壓力觸控裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明關(guān)于一種壓力觸控裝置，包括顯示面板、背光模組與金屬中框，該金屬中框容置該顯示面板與該背光模組，該壓力觸控裝置還包括，力感測薄膜；以及隔墊結(jié)構(gòu)，該隔墊結(jié)構(gòu)位于該力感測薄膜與該金屬中框之間；其中，當(dāng)分別施加相同的外力于該壓力觸控裝置的不同區(qū)域時(shí)，該隔墊結(jié)構(gòu)使該力感測薄膜對應(yīng)于該不同區(qū)域的部分的電容變化量相同。藉由隔墊結(jié)構(gòu)的形狀及排列方式的設(shè)計(jì)，使得當(dāng)使用者按壓壓力觸控裝置的不同區(qū)域時(shí)，不同區(qū)域的電容變化量相似，從而有效提高壓力觸控裝置的觸控靈敏度。
【專利說明】
壓力觸控裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體設(shè)及一種壓力觸控裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 觸控屏因具有易操作性、直觀性和靈活性等優(yōu)點(diǎn)，已成為個(gè)人移動通訊設(shè)備和綜 合信息終端，如平板電腦、智能手機(jī)，W及超級筆記本電腦的主要人機(jī)交互手段。觸控屏根 據(jù)不同的觸控原理可分為電阻觸控屏、電容觸控屏、紅外觸控屏和表面波(SAW)觸控屏等四 種只要類型。其中，電容觸控屏具有多點(diǎn)觸控的功能，反應(yīng)時(shí)間快，使用壽命長和透過率較 高，用戶使用體驗(yàn)優(yōu)越，同時(shí)隨著工藝的逐步成熟，良品率得到顯著提高，電容屏價(jià)格日益 降低，目前已成為中小尺寸信息終端觸控交互的主要技術(shù)。
[0003] 傳統(tǒng)的觸控技術(shù)都是平面式，只有X軸及Y軸，隨著科技的發(fā)展，壓力觸控技術(shù) 化rce Touch被引入平面式觸控技術(shù)中來，相當(dāng)于在平面式觸控技術(shù)的基礎(chǔ)上增加了一個(gè)Z 軸的功能，類似于3D觸控效果，從技術(shù)層面上來講不僅是對傳統(tǒng)操作方式的一種非常重要 的補(bǔ)充，而且壓力觸控技術(shù)化rce Touch的引入必然可實(shí)現(xiàn)更多功能，帶來更多樣化的操作 體驗(yàn)。
[0004] 圖1為現(xiàn)有的壓力觸控顯示裝置的剖面示意圖，如圖1所示，壓力觸控顯示裝置10 包括，顯示面板11、背光模組12W及金屬中框13,金屬中框13用W容置顯示面板11和背光模 組12,背光模組12面對金屬中框13的一側(cè)的表面上設(shè)置力感測薄膜14,力感測薄膜14通過 黏著層15貼附于前述表面上，較佳的，背光模組12還具有平面結(jié)構(gòu)的背鐵殼(未圖示），力感 測薄膜14為貼附于背鐵殼的表面上，且金屬中框13面對力感測薄膜14的一側(cè)為平面結(jié)構(gòu)。 另外，壓力觸控顯示裝置10還包括蓋板16,其設(shè)置于顯示面板11上用W保護(hù)位于蓋板16下 方的元件。其中，力感測薄膜14例如為具有第一電極的導(dǎo)電薄膜，且力感測薄膜14與金屬中 框13之間具有間隙。當(dāng)外界施加壓力于蓋板16的表面時(shí)，此時(shí)，金屬中框13作為第二電極， 通過力感測薄膜14與金屬中框13之間的間隙的改變產(chǎn)生電容變化量，進(jìn)而控制裝置例如IC 可W確定壓力的位置和大小，并使得壓力觸控顯示裝置10執(zhí)行相關(guān)的功能。
[0005] 然后，受限于壓力觸控顯示裝置10結(jié)構(gòu)特性，當(dāng)使用者用相同的壓力F(如圖1中箭 頭所示的方向）按壓壓力觸控顯示裝置10的不同區(qū)域，例如為圖1中所示的中間區(qū)域Center 和邊緣區(qū)域Edge,邊緣區(qū)域圍繞中間區(qū)域，力感測薄膜14對應(yīng)于中間區(qū)域否認(rèn)部分相對金 屬中框13的形變程度與力感測薄膜14對應(yīng)于邊緣區(qū)域的部分相對金屬中框13的形變程度 并不相同，運(yùn)是由于，壓力觸控顯示裝置10的邊緣區(qū)域相對于中間區(qū)域存在更多的固定元 件例如膠框、黏著層等，進(jìn)而導(dǎo)致邊緣區(qū)域的形變程度遠(yuǎn)小于中央?yún)^(qū)域的形變程度。
[0006] 圖2A與圖2B為現(xiàn)有的壓力觸控顯示裝置邊緣區(qū)域與中央?yún)^(qū)域的電容變化量的計(jì) 算原理示意圖。如圖2A所示，當(dāng)邊緣區(qū)域受到外力F按壓時(shí)，對應(yīng)于邊緣區(qū)域的力感測薄膜 14由初始位置移動至虛線Sl所在的位置，其與金屬中框13的間隙為D3,力感測薄膜14自初 始位置移動至虛線Sl所在位置的位移變化為D2,此時(shí)，對應(yīng)于邊緣區(qū)域的力感測薄膜14與 金屬中框13之間的電容值為Cl,可依據(jù)電容的計(jì)算公式1計(jì)算得到。
[0007] 公式I;
其中，e〇為真空電容率，A為面積，d等于間隙D3的大小。
[0008] 如圖2B所示，當(dāng)中間區(qū)域受到外力F按壓時(shí)，對應(yīng)于中間區(qū)域的力感測薄膜14由初 始位置移動至虛線S2所在的位置，其與金屬中框13的間隙為D5,力感測薄膜14與金屬中框 13之間的位移變化為D4,此時(shí)，對應(yīng)于中間區(qū)域的力感測薄膜14與金屬中框13的中間區(qū)域 電容值為Cl,可依據(jù)上述電容的計(jì)算公式1計(jì)算得到，d等于間隙D5的大小。
[0009] 由于，間隙D5小于間隙D3,因此，邊緣區(qū)域電容值Cl小于中間區(qū)域電容值C2。而在 壓力觸控顯示裝置10的中間區(qū)域和邊緣均未受到外力按壓時(shí)，金屬中框13面對力感測薄膜 14的一側(cè)的表面為平面結(jié)構(gòu)，且力感測薄膜14對應(yīng)于中間區(qū)域的部分W及對應(yīng)于邊緣區(qū)域 的部分分別與金屬中框13之間具有相同的初始間隙Dl，即力感測薄膜14與金屬中框13之間 具有均勻的初始電容值C，初始電容值C可依據(jù)公式1求得。其中，邊緣區(qū)域的電容值的變化 量ACl =邊緣區(qū)域電容值Cl減去初始電容值C;中間區(qū)域的電容值的變化量AC2 =中間區(qū) 域電容值C2減去初始電容值C;由于，CKC2,因此，ACKAC2。運(yùn)種電容值的變換量上的差 異，使得使用者在按壓壓力觸控顯示裝置10的邊緣區(qū)域時(shí)需要施加更大的力按壓，才能被 識別，在一定程度上造成了壓力觸控靈敏度降低，用戶體驗(yàn)較差的現(xiàn)象。目前，針對上述問 題，大多使用演算法校正使得中間區(qū)域和邊緣區(qū)域的電容值的變化量均勻化，但是，基于演 算法的改善對IC提出了更高的要求，使得技術(shù)成本的增加較為顯著。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 本發(fā)明提出一種新的壓力觸控裝置，僅通過機(jī)械結(jié)構(gòu)上的改良，進(jìn)而使得按壓壓 力觸控裝置的不同區(qū)域能夠產(chǎn)生均勻的電容值變化。
