明的導(dǎo)電漿料可以如上所述地將有機(jī)成分(A)、銀粉(B)、有機(jī)溶劑(C)以及根據(jù)需 要的其他成分在三輥等中分散而制作。此處，顯示更適宜的制作順序的例子。首先將粘合劑 成分(a)溶解在有機(jī)溶劑(C)中。之后，添加銀粉(B)以及根據(jù)需要的添加劑，用雙行星式或 溶解器、行星式的攪拌機(jī)等實(shí)施分散。之后，用三輥研磨機(jī)分散，得到導(dǎo)電漿料。這樣得到的 導(dǎo)電漿料可根據(jù)需要過(guò)濾。使用其他分散機(jī)例如球磨機(jī)、捏合機(jī)、擠出機(jī)等進(jìn)行分散也沒(méi)有 任何問(wèn)題。
[0041] 作為過(guò)濾導(dǎo)電漿料的過(guò)濾器的網(wǎng)眼沒(méi)有特別限制，優(yōu)選25μπι以下的過(guò)濾器，更優(yōu) 選20μηι以下，最優(yōu)選15μηι以下。使用網(wǎng)眼超過(guò)25μηι的過(guò)濾機(jī)時(shí)，無(wú)法除去導(dǎo)電性粉體的未分 散物、粗大粒子、異物等，在蝕刻后的細(xì)線間產(chǎn)生短路的結(jié)果是使成品率惡化。 另一方面，網(wǎng)眼優(yōu)選lMi以上，若比其更細(xì)，根據(jù)銀粉的粒徑，過(guò)濾速度顯著下降，最終 過(guò)濾器會(huì)堵塞。結(jié)果是過(guò)濾器更換次數(shù)增加，生產(chǎn)效率顯著降低。
[0042]過(guò)濾導(dǎo)電性銀漿料的過(guò)濾器的材質(zhì)為不銹鋼、鎳、聚酯、尼龍、PTFE(聚四氟乙烯）、 聚丙烯、其他金屬等，沒(méi)有特別限定，但基于耐久性的觀點(diǎn)，優(yōu)選不銹鋼。此外，通過(guò)對(duì)用這 些制作的過(guò)濾器表面進(jìn)行平坦化加工或特氟龍加工等從而提高過(guò)濾精度，也沒(méi)有任何限 制。
[0043] 作為過(guò)濾導(dǎo)電性銀漿料的方式，沒(méi)有特別限定，但一邊攪拌旋轉(zhuǎn)用耐磨性優(yōu)異的 塑料(例如聚甲醛)制作的攪拌葉輪一邊通過(guò)自重浸出漿料的方式，在裝置上也簡(jiǎn)便，制造 效率也好。 作為攪拌的旋轉(zhuǎn)數(shù)，只要是漿料過(guò)濾不損害制造效率的程度就沒(méi)有限定。 作為這些過(guò)濾機(jī)，優(yōu)選株式會(huì)社PR0TECH公司制的PF160A、PF320A等。此外，作為裝置的 選項(xiàng)，通過(guò)加壓或減壓來(lái)改善過(guò)濾效率也無(wú)需任何限制。
[0044] 〈〈本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜、導(dǎo)電性層疊體以及它們的制造方法》 可以通過(guò)將本發(fā)明的導(dǎo)電漿料在基材上涂布或印刷而形成涂膜，接著使涂膜中所含的 有機(jī)溶劑(C)揮發(fā)而使涂膜干燥，由此形成本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜。將導(dǎo)電漿料在基材上涂布 或印刷的方法沒(méi)有特別限定，但是基于工序的簡(jiǎn)便性以及在使用導(dǎo)電漿料形成電路的業(yè)界 是普及的技術(shù)方面，優(yōu)選通過(guò)絲網(wǎng)印刷法印刷。此外，基于降低激光蝕刻工序的負(fù)荷、高效 形成本發(fā)明的電路的觀點(diǎn)，優(yōu)選導(dǎo)電漿料被涂布或印刷在比最終作為電路所需要的導(dǎo)電性 薄膜部位更大一些的部位。
[0045]作為涂布本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的基材，優(yōu)選使用尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異的材料?？膳e例如 由聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯或聚碳酸酯等可撓性優(yōu) 異的材料構(gòu)成的薄膜。此外，玻璃等的無(wú)機(jī)材料也可作為基材使用?；牡暮穸葲](méi)有特別限 定，但優(yōu)選50~350μηι，基于圖案形成材料的機(jī)械特性、形狀穩(wěn)定性或操作性等，100~250μηι 是更優(yōu)選的。
[0046]此外，通過(guò)在涂布本發(fā)明的導(dǎo)電漿料的基材的表面上進(jìn)行物理處理和/或化學(xué)處 理，可使導(dǎo)電性薄膜和基材的密貼性提高。作為物理處理方法的例子，可舉出噴砂法、噴射 含有微粒子的液體的濕式噴砂法、電暈放電處理法、等離子體處理法、紫外線或真空紫外線 照射處理法等。此外，作為化學(xué)處理方法的例子，可舉出強(qiáng)酸處理法、強(qiáng)堿處理法、氧化劑處 理法、偶聯(lián)劑處理法等。
