專(zhuān)利名稱(chēng)：投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜。
背景技術(shù)：
根據(jù)全球平面顯示產(chǎn)業(yè)研究機(jī)構(gòu)Display Search最新發(fā)表的2010觸控面板市 場(chǎng)出貨預(yù)測(cè)分析報(bào)告中預(yù)測(cè)，投射電容式觸控面板的出貨量將大幅度成長(zhǎng)，預(yù)計(jì)2010年投 射電容式觸控面板出貨產(chǎn)值將超越電阻式觸控面板出貨產(chǎn)值，成為觸控面板的主要應(yīng)用技 術(shù)。蘋(píng)果公司廣泛的應(yīng)用投射式電容技術(shù)在自身產(chǎn)品上，如2007年推出的iphone和ipod， 以及2010年推出的ipad都取得了很好的市場(chǎng)反響。所謂的投射式電容觸控技術(shù)為透過(guò)捕捉電極間的電容變化，進(jìn)行觸控位置偵測(cè)。 由于人體會(huì)攜帶水分，已是優(yōu)秀的導(dǎo)體，因此當(dāng)人體靠近電極時(shí)，手指與電極之間的電容值 會(huì)增加，此時(shí)只要調(diào)查出哪條線的靜電容量變大，就可得知哪個(gè)點(diǎn)被觸控了，因?yàn)榇朔N觸控 機(jī)制具備多項(xiàng)優(yōu)勢(shì)，也成為目前電子產(chǎn)品的觸控解決方案首選，連帶導(dǎo)致配套的透明導(dǎo)電 膜技術(shù)得以長(zhǎng)足發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種投射式電容觸控面板用 導(dǎo)電膜。本實(shí)用新型的目的通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，基材為PET膜，特點(diǎn)是所述PET膜的正面涂 有表面改性層，所述表面改性層上設(shè)有抗反射層，所述抗反射層上濺鍍有蝕刻透明導(dǎo)電層， 所述PET膜的背面涂有硬化涂層。進(jìn)一步地，上述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，所述蝕刻透明導(dǎo)電層上覆 有PE保護(hù)膜。更進(jìn)一步地，上述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，所述硬化涂層表面覆有 PE保護(hù)膜。再進(jìn)一步地，上述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，所述抗反射層由兩個(gè)折 射率不同的透明層組成，其表面粗糙度小于lOOnm。本實(shí)用新型技術(shù)方案的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步主要體現(xiàn)在采用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET膜為基板，在賦予材料高透光性的前提下，提供 了復(fù)合材料加工成不同結(jié)構(gòu)的可能，在PET膜上涂表面改性層提高基板與抗反射層的附著 力；抗反射層由兩層具有不同折射率的透明層組成，光線經(jīng)由具有不同折射率的抗反射層 時(shí)，會(huì)產(chǎn)生部分穿透部分反射的效果，因此反射光的波形會(huì)形成破壞性干涉，消除外在環(huán)境 的反射光，達(dá)到提高畫(huà)面顯示效果的作用。蝕刻透明導(dǎo)電層使用真空濺鍍的方式濺鍍納米 銦錫金屬氧化物，然后用蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖形蝕刻，形成投射電容式觸控面板鋪 設(shè)線路需要的圖形。該投射式電容觸控面板用導(dǎo)電膜能夠很好的應(yīng)用在投射電容式觸控面板上。以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案作進(jìn)一步說(shuō)明

圖1 本實(shí)用新型的截面示意圖；圖中各附圖標(biāo)記的含義I-PET膜，2-表面改性層，3-抗反射層，4_蝕刻透明導(dǎo)電層，5_PE保護(hù)膜，6_硬化 涂層，7-PE保護(hù)膜。
具體實(shí)施方式