[0011] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供的具有良好觸控靈敏度的壓力觸控裝置，包括顯 示面板、背光模組與金屬中框，該金屬中框容置該顯示面板與該背光模組，其特征在于:該 壓力觸控裝置還包括，力感測薄膜；W及隔墊結(jié)構(gòu)，該隔墊結(jié)構(gòu)位于該力感測薄膜與該金屬 中框之間；其中，當(dāng)分別施加相同的外力于該壓力觸控裝置的不同區(qū)域時(shí)，該隔墊結(jié)構(gòu)使得 該力感測薄膜對應(yīng)于該不同區(qū)域的電容變化量相同。
[0012] 作為可選的技術(shù)方案，該力感測薄膜設(shè)置于該背光模組與該金屬中框之間，且該 力感測薄膜通過第一黏著層貼附于該背光模組的面對該金屬中框的一側(cè)的第一表面上。
[0013] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)為通過彎折該金屬中框形成的弧形結(jié)構(gòu)。
[0014] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該金屬中框的面對該背光模組的一側(cè)的 第二表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該金屬中框的該第二表面上涂布介電材料形成;或者該隔 墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該力感測薄膜面對該金屬中框的一側(cè)的第=表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該力 感測薄膜的該第=表面上涂布介電材料形成。
[0015] 作為可選的技術(shù)方案，該介電材料的表面涂布金屬涂層。
[0016] 作為可選的技術(shù)方案，該力感測薄膜設(shè)置于該背光模組與該金屬中框之間，且該 力感測薄膜通過第二黏著層貼附于該金屬中框的面對該背光模組的一側(cè)的第二表面上。
[0017] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該背光模組面對該金屬中框的一側(cè)的第 一表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該背光模組的該第一表面上涂布介電材料形成；或者該隔墊 結(jié)構(gòu)設(shè)置于該力感測薄膜面對該背光模組的一側(cè)的第四表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該力感 測薄膜的該第四表面上涂布介電材料形成。
[0018] 作為可選的技術(shù)方案，該介電材料的表面涂布金屬涂層。
[0019] 作為可選的技術(shù)方案，該顯示面板包括第一基板、顯示介質(zhì)、第二基板W及蓋板， 該第一基板與該第二基板相對設(shè)置，該第一基板鄰近該背光模組，該蓋板鄰近該第二基板； 其中，該力感測薄膜設(shè)置于該第一基板的內(nèi)側(cè)或者外側(cè);或者該力感測薄膜設(shè)置于該第二 基板的內(nèi)側(cè)或者外側(cè)。
[0020] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該背光模組的面對該金屬中框的一側(cè)的 第一表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該背光模組的該第一表面上涂布介電材料形成；該隔墊結(jié) 構(gòu)設(shè)置于該金屬中框面對該背光模組的一側(cè)的第二表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該金屬中框 的該第二表面上涂布介電材料形成。
[0021] 作為可選的技術(shù)方案，該介電材料的表面涂布金屬涂層。
[0022] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)，該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)自該隔墊 結(jié)構(gòu)的中屯、向該隔墊結(jié)構(gòu)的邊緣呈階梯狀排列，且該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)的高度自該隔墊結(jié)構(gòu)的 該中屯、向該隔墊結(jié)構(gòu)的該邊緣逐漸增大。
[0023] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)，該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)的密度自 該隔墊結(jié)構(gòu)的中屯、向該隔墊結(jié)構(gòu)的邊緣逐漸增大及/或該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)的寬度自該隔墊結(jié) 構(gòu)的該中屯、向該隔墊結(jié)構(gòu)的該邊緣逐漸增大。
[0024] 作為可選的技術(shù)方案，該隔墊結(jié)構(gòu)呈弧形結(jié)構(gòu)，且該隔墊結(jié)構(gòu)的高度自該隔墊結(jié) 構(gòu)的中屯、朝該隔墊結(jié)構(gòu)的邊緣逐漸增大。
[0025] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的壓力觸控裝置通過于背光模組與金屬中框之間設(shè)置隔 墊結(jié)構(gòu)，藉由隔墊結(jié)構(gòu)的形狀及排列方式的設(shè)計(jì)，使得當(dāng)使用者按壓壓力觸控裝置的不同 區(qū)域時(shí)，不同區(qū)域的電容變化量相似，從而有效提高壓力觸控裝置的觸控靈敏度。此外，本 發(fā)明的壓力觸控裝置僅通過結(jié)構(gòu)的上改良就實(shí)現(xiàn)了按壓不同區(qū)域，不同區(qū)域的電容變化量 相同的目的，因此，在不需要使用昂貴的高性能IC的前提下，便于生產(chǎn)制造和推廣使用。
【附圖說明】
[0026] 圖1為現(xiàn)有的壓力觸控顯示裝置的剖面示意圖。
[0027] 圖2A與圖2B為現(xiàn)有的壓力觸控顯示裝置邊緣區(qū)域與中央?yún)^(qū)域的電容變化量的計(jì) 算原理示意圖。
[0028] 圖3為本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0029] 圖4A與圖4B為本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓力觸控裝置邊緣區(qū)域與中央?yún)^(qū)域的電容 變化量的計(jì)算原理示意圖。