[0047] 此外，所述基材可以是具有透明導(dǎo)電性層的基材。可將本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜層疊 于透明導(dǎo)電性層上。所述透明導(dǎo)電性層的素材沒(méi)有特別限定，可舉例如以氧化銦?錫為主 成分的ΙΤ0膜或由納米尺寸的線狀銀構(gòu)成的銀納米線膜。此外，透明導(dǎo)電性層不僅可以使用 形成于基材整面上的層，也可以使用通過(guò)蝕刻等除去透明導(dǎo)電性層的一部分后的層。
[0048] 使有機(jī)溶劑(C)揮發(fā)的工序，優(yōu)選在常溫下和/或加熱下進(jìn)行。加熱時(shí)，為使干燥后 的導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性和密貼性、表面硬度變良好，優(yōu)選加熱溫度為80°C以上，更優(yōu)選100 °C以上，進(jìn)一步優(yōu)選110°C以上。此外，基于基底的透明導(dǎo)電性層的耐熱性以及生產(chǎn)工序中 節(jié)省能量的觀點(diǎn)，加熱溫度優(yōu)選150 °C以下，更優(yōu)選135 °C以下，進(jìn)一步優(yōu)選130 °C以下。本發(fā) 明的導(dǎo)電漿料中混合有固化劑時(shí)，若在加熱下進(jìn)行使有機(jī)溶劑(C)揮發(fā)的工序，則會(huì)進(jìn)行固 化反應(yīng)。
[0049] 本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜的厚度，只要根據(jù)使用的用途設(shè)定為適當(dāng)?shù)暮穸燃纯伞５牵?基于干燥后的導(dǎo)電性薄膜的導(dǎo)電性良好的觀點(diǎn)、以及激光蝕刻加工適應(yīng)性良好的觀點(diǎn)，導(dǎo) 電性薄膜的膜厚優(yōu)選3μηι以上、30μηι以下，更優(yōu)選4μηι以上，20μηι以下，進(jìn)一步優(yōu)選4μηι以上、 ΙΟμπι以下。導(dǎo)電性薄膜的膜厚若過(guò)薄，則有無(wú)法獲得作為電路所期望的導(dǎo)電性的可能性。膜 厚若過(guò)厚，則激光蝕刻加工所需要的激光照射量必須過(guò)大，有時(shí)會(huì)給基材帶來(lái)?yè)p害。此外， 膜厚的偏差若過(guò)大，則有導(dǎo)電性薄膜的蝕刻難易度產(chǎn)生偏差、容易產(chǎn)生由蝕刻不足導(dǎo)致的 線間短路或由蝕刻過(guò)度導(dǎo)致的斷線的傾向。因此，膜厚的偏差越小越好。
[0050] 本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜的表面粗糙度Ra優(yōu)選0.7μπι以下，更優(yōu)選0.5μπι以下。表面粗 糙度Ra若過(guò)高，則有在導(dǎo)電性薄膜的蝕刻端部容易產(chǎn)生鋸齒狀紋（年f)、容易產(chǎn)生線間的 短路或由蝕刻過(guò)度導(dǎo)致的斷線的可能性。由于表面粗糙度Ra受到漿料組成(特別是有機(jī)成 分種類和銀粉種類）、漿料粘度、絲網(wǎng)印刷條件的強(qiáng)烈影響，因此有必要將這些適當(dāng)調(diào)整并 控制。
[0051] 〈〈本發(fā)明的電路及其制造方法》 本發(fā)明的電路，是具有通過(guò)向由本發(fā)明的導(dǎo)電漿料在基材上形成的導(dǎo)電性薄膜的至少 一部分照射激光，從基材上除去所述導(dǎo)電性薄膜的一部分從而形成的配線部位的電路。若 采用這樣的電路的形成方法，則與光刻法不同，可使圖案形成工序?yàn)楦煞üに嚕膊粫?huì)產(chǎn)生 含有金屬成分的廢液，因而無(wú)需廢液處理等，可以說(shuō)是對(duì)環(huán)境友好的工藝。此外，工序上也 較單純，因而可抑制與制造設(shè)備相關(guān)的投資，制造設(shè)備開(kāi)動(dòng)后的維持管理也容易。此外，通 過(guò)導(dǎo)電漿料在基材上形成導(dǎo)電性薄膜的方法沒(méi)有特別限定，可通過(guò)印刷或涂布進(jìn)行。
[0052] 激光的照射方法沒(méi)有特別限定，可使用近年進(jìn)行普及的激光蝕刻加工裝置或使其 尺寸精度進(jìn)一步提高的裝置。由于激光蝕刻加工裝置可將用CAD等的圖像處理應(yīng)用軟件制 作的數(shù)據(jù)直接用于激光加工，因而制造圖案的變換極為容易。這可作為相對(duì)于以往進(jìn)行的 絲網(wǎng)印刷法中的圖案形成的優(yōu)點(diǎn)之一舉出。