針對(duì)投射電容式觸控面板開(kāi)發(fā)一種投射式電容觸控面板用導(dǎo)電膜，如圖1所示， 基材為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET膜1，PET膜1的透光率在90 %以上，介電強(qiáng)度為16. 9KV/ mm，可阻擋紫外線，氣體和水蒸氣滲透率低；PET膜1的正面涂有表面改性層2，表面改性層 2上設(shè)有抗反射層3，抗反射層由兩個(gè)折射率不同的透明層組成，其表面粗糙度小于lOOnm， 抗反射層3上濺鍍有蝕刻透明導(dǎo)電層4，蝕刻透明導(dǎo)電層4蝕刻后覆上PE保護(hù)膜5，PET膜 5的背面涂有硬化涂層6，硬化涂層6硬化后的表面硬度達(dá)到3H/750g以上，透光率> 90%， 硬化涂層6的硬化過(guò)程是在光照的條件下完成；硬化涂層6表面覆有PE保護(hù)膜7。其中， 表面改性層2和硬化涂層6可通過(guò)輥涂或噴涂方式中任一種實(shí)施；蝕刻透明導(dǎo)電層4的材 料為納米銦錫金屬氧化物，其中Ln2O3和Sn2O3的比例為9 1 ；對(duì)蝕刻透明導(dǎo)電層4進(jìn)行圖 形蝕刻使用的蝕刻液是草酸和三氯化鐵水溶液的混合液，其中草酸和三氯化鐵水溶液的配 比為1 1。采用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET膜為基板，在賦予材料高透光性的前提下，提供 了復(fù)合材料加工成不同結(jié)構(gòu)的可能，在PET膜1上涂表面改性層2提高基板與抗反射層3 的附著力；抗反射層3由兩層具有不同折射率的透明層組成，光線經(jīng)由具有不同折射率的 抗反射層時(shí)，會(huì)產(chǎn)生部分穿透部分反射的效果，因此反射光的波形會(huì)形成破壞性干涉，消除 98%以上外在環(huán)境的反射光，達(dá)到提高畫(huà)面顯示效果的作用。蝕刻透明導(dǎo)電層4使用真空 濺鍍的方式濺鍍納米銦錫金屬氧化物，然后用蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖形蝕刻，形成投 射電容式觸控面板鋪設(shè)線路需要的圖形。本實(shí)用新型的導(dǎo)電層是直接在抗反射層上通過(guò)真 空濺鍍的方式形成，省去了使用光學(xué)膠粘貼導(dǎo)電膜的步驟，節(jié)省了成本；在基材背面涂硬化 涂層6，提高表面耐劃傷性和耐化學(xué)腐蝕性，大大延長(zhǎng)了產(chǎn)品的使用壽命。該投射式電容觸 控面板用導(dǎo)電膜能夠很好的應(yīng)用在投射電容式觸控面板上。需要強(qiáng)調(diào)的是以上僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任 何形式上的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等 同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，基材為PET膜，其特征在于所述PET膜的正面 涂有表面改性層，所述表面改性層上設(shè)有抗反射層，所述抗反射層上濺鍍有蝕刻透明導(dǎo)電 層，所述PET膜的背面涂有硬化涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，其特征在于所述蝕刻 透明導(dǎo)電層上覆有PE保護(hù)膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，其特征在于所述硬化 涂層表面覆有PE保護(hù)膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，其特征在于所述抗反 射層由兩個(gè)折射率不同的透明層組成，其表面粗糙度小于lOOnm。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及投射式電容觸控面板用單面導(dǎo)電膜，在PET膜的正面涂有表面改性層，表面改性層上設(shè)有抗反射層，抗反射層由兩個(gè)折射率不同的透明層組成，抗反射層上濺鍍有蝕刻透明導(dǎo)電層，PET膜的背面涂有硬化涂層?？狗瓷鋵佑蓛蓪泳哂胁煌凵渎实耐该鲗咏M成，光線經(jīng)由具有不同折射率的抗反射層時(shí)，產(chǎn)生部分穿透部分反射的效果，反射光的波形形成破壞性干涉，消除外在環(huán)境的反射光；蝕刻透明導(dǎo)電層使用真空濺鍍的方式濺鍍納米銦錫金屬氧化物，用蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖形蝕刻，形成投射電容式觸控面板鋪設(shè)線路需要的圖形。該投射式電容觸控面板用導(dǎo)電膜較好的應(yīng)用在投射電容式觸控面板上。
文檔編號(hào)G06F3/044GK201910045SQ20102062043
公開(kāi)日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2010年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月23日
發(fā)明者武俊, 汪倩文 申請(qǐng)人:蘇州禾盛新型材料股份有限公司