[0030] 圖5為本發(fā)明的第二實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0031 ]圖6為本發(fā)明的第=實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0032] 圖7為本發(fā)明的第四實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0033] 圖8為本發(fā)明的第五實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0034] 圖9為本發(fā)明的第六實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0035] 圖IOA至圖IOE為具有不同隔墊結(jié)構(gòu)的壓力觸控裝置的剖面示意圖。
[0036] 圖11為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第屯實(shí)施方式的示意圖。
[0037] 圖12為圖11中圖案化凸起單元的示意圖。
[0038] 圖13為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第八實(shí)施方式的示意圖。
[0039] 圖14為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第九實(shí)施方式的示意圖。
[0040] 圖15為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十實(shí)施方式的示意圖。
[0041] 圖16為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十一實(shí)施方式的示意圖。
[0042] 圖17為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十二實(shí)施方式的示意圖。
[0043] 圖18為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十=實(shí)施方式的示意圖。
[0044] 圖19為本發(fā)明的圖案化凸起單元的第屯實(shí)施方式的示意圖。
[0045] 圖20為本發(fā)明的圖案化凸起單元的第八實(shí)施方式的示意圖。
[0046] 圖21為本發(fā)明的凸起結(jié)構(gòu)的截面圖案的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0047] 為使得對本發(fā)明的內(nèi)容有更清楚及更準(zhǔn)確的理解，現(xiàn)在將結(jié)合附圖詳細(xì)說明，在 說明書附圖中示出本發(fā)明的實(shí)施例的示例，其中，相同的標(biāo)號表示相同的元件。
[0048] 圖3為本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖，如圖3所示。壓力觸控 裝置20包括顯示面板21、背光模組22、金屬中框23、力感測薄膜24及隔墊結(jié)構(gòu)27,其中，顯示 面板21與背光模組22相對設(shè)置;金屬中框23用于容置顯示面板21與背光模組22;力感測薄 膜24設(shè)置于背光模組22與金屬中框23之間，且力感測薄膜24與金屬中框23之間具有間隙， 即于外界未施加壓力于壓力觸控裝置20的表面時(shí)，力感測薄膜24與金屬中框23不接觸，較 佳的，間隙可為空氣層或者透明的液體層；隔墊結(jié)構(gòu)27設(shè)置于金屬中框23與力感測薄膜24 之間，當(dāng)施加如圖3中箭頭所示方向的相同大小的壓力Fl于壓力觸控裝置20表面的不同區(qū) 域時(shí)，隔墊結(jié)構(gòu)27使得力感測薄膜24對應(yīng)于上述不同區(qū)域的電容變化量相同。值得注意的 是，本發(fā)明所述的"電容變化量相同"具體來講包括W下情形，1)不同區(qū)域的電容變化量的 數(shù)值相同；2)受限于現(xiàn)有技術(shù)的材料性能或者制程工藝，不同區(qū)域的電容變化量的數(shù)值相 近。其中，只要隔墊結(jié)構(gòu)27能夠使得本發(fā)明中力感測薄膜24對應(yīng)于不同區(qū)域的電容變化量 之間的差異變小，即可實(shí)現(xiàn)本發(fā)明有效提高壓力觸控裝置的觸控靈敏度的目的。
[0049] 于本實(shí)施例中，力感測薄膜24設(shè)置于背光模組22面對金屬中框23的一側(cè)的第一表 面上，力感測薄膜24可通過第一黏著層25a黏貼于上述第一表面;隔墊結(jié)構(gòu)27例如為于金屬 中框23面對力感測薄膜24的一側(cè)的表面上，W涂布或者貼附的方式形成的金屬層及/或介 電層，其中，金屬層及/或介電層可具有弧形表面，且弧形表面到力感測薄膜24的距離自弧 形表面的中屯、向邊緣逐漸變小。于本實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27為介電層，較佳的介電層的表面 涂布有金屬層28。另外，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27為弧形表面，且弧形表面可 通過彎折金屬中框23形成。當(dāng)然，本發(fā)明的隔墊結(jié)構(gòu)27還可W為其它的形狀或構(gòu)造，關(guān)于其 它的形狀或構(gòu)造會在后面的內(nèi)容做詳細(xì)的說明。
[0050] 于本實(shí)施例中，顯示面板21例如為液晶顯示面板、有機(jī)電致發(fā)光顯示面板等。
[0051] 于本實(shí)施例中，背光模組22例如為側(cè)光式，包括Lm)燈條、導(dǎo)光板、反射片、擴(kuò)散片 等光學(xué)元件W及背鐵殼，其中，較佳的，背鐵殼面對金屬中框23的一側(cè)的表面為平面式結(jié) 構(gòu)。
[0052] 于本實(shí)施例中，壓力觸控裝置20還包括蓋板26,蓋板26例如為具有一定剛性的硬 質(zhì)基板，例如玻璃基板、亞克力基板等，用于保護(hù)設(shè)置于蓋板26下方的裝置。
[0053] 為使得對上述"當(dāng)施加外力Fl于壓力觸控裝置20表面的不同區(qū)域時(shí)，隔墊結(jié)構(gòu)27 使得力感測薄膜24對應(yīng)于上述不同區(qū)域的部分的電容變化量相同"有更準(zhǔn)確的理解，下面 詳細(xì)說明其理由如下。
[0054] 圖4A與圖4B為本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓力觸控裝置邊緣區(qū)域與中央?yún)^(qū)域的電容 變化量的計(jì)算原理示意圖，請同時(shí)參照圖3、圖4A及圖4B。
[0055] 為便于說明，本實(shí)施例中，將顯示裝置20的不同區(qū)域分為中間區(qū)域center^及邊 緣區(qū)域Edge,邊緣區(qū)域環(huán)繞中間區(qū)域。其中，上述中間區(qū)域和邊緣區(qū)域的比例也僅為示意， 并非實(shí)際實(shí)施的比例。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，前述不同區(qū)域可W存在不同的區(qū)分 方式。
