專利名稱：根據(jù)特征間距進(jìn)行圖案分解的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域通常涉及一種用于將目標(biāo)圖案分解成多個圖案、 以允許在多個照射過程中例如利用多個掩模使目標(biāo)圖案成像的方法、程 序產(chǎn)品和裝置。發(fā)明背景例如，在集成電路(ICs)的制造過程中可以使用光刻設(shè)備。在這樣 的情況下，掩模可包含與IC的單個層對應(yīng)的電路圖案，該圖案可成像在 己經(jīng)涂覆有照射敏感材料層(抗蝕劑)的襯底(硅晶片)上的目標(biāo)部分 (例如，包括一個或多個管芯)上。通常，單一晶片將包含經(jīng)由投影系 統(tǒng)、 一次一個地連續(xù)被照射的相鄰目標(biāo)部分的整個網(wǎng)絡(luò)。在一種類型的 光刻投影設(shè)備中，通過一次性將整個掩模圖案曝光在目標(biāo)部分上來照射 每個目標(biāo)部分；這種裝置一般稱作晶片步進(jìn)器。在一般稱作步進(jìn)一掃描 設(shè)備的可替代設(shè)備中，通過沿指定的參考方向(掃描方向)逐步地掃描 投影束下的掩模圖案，并同時以平行或反平行該方向的方向掃描襯底臺， 來照射每個目標(biāo)部分。通常，因為投影系統(tǒng)具有一個放大因子M (—般 <1)，因此，掃描襯底臺的速度V將是掃描掩模臺的速度的M倍因子。 關(guān)于這里介紹的光刻設(shè)備的更多信息例如可以在US6046792中找到，在 此引入作為參考。在使用光刻投影設(shè)備的制造工藝中，掩模圖案成像在至少部分由照 射敏感材料(抗蝕劑)層覆蓋的襯底上。在該成像步驟前，襯底可經(jīng)過 多道工序，例如涂底(priming)、抗蝕劑涂覆和軟烘烤(softbake)。曝光后，襯底可能經(jīng)歷其它工序，例如后曝光烘烤(PEB)、顯影、硬烘烤(hard bake)和成像特征的測量/檢驗。這一系列工序可用作圖案化諸如IC等器 件的單個層的基礎(chǔ)。這樣的圖案化層可接著經(jīng)過諸如刻蝕、離子注入(摻 雜)、金屬化、氧化、化學(xué)機(jī)械拋光等多道工序，所有這些都是用來完成 一個單個層。如果需要幾層，那么全部工序或它們的變形方式將不得不 對應(yīng)每個新層被重復(fù)。最終，在襯底(晶片)上將出現(xiàn)器件陣列。然后， 通過例如劃片或鋸技術(shù)使這些器件彼此分離，這樣這些分立器件就可以 安裝在承載體上，連接到管腳上等等。為了簡化，該投影系統(tǒng)以后稱為 "透鏡"，然而該術(shù)語應(yīng)該廣義地解釋為包括各種類型的投影系統(tǒng)，例如 包括折射型光學(xué)裝置、反射型光學(xué)裝置、和反射折射型系統(tǒng)。照射系統(tǒng) 也可包括根據(jù)用于引導(dǎo)、成形和控制投影束照射的這些設(shè)計類型中任何 類型而工作的元件，這些元件在下面也可以共同地或各自地稱為"透鏡"。 此外，光刻設(shè)備可以是具有兩個或多個襯底臺(和/或兩個或多個掩模臺) 的類型。在這樣的"多臺"裝置中，可以并行地使用額外的臺，或者當(dāng) 使用一個或多個其它臺進(jìn)行曝光時，在一個或多個臺上進(jìn)行準(zhǔn)備步驟。 例如在US5969441中介紹了雙臺光刻設(shè)備，在此引入作為參考。上面提及的光刻掩模包括與將被集成在硅晶片上的電路元件相對應(yīng) 的幾何圖案。用于產(chǎn)生這些掩模的圖案通過使用CAD(計算機(jī)輔助設(shè)計) 程序產(chǎn)生，該過程通常稱為EDA (電子設(shè)計自動化)。