[0053] 被激光照射并吸收的部位中，激光的能量變換為熱，通過(guò)溫度上升，產(chǎn)生熱分解 和/或揮發(fā)，照射部位被剝離?除去。為使本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜的被照射激光的部位從基材 高效地除去，優(yōu)選本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜在照射激光的波長(zhǎng)上具有強(qiáng)吸收。因此，作為激光種 類，優(yōu)選選擇在構(gòu)成本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜的任意成分具有強(qiáng)吸收的波長(zhǎng)區(qū)域中具有能量的 激光種類。
[0054] 作為一般的激光種類，可舉出準(zhǔn)分子激光(基本波的波長(zhǎng)為193~308nm)、YAG激光 (基本波的波長(zhǎng)為l〇64nm)、光纖激光(基本波的波長(zhǎng)為1060nm)、C02激光(基本波的波長(zhǎng)為 1060nm)、半導(dǎo)體激光等?；旧希褂萌魏畏绞?、任何波長(zhǎng)的激光種類都沒(méi)有任何問(wèn)題。通 過(guò)選擇可照射與導(dǎo)電性薄膜的任意一個(gè)構(gòu)成成分的吸收波長(zhǎng)區(qū)域一致、且基材不具有強(qiáng)吸 收的波長(zhǎng)的激光種類，由此可以高效除去激光照射部位的導(dǎo)電性薄膜，且避免基材的損害。 基于這樣的觀點(diǎn)，作為照射的激光種類，基本波的波長(zhǎng)優(yōu)選532~10700nm的范圍。作為基材 使用層結(jié)構(gòu)中具有聚酯的導(dǎo)電性薄膜、或?qū)咏Y(jié)構(gòu)中具有聚酯的導(dǎo)電性薄膜的一部分被蝕刻 除去的薄膜時(shí)，基于由于基材在基本波的波長(zhǎng)上沒(méi)有吸收因而難以給基材帶來(lái)傷害方面， 使用YAG激光或光纖激光是特別優(yōu)選的。
[0055] 激光輸出功率、頻率沒(méi)有特別限定，但調(diào)節(jié)至可將激光照射部位的導(dǎo)電性薄膜除 去、且基底的基材沒(méi)有損傷。一般地，優(yōu)選在激光輸出功率為0.5~100W、頻率為10~ 1000kHz的范圍內(nèi)適當(dāng)調(diào)節(jié)。激光輸出功率若過(guò)低，則有導(dǎo)電性薄膜的除去不充分的傾向， 但通過(guò)降低激光的掃描速度，或增加掃描次數(shù)，可以在某種程度回避這樣的傾向。激光輸出 功率若過(guò)高，則通過(guò)來(lái)自照射部分的熱的擴(kuò)散，存在導(dǎo)電性薄膜被剝離的部位變得比激光 束直徑大太多，或線寬變得過(guò)細(xì)、或斷線的可能性。基于這一點(diǎn)，激光輸出功率優(yōu)選在0.5~ 20W、頻率10~800kHz的范圍內(nèi)適當(dāng)調(diào)節(jié)，進(jìn)一步優(yōu)選0.5~12W、頻率10~600kHz。
[0056] 基于節(jié)拍時(shí)間的減少導(dǎo)致的生產(chǎn)效率提高的觀點(diǎn)，激光的掃描速度越高越好，具 體地，優(yōu)選l〇〇〇mm/s以上，更優(yōu)選1500mm/s以上，進(jìn)一步優(yōu)選2000mm/s以上。掃描速度若過(guò) 慢，則不僅生產(chǎn)效率降低，而且導(dǎo)電性薄膜以及基材可能會(huì)因熱歷程而受到傷害。加工速度 的上限沒(méi)有特別規(guī)定，但掃描速度若過(guò)高，則存在激光照射部位的導(dǎo)電性薄膜的除去變不 完全，電路短路的可能性。此外，掃描速度若過(guò)快，則在形成的圖案的邊角部位上，與直線部 位相比較，由于無(wú)法避免掃描速度減速，邊角部位的熱歷程與直線部位相比變得更高，有可 能邊角部位的激光蝕刻加工部位周邊的導(dǎo)電性薄膜的物性顯著降低。
[0057]激光掃描可以是移動(dòng)激光的發(fā)射體、移動(dòng)被激光照射的被照射體、或組合這兩者 中的任意種，例如可通過(guò)使用XY平臺(tái)實(shí)現(xiàn)。此外，也可通過(guò)使用電流反射鏡等變更激光的照 射方向從而掃描激光。
[0058]照射激光時(shí)，通過(guò)使用聚光鏡(消色差透鏡等），可提高每單位面積的能量密度。作 為該方法的優(yōu)點(diǎn)，可舉出與使用掩模時(shí)相比，由于可加大每單位面積的能量密度，因此即使 是較小輸出功率的激光振蕩器也能夠以高掃描速度進(jìn)行激光蝕刻加工這一點(diǎn)。將聚光后的 激光照射至導(dǎo)電性薄膜時(shí)，需要調(diào)節(jié)焦點(diǎn)距離。焦點(diǎn)距離的調(diào)節(jié)，特別是需要根據(jù)基材上涂 布的膜厚調(diào)節(jié)，但優(yōu)選調(diào)節(jié)為不給基材帶來(lái)?yè)p傷、且可剝離?除去規(guī)定的導(dǎo)電性薄膜圖案。