[0056] 如圖4A所示，當(dāng)施加壓力Fl于壓力觸控裝置20的邊緣區(qū)域時(shí)，對應(yīng)于邊緣區(qū)域的 力感測薄膜24自初始位置移動至虛線S3所示的位置，其中，力感測薄膜24與金屬中框23的 間距d3,力感測薄膜24自初始位置移動至虛線S3所在位置的位移變化量為d2,且金屬中框 23上設(shè)置有隔墊結(jié)構(gòu)27,且對應(yīng)于邊緣區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27例如具有高度tl。此時(shí)，對應(yīng)于邊 緣區(qū)域的力感測薄膜24與金屬中框23之間的邊緣區(qū)域電容值為C3。為求得邊緣區(qū)域電容值 為C3可通過如下公式2或者公式3求得。
[0057] 公式2
其中，川為真空電容率，A為面積，d等于間距d3的大小，t為對 應(yīng)邊緣區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27的高度tl。公式2適用與隔墊結(jié)構(gòu)27的材料為金屬的實(shí)施方式。
[005引公式3:
其中，E2為隔墊結(jié)構(gòu)27的介電常數(shù)，e0為真空電容率， A為面積，d等于間距d3的大小，t為對應(yīng)邊緣區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27的高度tl。公式3適用與隔墊 結(jié)構(gòu)27的材料為介電材料的實(shí)施方式。常見的介電材料，例如為:娃的氧化物、娃的氮化物、 TEOS(Tetraethyl orthosilicate，四乙氧基秒燒)等。當(dāng)然，在本實(shí)施例中，還可優(yōu)先選擇 具有高介電常數(shù)的介電材料。
[0059] 如圖4B所示，當(dāng)施加壓力Fl于壓力觸控裝置20的中間區(qū)域時(shí)，對應(yīng)于中間區(qū)域的 力感測薄膜24自初始位置移動至虛線S4所示的位置，其中，力感測薄膜24與金屬中框23的 間距d5,力感測薄膜24自初始位置移動至虛線S4所在位置的位移變化量為d4,且金屬中框 23上設(shè)置有隔墊結(jié)構(gòu)27,且對應(yīng)于中間區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27例如具有高度t2。此時(shí)，對應(yīng)于中 間區(qū)域的力感測薄膜24與金屬中框23之間的中間區(qū)域電容值為C4。為求得中間區(qū)域電容值 為C4可通過上述公式2或者公式3求得。于本實(shí)施例中，對應(yīng)于中間區(qū)域的金屬中框23的隔 墊結(jié)構(gòu)27為具有高度t2介電層或者金屬層。而在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，對應(yīng)于中間區(qū)域 的金屬中框23可未設(shè)置隔墊結(jié)構(gòu)27。
[0060] 繼續(xù)參照圖4A與圖4B，當(dāng)未施加壓力Fl于壓力觸控裝置20的中間區(qū)域和邊緣區(qū)域 時(shí)，對應(yīng)于中間區(qū)域的力感測薄膜24與對應(yīng)于中間區(qū)域的金屬中框23之間具有初始電容值 C;對應(yīng)于邊緣區(qū)域的力感測薄膜24與對應(yīng)于邊緣區(qū)域的金屬中框23之間具有初始電容值 C'；上述電容值可分別通過上述公式2或者公式3求得。因此，對應(yīng)于中間區(qū)域的電容變化量 =中間區(qū)域電容值C4與初始電容值C的差值，對應(yīng)于邊緣區(qū)域的電容變化量=邊緣區(qū)域電 容值為C3與初始電容值C'的差值。
[0061] W隔墊結(jié)構(gòu)27為金屬層為例進(jìn)行說明，為使得上述中間區(qū)域的電容變化量與邊緣 區(qū)域的電容變化量相同，依據(jù)公式2可知，EO為真空電容率，A為面積，d等于力感測薄膜24與 金屬中框23的間距的大小，t為對應(yīng)隔墊結(jié)構(gòu)27的高度t。其中，EO為已知常數(shù)，A與d為可偵 測的數(shù)值。因此，可通過控制t的大小，即控制隔墊結(jié)構(gòu)27的大小使得上述中間區(qū)域的電容 變化量與邊緣區(qū)域的電容變化量相同。本實(shí)施例中，邊緣區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27的高度tl大于 中間區(qū)域的隔墊結(jié)構(gòu)27的高度t2,進(jìn)而使得中間區(qū)域的電容變化量與邊緣區(qū)域的電容變化 量相同。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，還可通過對隔墊結(jié)構(gòu)27的形狀或者排布方式進(jìn)行 改變，而使得壓力觸控裝置的不同區(qū)域受到相同壓力按壓時(shí)可具有相同的電容變化量，進(jìn) 而有效地提高觸控靈敏度，提升用戶體驗(yàn)。
[0062] 圖5為本發(fā)明的第二實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。如圖5所示，壓力觸控 裝置30與壓力觸控顯示裝置20的區(qū)別僅在于，隔墊結(jié)構(gòu)27設(shè)置的位置差異。其中，隔墊結(jié)構(gòu) 27設(shè)置于力感測薄膜24面對金屬中框23的一側(cè)的第=表面上。于本實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27 例如為通過涂布介電材料于力感測薄膜24的前述第=表面上形成。此外，還可于隔墊結(jié)構(gòu) 27上繼續(xù)涂布金屬層28。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通過涂布包含 金屬材料的涂布液于力感測薄膜24的前述第=表面上形成。
[0063] 圖6為本發(fā)明的第=實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。如圖6所示，壓力觸控 裝置40與壓力觸控顯示裝置20的區(qū)別僅在于，力感測薄膜24與隔墊結(jié)構(gòu)27設(shè)置的位置差 異。其中，力感測薄膜24通過第二黏著層25b黏貼于金屬中框23面對背光模組22的一側(cè)的第 二表面上，隔墊結(jié)構(gòu)27形成于力感測薄膜24面對背光模組23的一側(cè)的第四表面上。于本實(shí) 施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通過涂布介電材料于力感測薄膜24的前述第四表面上形成。此 夕h還可于隔墊結(jié)構(gòu)27上繼續(xù)涂布金屬層28。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27 例如為通過涂布包含金屬材料的涂布液于力感測薄膜24的前述第四表面上形成。
[0064] 圖7為本發(fā)明的第四實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。如圖7所示，壓力觸控 裝置50與壓力觸控裝置20的區(qū)別僅在于，力感測薄膜24與隔墊結(jié)構(gòu)27設(shè)置的位置差異。其 中，力感測薄膜24通過第二黏著層25b黏貼于金屬中框23面對背光模組22的一側(cè)的第二表 面上，隔墊結(jié)構(gòu)27形成于背光模組22面對金屬中框23的一側(cè)的第一表面上。于本實(shí)施例中， 隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通過涂布介電材料于背光模組22的前述第一表面上形成。此外，還可于 隔墊結(jié)構(gòu)27上繼續(xù)涂布金屬層28。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通過 涂布包含金屬材料的涂布液于力感測薄膜24的前述第一表面上形成。
[0065] 圖8為本發(fā)明的第五實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。如圖8所示，壓力觸控 裝置60與壓力觸控裝置20的區(qū)別僅在于，力感測薄膜24設(shè)置的位置差異。顯示面板21包括 上偏光片21a、第一基板2化、顯示介質(zhì)21c、第二基板21dW及下偏光片21e。其中，力感測薄 膜24設(shè)置于第二基板21d與下偏光片21e之間，力感測薄膜24例如是通過黏貼的方式貼附與 第二基板21d面對下偏光片的一側(cè)的表面上。其中，較佳的第一基板21為彩色濾光基板，第 二基板21d為陣列基板。在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，力感測薄膜24也可為直接形成于第二基 板21d上的透明導(dǎo)電層和壓力感測sensor構(gòu)成，透明導(dǎo)電層例如可使用ITO作為導(dǎo)電材料。 另外，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，例如，力感測薄膜24還可設(shè)置于第二基板21d的內(nèi)側(cè)，第二 基板21d的內(nèi)側(cè)為第二基板21d面對顯示介質(zhì)21c的一側(cè);或者，力感測薄膜24設(shè)置與第一基 板2化的內(nèi)側(cè)或者外側(cè)的表面上，第一基板2化的內(nèi)側(cè)為第一基板2化面對顯示介質(zhì)21c的一 偵U，第一基板2化的外側(cè)為第一基板2化面對上偏光片21a的一側(cè);又或者，力感測薄膜24設(shè) 置蓋板26與上偏光片21a中間。
[0066] 圖9為本發(fā)明的第六實(shí)施例的壓力觸控裝置的剖面示意圖。如圖9所示，壓力觸控 裝置70與壓力觸控裝置60的區(qū)別僅在于，隔墊結(jié)構(gòu)27設(shè)置的位置不同。其中，隔墊結(jié)構(gòu)27形 成于背光模組22面對金屬中框23-側(cè)的第一表面上。于本實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通 過涂布介電材料于背光模組22的前述第一表面上形成。此外，還可于隔墊結(jié)構(gòu)27上繼續(xù)涂 布金屬層28。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，隔墊結(jié)構(gòu)27例如為通過涂布包含金屬材料的 涂布液于背光模組的前述第一表面上形成。
[0067] 圖IOA至圖IOE為具有不同隔墊結(jié)構(gòu)的壓力觸控裝置的剖面示意圖。W圖3中所示 的壓力觸控裝置20的結(jié)構(gòu)為例，說明本發(fā)明中的設(shè)置于金屬中框23與背光模組22之間的隔 墊結(jié)構(gòu)的其它形狀和排列方式。
[0068] 如圖IOA所示，形成于金屬中框23上的隔墊結(jié)構(gòu)29包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)29曰，多個(gè)柱 狀結(jié)構(gòu)29a自金屬中框23的中屯、向邊緣呈階梯狀排列，其中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)29a的高度自中 屯、向邊緣逐漸遞增。另外，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)29a之間彼此接觸。多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)29a的材料例如為 金屬或者介電材料，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)29a例如，于金屬中框23上一體成型的金屬凸起，或者 于金屬中框23上涂布包含金屬材料的涂布液或者涂布包含介電材料的涂布液固化后形成。
[0069] 如圖IOB所示，形成于金屬中框23上的隔墊結(jié)構(gòu)31包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31曰，間隙部 3化使得多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31a之間彼此獨(dú)立且不接觸，其中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31a的高度自中屯、向 邊緣逐漸遞增，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31a的寬度可相同或者不同。多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31a的材料例如 為金屬或者介電材料，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)31a例如，于金屬中框23上一體成型的金屬凸起，或 者于金屬中框23上涂布包含金屬材料的涂布液或者涂布包含介電材料的涂布液固化后形 成。
[0070] 如圖IOC所示，形成于金屬中框23上的隔墊結(jié)構(gòu)32包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)32曰，間隙部 3化為凹陷結(jié)構(gòu)，且使得相鄰兩個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)32a之間只有部分結(jié)構(gòu)接觸，其中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu) 32a的高度自中屯、向邊緣逐漸遞增，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)32a的寬度可相同或者不同。多個(gè)柱狀 結(jié)構(gòu)3?的材料例如為金屬或者介電材料，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)3?例如，于金屬中框23上一體 成型的金屬凸起，或者于金屬中框23上涂布包含金屬材料的涂布液或者涂布包含介電材料 的涂布液固化后形成。