[0059] 在同一圖案多次重復(fù)進(jìn)行激光的掃描是一種優(yōu)選的實(shí)施方式。即使是第1次掃描 中存在除去不完全的導(dǎo)電性薄膜部位時(shí)，或者構(gòu)成除去的導(dǎo)電性薄膜的成分再次附著在基 材時(shí)，也能夠通過(guò)多次掃描完全除去激光照射部位的導(dǎo)電性薄膜。掃描次數(shù)的上限沒(méi)有特 別限定，但有因加工部位周邊受到多次熱歷程而受損、變色、涂膜物性降低的可能性，因而 需要注意。此外，基于生產(chǎn)效率方面，掃描次數(shù)當(dāng)然越少越好。
[0060] 不在同一圖案多次重復(fù)進(jìn)行激光的掃描也是一種優(yōu)選的實(shí)施方式。只要對(duì)得到的 導(dǎo)電性薄膜、導(dǎo)電性層疊體以及電路的特性不會(huì)帶來(lái)不良影響，掃描次數(shù)越少生產(chǎn)效率當(dāng) 然越優(yōu)異。
[0061] 本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜由于以高濃度含有高價(jià)的導(dǎo)電性粉體，因此若考慮制造的電 路的制造所需要的總成本，回收并再利用從基材除去的導(dǎo)電性薄膜所含的導(dǎo)電性粉體是很 重要的。通過(guò)在激光照射部位附近設(shè)置高性能的集塵機(jī)，構(gòu)筑高效回收導(dǎo)電性粉體的系統(tǒng)， 可成為充分具有收益率的加工方法。
[0062]〈〈本發(fā)明的觸摸屏》 本發(fā)明的導(dǎo)電性薄膜、導(dǎo)電性層疊體和/或電路可作為觸摸屏的構(gòu)成部件使用。所述觸 摸屏可以是電阻膜方式，也可以是靜電電容方式?？蛇m用于任意種觸摸屏，但由于本漿料適 合形成細(xì)線，因此特別可適用于靜電電容方式的觸摸屏的電極配線用。此外，作為構(gòu)成所述 觸摸屏的基材，優(yōu)選使用具有ΙΤ0膜或銀納米線膜等的透明導(dǎo)電性層的基材，或?qū)⑦@些通過(guò) 蝕刻除去一部分后的基材。
[實(shí)施例]
[0063] 為了進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，列舉以下實(shí)施例、比較例，但本發(fā)明并不被實(shí)施例 受到任何限定。此外，實(shí)施例、比較例中記載的各測(cè)定值是通過(guò)以下的方法測(cè)定的。
[0064] 1.數(shù)均分子量 將試樣樹(shù)脂溶解在四氫呋喃中，使得樹(shù)脂濃度成為〇. 5重量％左右，用孔徑為0.5μπι的 聚四氟化乙烯制膜過(guò)濾器過(guò)濾，作為GPC測(cè)定試樣。以四氫呋喃作為流動(dòng)相，使用島津制作 所制的凝膠滲透色譜儀(GPOProminence，以示差折射計(jì)(RI計(jì))作為檢測(cè)器，以色譜溫度30 Γ、流量lml/分鐘進(jìn)行樹(shù)脂試樣的GPC測(cè)定。此外，數(shù)均分子量是作為標(biāo)準(zhǔn)苯乙烯換算值去 掉相當(dāng)于分子量小于1000的部分而算出的。GPC色譜柱使用昭和電工株式會(huì)社制的shodex KF-802、804L、806L。
[0065] 2.玻璃化溫度(丁8) 將試樣樹(shù)脂5mg放入鋁制樣品盤中密封，使用精工電子株式會(huì)社制的差示掃描量熱計(jì) (DSC)DSC-220,以20°C/分鐘的升溫速度至200°C進(jìn)行測(cè)定，求出玻璃化溫度以下的基線的 延長(zhǎng)線和顯示迀移部中的最大傾斜的切線的交點(diǎn)的溫度。
[0066] 3.漿料粘度 粘度的測(cè)定是在樣品溫度25°C下，用BH型粘度計(jì)（東機(jī)產(chǎn)業(yè)公司制）在20rpm下實(shí)施測(cè) 定。
[0067] 4.導(dǎo)電漿料的貯藏穩(wěn)定性 將導(dǎo)電漿料裝入塑料容器，密封后，在40°C下貯藏1個(gè)月。貯藏后，進(jìn)行粘度測(cè)定以及根 據(jù)上述5.導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片制作的試驗(yàn)片的評(píng)價(jià)。 〇:沒(méi)有顯著的粘度變化，維持初期的電阻率、鉛筆硬度以及密貼性。 X:可看出顯著的粘度上升(初期粘度的2倍以上)或者顯著的粘度下降(初期粘度的1/ 2以下），和/或，電阻率、鉛筆硬度和/或密貼性降低中的任一個(gè)。
[0068] 5.導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1的制作 分別在厚度100μπι的經(jīng)過(guò)退火處理的PET膜(東麗公司制Lumirror S)以及ΙΤ0膜(尾池 工業(yè)株式會(huì)社制，KH300)、Ag納米線基材上，用400目的不銹鋼絲網(wǎng)通過(guò)絲網(wǎng)印刷法印刷導(dǎo) 電漿料，形成寬度25mm、長(zhǎng)度450mm的整面涂布圖案，然后用熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐在130°C下加 熱30分鐘，將其作為導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片。此外，調(diào)整印刷時(shí)的涂布厚度，使干燥膜厚成為5 ~ΙΟμπ?ο 5.導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片2的制作 分別在ΙΤ0膜(尾池工業(yè)株式會(huì)社制，ΚΗ300)、Ag納米線基材上，用400目的不銹鋼絲網(wǎng) 通過(guò)絲網(wǎng)印刷法如圖1印刷導(dǎo)電漿料，然后用熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐在130°C下加熱30分鐘，將 其作為導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片2。此外，調(diào)整印刷時(shí)的涂布厚度，使干燥膜厚成為5~ΙΟμπι。
[0069] 6.密貼性 使用所述導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1，按照113 1(-5400-5-6:1990，用(^11〇1&? 6(注冊(cè)商 標(biāo)）（NICHIBAN株式會(huì)社制），通過(guò)剝離實(shí)驗(yàn)進(jìn)行評(píng)價(jià)。但是，格子圖案的各方向的切割數(shù)為 11個(gè)，切割間隔為lmnul〇〇/l〇〇表示沒(méi)有剝離，密貼性良好，0/100表示全部剝離。
[0070] 7.電阻率 測(cè)定所述導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1的薄膜電阻和膜厚，算出電阻率。膜厚使用Gauge Stand ST-022 (小野測(cè)器公司制），將PET膜的厚度作為0點(diǎn)，測(cè)定5個(gè)點(diǎn)的固化涂膜的厚度， 采用其平均值。薄膜電阻使用MILLI0HMMETER4338B(HEWLETT PACKARD公司制），測(cè)定4個(gè)試 驗(yàn)片，采用其平均值。此外，可用本毫歐姆表檢測(cè)的范圍為1 X 10-2以下（Ω · cm)，1 X 10-2 (Ω · cm)以上的電阻率在測(cè)定界限外。
[0071] 8.鉛筆硬度 將導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1放置在厚度2mm的SUS304板上，按照J(rèn)IS K 5600-5-4:1999測(cè) 定鉛筆硬度。 9.接觸電阻 測(cè)定導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片2的la_2a之間、2a_3a之間、la_3a之間的電阻值，根據(jù)下式算 出接觸電阻值。 接觸電阻值=((la_2a間電阻值)+ (2a_3a間電阻值)-(la_3a間電阻值））/2 〈初期值〉 〇:接觸電阻值<50Ω X :接觸電阻>50 Ω 〈耐濕熱性試驗(yàn)后〉 〇:耐濕熱性試驗(yàn)后接觸電阻值/初期接觸電阻值< 1.2 X :耐濕熱性試驗(yàn)后接觸電阻值/初期接觸電阻值> 1.2 12.表面粗糙度 關(guān)于所述導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1，用表面粗糙度計(jì)(Handy Surf Ε-35Β、東京精密公司 制、基于JIS-1994算出）測(cè)定表面粗糙度Ra。
[0072] 9.耐濕熱性試驗(yàn)： 將導(dǎo)電性層疊體試驗(yàn)片1和2，在80°C下加熱300小時(shí)，接著在85°C、85 %RH(相對(duì)濕度） 下加熱300小時(shí)，然后常溫放置24小時(shí)后，進(jìn)行各種評(píng)價(jià)。