[0071] 如圖IOD所示，形成于金屬中框23上的隔墊結(jié)構(gòu)33包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33曰，其中，多 個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33a具有不同的寬度，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33a自金屬中框的中屯、向邊緣依次按照間 隙部33b、33c、33dW及33e進(jìn)行排列，間隙部33b、33c、33dW及33e的大小彼此各不相同。多 個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33a的材料例如為金屬或者介電材料，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33a例如，于金屬中框23 上一體成型的金屬凸起，或者于金屬中框23上涂布包含金屬材料的涂布液或者涂布包含介 電材料的涂布液固化后形成。于本實(shí)施例中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)33a自隔墊結(jié)構(gòu)33的中屯、向兩側(cè) 呈對稱的方式排列。當(dāng)然，在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)可W自隔墊結(jié)構(gòu)的中屯、 向兩側(cè)呈非對稱的方式排列。
[0072] 如圖IOE所示，形成于金屬中框23上的隔墊結(jié)構(gòu)34包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)34曰，其中，多 個(gè)柱狀34a的排列密度自金屬中框的中屯、向邊緣逐漸增加。多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)34a的材料例如為 金屬或者介電材料，且多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)34a例如，于金屬中框23上一體成型的金屬凸起，或者 于金屬中框23上涂布包含金屬材料的涂布液或者涂布包含介電材料的涂布液固化后形成。 于本實(shí)施例中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)34a自隔墊結(jié)構(gòu)34的中屯、向兩側(cè)呈對稱的方式排列。當(dāng)然，在 本發(fā)明的其它實(shí)施例中，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)可W自隔墊結(jié)構(gòu)的中屯、向兩側(cè)呈非對稱的方式排 列。
[0073] 本發(fā)明的壓力觸控裝置通過于背光模組與金屬中框之間設(shè)置隔墊結(jié)構(gòu)，藉由隔墊 結(jié)構(gòu)的形狀及排列方式的設(shè)計(jì)，使得當(dāng)使用者按壓壓力觸控裝置的不同區(qū)域時(shí)，不同區(qū)域 的電容變化量相同，從而有效提高壓力觸控裝置的觸控靈敏度。此外，本發(fā)明的壓力觸控裝 置僅通過結(jié)構(gòu)的上改良就實(shí)現(xiàn)了按壓不同區(qū)域，不同區(qū)域的電容變化量相同的目的，因此， 在不需要使用昂貴的高性能IC的前提下，便于生產(chǎn)制造和推廣使用。
[0074] 此外，圖11為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第屯實(shí)施方式的示意圖、圖12為圖11 中圖案化凸起單元的示意圖，請參照圖11、圖12。壓力觸控顯示裝置200包括背光單元230、 粘著單元240、壓力感測單元250、圖案化凸起單元260、軟性單元270、框架單元280。壓力觸 控單元250包括第一壓力感測層251、第二壓力感測層252及感測材料層253,第一壓力感測 層251具有復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極2511。粘著單元240用W將壓力觸控單元250粘著在上。
[0075] 如圖11所示，框架單元280的一側(cè)依次為軟性單元270、第二壓力感測層252、感測 材料層253、第一壓力感測層251、粘著單元240及背光單元230。圖案化凸起單元260具有與 復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極2511-一對應(yīng)的復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)261(圖11中陰影部分），且圖案化凸 起單元260設(shè)置在背光單元230與框架單元280之間。本發(fā)明設(shè)置與第一感測電極2511-一 對應(yīng)的凸起結(jié)構(gòu)261，利用凸起結(jié)構(gòu)261在觸控發(fā)生時(shí)，將應(yīng)力集中到對應(yīng)的第一感測電極 2511上的特性，可W提高壓力觸控的靈敏度。
[0076] 在本實(shí)施方式中，壓力觸控顯示裝置200還包括顯示面板220及保護(hù)蓋板210,背光 單元230相對于框架單元280的另一側(cè)依次為顯示面板220及保護(hù)蓋板210。即整體架構(gòu)依次 為保護(hù)蓋板210、顯示面板220、背光單元230、粘著單元240、第一壓力感測層251、感測材料 層253、第二壓力感測層252、圖案化凸起單元260、軟性單元270及框架單元280。
[0077] 在本實(shí)施方式中，感測材料層253為壓阻層，壓力觸控顯示裝置200可通過量測第 一壓力感測層251與第二壓力感測層252之間的電阻的變化量W確定壓力的大小，即所謂的 電阻式壓力感測方式。在其他實(shí)施方式中，感測材料層253也可W為介電層，壓力觸控顯示 裝置200可通過量測第一壓力感測層251與第二壓力感測層252之間的電容的變化量W確定 壓力的大小，即所謂的電容式壓力感測方式。
[0078] 在本實(shí)施方式中，圖案化凸起單元260可直接成型或外貼于第二壓力感測層252 上，直接成型即直接將圖案化凸起單元260制作(例如沉積或者涂覆等方式)在第二壓力感 測層252上；外貼即先制作完成圖案化凸起單元260,然后再貼附至第二壓力感測層252上。 如此，圖案化凸起單元260即設(shè)置在壓力觸控感測單元250與軟性單元270之間，當(dāng)然，在其 他實(shí)施方式中，圖案化凸起單元260可設(shè)置在其他位置，只需在背光單元230與框架單元280 之間即可。
[0079] W下針對圖案化凸起單元設(shè)置在其他位置的壓力觸控顯示裝置的第八實(shí)施方式- 第十=實(shí)施方式作出說明。