[0073] 11.激光蝕刻加工適應(yīng)性的評(píng)價(jià) 通過(guò)絲網(wǎng)印刷法在聚酯基材(東麗公司制Lumirror S(厚度100μπι))上將導(dǎo)電衆(zhòng)料印刷 涂布為2.5 X 10cm的長(zhǎng)方形。作為絲網(wǎng)版，使用400目的不銹鋼絲網(wǎng)（（乳劑厚ΙΟμπι、線直徑18 μπι(村上公司制）、壓延加工）、以50mm/s的刮刀速度印刷。印刷涂布后，用熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐 在130°C下進(jìn)行30分鐘的干燥，得到導(dǎo)電性薄膜。此外，稀釋調(diào)整漿料使膜厚為5~7μπι。然 后，對(duì)由上述方法制作的導(dǎo)電性薄膜進(jìn)行激光蝕刻加工，制作圖1那樣的具有長(zhǎng)度50mm的4 個(gè)直線部分的圖案，作為激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片。圖1的線間的激光蝕刻加工是通 過(guò)將光束直徑30μπι的激光以50ym(L/S = 20/30ym)的間距掃描2次而進(jìn)行的。激光光源使用 YAG激光(波長(zhǎng):1064nm)，設(shè)頻率200kHz、輸出功率11W、掃描速度3000mm/s。
[0074] 評(píng)價(jià)項(xiàng)目、測(cè)定條件如下所述。
[0075](激光蝕刻加工寬度評(píng)價(jià)） 所述激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片中，測(cè)定激光蝕刻后的銀涂膜的線寬。測(cè)定使用 激光顯微鏡(基恩士VHX-1000)進(jìn)行，按照下述的評(píng)價(jià)判斷基準(zhǔn)判定。 〇:被除去導(dǎo)電性薄膜的部位的線寬為28~32μπι Λ:被除去導(dǎo)電性薄膜的部位的線寬為24~27μπι或33~36μπι Λ:被除去導(dǎo)電性薄膜的部位的線寬為23μηι以下或37μηι以上 [0076](激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)1細(xì)線兩端間導(dǎo)通性） 在所述激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片中，根據(jù)是否確保細(xì)線兩端間的導(dǎo)通而評(píng)價(jià)。 具體地，分別關(guān)于端子Α1-端子Β1間、端子Α2-端子Β2間、端子A3-端子Β3間、端子Α4-端子Β4 間進(jìn)行試驗(yàn)，確認(rèn)導(dǎo)通的有無(wú)，按照下述評(píng)價(jià)基準(zhǔn)判定。 〇:關(guān)于全部4根細(xì)線，細(xì)線的兩端間有導(dǎo)通 Λ: 4根細(xì)線中，關(guān)于1~3根細(xì)線，兩端間沒(méi)有導(dǎo)通 X :關(guān)于全部4根細(xì)線，細(xì)線的兩端間沒(méi)有導(dǎo)通 (激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)2相鄰細(xì)線間的絕緣性） 在所述激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片中，根據(jù)是否確保相鄰的細(xì)線間的絕緣而評(píng) 價(jià)。具體地，分別關(guān)于端子Α1-端子Α2間、端子Α2-端子A3間、端子A3-端子Α4間進(jìn)行試驗(yàn)，確 認(rèn)是否導(dǎo)通，按照下述評(píng)價(jià)基準(zhǔn)判定。 〇:全部的相鄰細(xì)線間是絕緣的 Λ:部分的相鄰細(xì)線間是絕緣的 X :全部的相鄰細(xì)線間是未絕緣的 [0077](被除去導(dǎo)電性薄膜的部位的殘?jiān)脑u(píng)價(jià)） 所述激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片中，將被除去導(dǎo)電性薄膜的部位用激光顯微鏡觀 察，按照下述評(píng)價(jià)基準(zhǔn)判定有無(wú)殘?jiān)母街?〇:在被除去導(dǎo)電性薄膜的部位沒(méi)有殘?jiān)?Λ:在被除去導(dǎo)電性薄膜的部位有些殘?jiān)?X :被除去導(dǎo)電性薄膜的部位看見(jiàn)很多殘?jiān)?br>[0078](激光蝕刻后的導(dǎo)電性薄膜和基材之間的密貼性的評(píng)價(jià)） 將所述激光蝕刻加工適應(yīng)性評(píng)價(jià)試驗(yàn)片中的被除去導(dǎo)電性薄膜的部位所夾的殘存有 導(dǎo)電性薄膜的部位對(duì)于基材的密貼性，通過(guò)使用Cello Tape(注冊(cè)商標(biāo)）（NICHIBAN株式會(huì) 社制）的帶剝離試驗(yàn)評(píng)價(jià)。該評(píng)價(jià)是在制作試驗(yàn)片的24小時(shí)后立刻(初期）、和之后進(jìn)一步在 85 °C、85 % RH(相對(duì)濕度）的濕熱環(huán)境下靜置120小時(shí)、進(jìn)而在常溫下靜置24小時(shí)后（耐濕熱 試驗(yàn)后)進(jìn)行。 〇：未剝離。Λ:部分剝離。X :全部剝離。