[0080] 圖13為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第八實(shí)施方式的示意圖，請參照圖13,壓力 觸控顯示裝置300的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板310、顯示面板320、背光單元330、粘著單元 340、圖案化凸起單元360、第一壓力感測層351、感測材料層353、第二壓力感測層352、軟性 單元370及框架單元380。本實(shí)施方式中，圖案化凸出單元360成型或外貼于第一壓力感測層 351 上。
[0081] 圖14為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第九實(shí)施方式的示意圖，請參照圖14,壓力 觸控顯示裝置400的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板410、顯示面板420、背光單元430、圖案化凸起 單元460、粘著單元440、第一壓力感測層451、感測材料層453、第二壓力感測層452、軟性單 元470及框架單元480。本實(shí)施方式中，圖案化凸出單元460成型或外貼于背光單元430上。
[0082] 圖15為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十實(shí)施方式的示意圖，請參照圖15,壓力 觸控顯示裝置500的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板510、顯示面板520、背光單元530、粘著單元 540、第一壓力感測層551、感測材料層553、第二壓力感測層552、軟性單元570、圖案化凸起 單元560及框架單元580。本實(shí)施方式中，圖案化凸出單元560成型或外貼于框架單元580上。
[0083] 圖16為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十一實(shí)施方式的示意圖，請參照圖16,壓 力觸控顯示裝置600的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板610、顯示面板620、背光單元630、粘著單元 640、第一壓力感測層651、感測材料層653、第二壓力感測層652、圖案化凸起單元660、軟性 單元670及框架單元680。本實(shí)施方式中，圖案化凸出單元660成型或外貼于軟性單元670的 面對第二壓力感測層652的一面上。當(dāng)然，如圖17所示的本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十 二實(shí)施方式，圖案化凸出單元760也可成型或外貼于軟性單元770的面對框架單元780的一 面上。壓力觸控顯示裝置700的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板710、顯示面板720、背光單元730、 粘著單元740、第一壓力感測層751、感測材料層753、第二壓力感測層752、軟性單元770、圖 案化凸起單元760及框架單元780。
[0084] 圖18為本發(fā)明的壓力觸控顯示裝置的第十S實(shí)施方式的示意圖，請參照圖18,壓 力觸控顯示裝置800的整體架構(gòu)依次為保護(hù)蓋板810、顯示面板820、背光單元830、粘著單元 840、第一壓力感測層851、感測材料層853、第二壓力感測層852、軟性單元870及框架單元 880。在本實(shí)施方式中，圖案化凸起單元860與軟性單元870-體成型。
[0085] 另外，為提高應(yīng)力集中后壓力觸控靈敏度的均勻性，還可對復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的尺 寸、硬度或截面面積做出限定。
[0086] 圖19為本發(fā)明的圖案化凸起單元的第屯實(shí)施方式的示意圖，請參照圖19。第一壓 力感測層951具有復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極9511，圖案化凸起單元(未標(biāo)示)具有復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié) 構(gòu)，復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極9511上對應(yīng)復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的尺寸自圖案化凸 起單元的邊緣區(qū)域向中屯、區(qū)域遞增，如圖19中所示，相同陰影方向的凸起結(jié)構(gòu)為相同尺寸 的凸起結(jié)構(gòu)，自邊緣區(qū)域至中屯、區(qū)域，圖案化凸起單元依次具有凸起結(jié)構(gòu)961、凸起結(jié)構(gòu) 962、凸起結(jié)構(gòu)963、凸起結(jié)構(gòu)964,而凸起結(jié)構(gòu)961、凸起結(jié)構(gòu)962、凸起結(jié)構(gòu)963、凸起結(jié)構(gòu)964 的尺寸遞增。
[0087] 圖20為本發(fā)明的圖案化凸起單元的第八實(shí)施方式的示意圖，請參照圖20。本實(shí)施 方式對復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的硬度做出限定。第一壓力感測層1051具有復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極 10511，圖案化凸起單元(未標(biāo)示)具有復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，復(fù)數(shù)個(gè)第一感測電極10511上對應(yīng) 復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的硬度自圖案化凸起單元的邊緣區(qū)域向中屯、區(qū)域遞減， 如圖20中所示，相同陰影方向的凸起結(jié)構(gòu)為相同硬度的凸起結(jié)構(gòu)，未有陰影的凸起結(jié)構(gòu)也 為相同硬度的凸起結(jié)構(gòu)。自邊緣區(qū)域至中屯、區(qū)域，圖案化凸起單元依次具有凸起結(jié)構(gòu)1061、 凸起結(jié)構(gòu)1062、凸起結(jié)構(gòu)1063,而凸起結(jié)構(gòu)1061、凸起結(jié)構(gòu)1062、凸起結(jié)構(gòu)1063硬度遞減。
[0088] 當(dāng)然，在其他實(shí)施方式，也可對復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的截面面積做出限定:復(fù)數(shù)個(gè)凸起 結(jié)構(gòu)的截面面積自圖案化凸起單元的邊緣區(qū)域向中屯、區(qū)域遞增，復(fù)數(shù)個(gè)凸起結(jié)構(gòu)的截面圖 案不做限定，只需滿足截面面積遞增的要求即可。