[0079] 實(shí)施例1 將使苯氧基樹(shù)脂ΡΗ-1以使固體成分濃度成為35質(zhì)量％地溶解于EDGAC而成的溶液2857 份（以固體成分換算為1000份）、片狀銀粉1 8361份、100份固化劑1、流平劑59份、添加劑34 份、作為溶劑的EDGAC164份混合，2次通過(guò)冷凍三輥捏合機(jī)而分散。然后，在漿料過(guò)濾機(jī) (Protech公司制PF320A)上安裝500目（不銹鋼絲網(wǎng)過(guò)濾器(線直徑25μπι、網(wǎng)眼30μπ〇)的過(guò)濾 器，進(jìn)行上述漿料的過(guò)濾。然后，將得到的導(dǎo)電漿料印刷為規(guī)定的圖案后，以130ΓΧ30分鐘 進(jìn)行干燥，得到導(dǎo)電性薄膜。使用本導(dǎo)電性薄膜測(cè)定基本物性，然后，進(jìn)行激光蝕刻加工的 探討。漿料以及漿料涂膜、激光蝕刻加工性的評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示。
[0080] 實(shí)施例2~11 改變導(dǎo)電漿料的樹(shù)脂以及混合，實(shí)施實(shí)施例2~12。導(dǎo)電漿料的混合以及評(píng)價(jià)結(jié)果如表 1所示。實(shí)施例中，通過(guò)烘箱130°CX30分鐘這樣較低的溫度且短時(shí)間的加熱，可得到良好的 涂膜物性。此外，對(duì)ΙΤ0膜的密貼性、濕熱環(huán)境試驗(yàn)后的密貼性也良好。
[0081] 此外，表1中，粘合劑成分、導(dǎo)電粉末、添加劑以及溶劑使用以下的物質(zhì)。 粘合劑成分PH-l:InChem制PKHB(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量16000、Tg = 64°C) 粘合劑成分PH-2: InChem制PKHC(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量21000、Tg = 66 °C) 粘合劑成分PH-3: InChem制PKHC改性物(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量21000、Tg = 67 °C) 粘合劑成分PH-4: InChem制PKHH(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量27000、Tg = 67°C) 粘合劑成分卩11-5:新日鐵住金化學(xué)￥?-50(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量27000、1 8 = 65°(：) 粘合劑成分PH-6:新日鐵住金化學(xué)YP-70 (苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量28000、Tg = 60 °C) 粘合劑成分PH-7:三菱化學(xué)制jER-1010 (苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量8000、Tg = 55°C) 粘合劑成分PH-8:三菱化學(xué)制jER-1002(苯氧基樹(shù)脂、數(shù)均分子量1000、Tg = 54°C) 粘合劑成分PS-1:東洋紡制RV-200(聚酯樹(shù)脂、數(shù)均分子量27000、Tg = 67°C) 銀粉1:凝聚粉(D50:0.5ym) 銀粉2:片狀銀粉(D50:lym) 科琴黑:獅王株式會(huì)社制的Kitchen ECP600JD 固化劑:旭化成化學(xué)株式會(huì)社制MF-K60X 固化劑 2: Baxenden 制 BI-7960 固化催化劑:共同藥品株式會(huì)社制KS1260 流平劑:共榮社化學(xué)株式會(huì)社MK 3 乂夕 分散劑1:畢克化學(xué)日本株式會(huì)社制Disperbyk2155 添加劑1:日本AER0SIL株式會(huì)社制二氧化硅R972 添加劑2: EDGAC中以固體成分20 %溶解的二羥甲基丁酸（日本化成株式會(huì)社制） 添加劑3:畢克化學(xué)日本株式會(huì)社制BYK-410 EDGAC:株式會(huì)社大賽璐制二乙二醇乙醚醋酸酯 BMGAC:株式會(huì)社大賽璐制二乙二醇丁醚醋酸酯 DBE:杜邦株式會(huì)社制己二酸、琥珀酸乙以及戊二酸的二甲基酯的混合物。