[0089] 在上述實(shí)施方式中，凸起結(jié)構(gòu)的截面圖案均不做限定，如圖21中本發(fā)明的凸起結(jié) 構(gòu)的截面圖案均可。
[0090] 綜上所述，本發(fā)明設(shè)置與第一感測電極一一對應(yīng)的凸起結(jié)構(gòu)，利用凸起結(jié)構(gòu)在觸 控發(fā)生時(shí)，將應(yīng)力集中到對應(yīng)的第一感測電極上的特性，W提高壓力觸控的靈敏度。進(jìn)一步 地，還可對凸起結(jié)構(gòu)的尺寸、硬度或截面面積做出設(shè)計(jì)，W提高壓力觸控靈敏度的同時(shí)，提 高壓力觸控的均勻性。
[0091] 當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟 悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但運(yùn)些相應(yīng)的改變和變形 都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種壓力觸控裝置，包括顯示面板、背光模組與金屬中框，該金屬中框容置該顯示面 板與該背光模組，其特征在于:該壓力觸控裝置還包括， 力感測薄膜；以及 隔墊結(jié)構(gòu)，該隔墊結(jié)構(gòu)位于該力感測薄膜與該金屬中框之間； 其中，當(dāng)分別施加相同的外力于該壓力觸控裝置的不同區(qū)域時(shí)，該隔墊結(jié)構(gòu)使得該力 感測薄膜對應(yīng)于該不同區(qū)域的電容變化量相同。2. 如權(quán)利要求1所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該力感測薄膜設(shè)置于該背光模組與 該金屬中框之間，且該力感測薄膜通過第一黏著層貼附于該背光模組的面對該金屬中框的 一側(cè)的第一表面上。3. 如權(quán)利要求2所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)為通過彎折該金屬中框 形成的弧形結(jié)構(gòu)。4. 如權(quán)利要求2所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該金屬中框的面 對該背光模組的一側(cè)的第二表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該金屬中框的該第二表面上涂布介 電材料形成;或者該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該力感測薄膜面對該金屬中框的一側(cè)的第三表面上， 且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該力感測薄膜的該第三表面上涂布介電材料形成。5. 如權(quán)利要求4所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該介電材料的表面涂布金屬涂層。6. 如權(quán)利要求1所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該力感測薄膜設(shè)置于該背光模組與 該金屬中框之間，且該力感測薄膜通過第二黏著層貼附于該金屬中框的面對該背光模組的 一側(cè)的第二表面上。7. 如權(quán)利要求6所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該背光模組面對 該金屬中框的一側(cè)的第一表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該背光模組的該第一表面上涂布介電 材料形成;或者該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該力感測薄膜面對該背光模組的一側(cè)的第四表面上，且 該隔墊結(jié)構(gòu)為于該力感測薄膜的該第四表面上涂布介電材料形成。8. 如權(quán)利要求7所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該介電材料的表面涂布金屬涂層。9. 如權(quán)利要求1所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該顯示面板包括第一基板、顯示介 質(zhì)、第二基板以及蓋板，該第一基板與該第二基板相對設(shè)置，該第一基板鄰近該背光模組， 該蓋板鄰近該第二基板;其中，該力感測薄膜設(shè)置于該第一基板的內(nèi)側(cè)或者外側(cè);或者該力 感測薄膜設(shè)置于該第二基板的內(nèi)側(cè)或者外側(cè)。10. 如權(quán)利要求9所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該背光模組的 面對該金屬中框的一側(cè)的第一表面上，且該隔墊結(jié)構(gòu)為于該背光模組的該第一表面上涂布 介電材料形成;該隔墊結(jié)構(gòu)設(shè)置于該金屬中框面對該背光模組的一側(cè)的第二表面上，且該 隔墊結(jié)構(gòu)為于該金屬中框的該第二表面上涂布介電材料形成。11. 如權(quán)利要求9所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該介電材料的表面涂布金屬涂層。12. 如權(quán)利要求1所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)，該 多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)自該隔墊結(jié)構(gòu)的中心向該隔墊結(jié)構(gòu)的邊緣呈階梯狀排列，且該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu) 的高度自該隔墊結(jié)構(gòu)的該中心向該隔墊結(jié)構(gòu)的該邊緣逐漸增大。13. 如權(quán)利要求1所述的壓力觸控裝置，其特征在于，該隔墊結(jié)構(gòu)包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)，該 多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)的密度自該隔墊結(jié)構(gòu)的中心向該隔墊結(jié)構(gòu)的邊緣逐漸增大及/或該多個(gè)柱狀 結(jié)構(gòu)的寬度自該隔墊結(jié)構(gòu)的該中心向該隔墊結(jié)構(gòu)的該邊緣逐漸增大。
【文檔編號】G06F3/041GK106020529SQ201610297209
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月6日
【發(fā)明人】謝文章
【申請人】友達(dá)光電(廈門)有限公司, 友達(dá)光電股份有限公司