[0082] [表1]
[0083] PH-3 的合成 在具備攪拌機(jī)、冷凝器、溫度計(jì)的反應(yīng)容器中投入400份苯氧基樹(shù)脂PH-2后，裝入489份 二乙二醇乙醚醋酸酯(EDGAC)，在85°C下溶解。之后，添加3份偏苯三酸，添加作為催化劑的 二甲基氨基吡啶0.19份、二氮雜雙環(huán)十一碳烯0.48份，在85°C下反應(yīng)4小時(shí)，得到苯氧基樹(shù) 月旨PH-3的溶液。得到的苯氧基樹(shù)脂溶液的固體成分濃度為35質(zhì)量％。將這樣得到的樹(shù)脂溶 液滴至聚丙烯膜上，用不銹鋼制的敷貼機(jī)延展，得到樹(shù)脂溶液的薄膜。將該樹(shù)脂溶液的薄膜 在調(diào)整至120°C的熱風(fēng)干燥機(jī)內(nèi)靜置3小時(shí)，使溶劑揮發(fā)，然后將樹(shù)脂薄膜從聚丙烯薄膜剝 離，得到薄膜狀的干燥樹(shù)脂薄膜。干燥樹(shù)脂薄膜的厚度約為30μπι。將上述干燥樹(shù)脂薄膜作為 苯氧基樹(shù)脂ΡΗ-3的試樣樹(shù)脂，各種樹(shù)脂物性的評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示。
[產(chǎn)業(yè)上的可利用性]
[0084]本發(fā)明的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，可提供一面保持激光蝕刻加工適應(yīng)性，一面 濕熱環(huán)境可靠性優(yōu)異、可維持作為導(dǎo)電性薄膜的涂膜耐久性的導(dǎo)電性薄膜，例如作為用于 搭載觸摸屏的手機(jī)、筆記本電腦、電子書等的導(dǎo)電漿料有用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，在包含含有熱塑性樹(shù)脂和/或熱固性樹(shù) 脂的有機(jī)成分(A)、銀粉(B)以及有機(jī)溶劑(C)的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料中，所述有機(jī)成分 (A)中的粘合劑樹(shù)脂(a)含有苯氧樹(shù)脂。2. 根據(jù)權(quán)利要求1記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，所述粘合劑樹(shù)脂(a) 含有60重量％以上的苯氧樹(shù)脂。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，所述粘合劑樹(shù)脂(a)的數(shù)均分 子量為3000~100000。4. 根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料，其特征在于，所述導(dǎo) 電漿料是過(guò)濾過(guò)的。5. -種導(dǎo)電性薄膜，是由權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)記載的激光蝕刻加工用導(dǎo)電漿料形成 的。6. -種導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述導(dǎo)電性層疊體中層疊有權(quán)利要求5記載的導(dǎo)電 性薄膜和基材。7. 根據(jù)權(quán)利要求6記載的導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述基材具有透明導(dǎo)電層。8. -種電路，其特征在于，所述電路是使用權(quán)利要求5記載的導(dǎo)電性薄膜形成的，或者 是使用權(quán)利要求6或7記載的導(dǎo)電性層疊體形成的。9. 一種電路，其特征在于，所述電路具有配線部位，所述配線部位是通過(guò)向權(quán)利要求5 記載的導(dǎo)電性薄膜的一部分照射從二氧化碳激光、YAG激光、光纖激光以及半導(dǎo)體激光中選 擇的激光，除去所述導(dǎo)電性薄膜的一部分而形成的。10. 根據(jù)權(quán)利要求9記載的電路，其特征在于，所述導(dǎo)電性薄膜形成于透明導(dǎo)電性層上。11. 一種觸摸屏，其特征在于，所述觸摸屏含有權(quán)利要求8~10中任一項(xiàng)記載的電路作 為構(gòu)成部件。
【文檔編號(hào)】H01B13/00GK105993050SQ201580005656
【公開(kāi)日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2015年1月21日
【發(fā)明人】江口憲, 江口憲一, 坂本康博
【申請(qǐng)人】東洋紡株式會(huì)社