為了生成功能性掩 模，大部分CAD程序采取一套預(yù)定設(shè)計規(guī)則。這些規(guī)則由工藝和設(shè)計上 的限定來設(shè)置。例如，設(shè)計規(guī)則規(guī)定了電路器件(例如門、電容等)之 間或者互連線之間的空間公差，以確保電路器件或線在不希望的情形中 彼此不影響。設(shè)計規(guī)則限定典型地稱為"臨界尺寸"(CD)。電路的臨界 尺寸可限定為線或孔的最小寬度，或兩條線或兩個孔之間的最小空間。 因此，CD決定被設(shè)計電路的總尺寸和密度。當(dāng)然，集成電路制造的目標(biāo)之一是在晶片(經(jīng)由掩模)上忠實(shí)地再 現(xiàn)原始的電路設(shè)計。隨著目標(biāo)圖案的臨界尺寸日益變小，在晶片上再現(xiàn) 目標(biāo)圖案變得更加艱難。然而，允許減小能夠在晶片中被成像或被再現(xiàn) 的最小CD的技術(shù)是公知的。 一種這樣的技術(shù)是雙曝光技術(shù)，其中目標(biāo) 圖像的特征分兩次曝光進(jìn)行成像。例如， 一種廣為人知的雙曝光技術(shù)被稱為雙圖案成形或DPT。該技 術(shù)允許指定目標(biāo)圖案的特征分為兩個不同的掩模，然后分別成像以形成 要得到的圖案。當(dāng)目標(biāo)特征在一起間隔得太近以至于不可能對單獨(dú)的特 征進(jìn)行成像時，典型地使用這種技術(shù)。這種情況下，將目標(biāo)特征分離成 兩個掩模，以便在指定掩模上的所有特征都充分的彼此分開，以使每個 特征可以獨(dú)立地成像。然后，通過以順序的方式(利用合適的遮蔽)將 兩個掩模成像，可能獲得具有密集間隔的不能利用單個掩模適當(dāng)成像的 特征的目標(biāo)圖案。因此，通過將目標(biāo)特征分離成為兩個獨(dú)立掩模，使得指定掩模上的 每個特征之間的間距在成像系統(tǒng)的分辨率能力之上，從而可以提高成像 性能。確實(shí)，上面所述的雙曝光技術(shù)允許h0.25。然而，目前公知的雙 曝光技術(shù)中的問題和限制仍然存在。例如，當(dāng)前分解技術(shù)包括基于規(guī)則的分解技術(shù)和基于模式的分解技 術(shù)?；谝?guī)則的方法典型地需要超量的規(guī)則來處理如今日益復(fù)雜的設(shè)計。 更具體地，利用一系列預(yù)構(gòu)造的幾何規(guī)則，可以開始進(jìn)行間距分離 (pitch-split)分解。這需要將奇偶間距特征分為(也稱為著色)兩個分 開的幾何圖形組或圖案。概念上，這是直的正向過程。然而，在實(shí)際IC 電路設(shè)計中，局部的2維幾何環(huán)境是非常復(fù)雜的。因而，經(jīng)常很難從任 意的局部密集圖案組中識別"奇"和"偶"間距特征。結(jié)果，現(xiàn)有的基 于規(guī)則的方法引起大量著色沖突，為解決這些沖突需要額外的特殊規(guī)則 和/或操作員干預(yù)。對那些額外規(guī)則或操作員干預(yù)的需要使目前的基于規(guī) 則的系統(tǒng)使用起來耗時且存有問題，因為經(jīng)常要花費(fèi)大量的時間使這些 規(guī)則集適應(yīng)指定的目標(biāo)設(shè)計。基于模式的分解過程也存在各種各樣的缺 點(diǎn)。例如，基于模式的分解方法會花費(fèi)超長的時間段來完成分解過程。 進(jìn)一步，基于模式的方法也不是不受沒解決的沖突問題的影響的，因此 也需要操作員干預(yù)，這都是不希望的。本發(fā)明的目的是克服在公知的基于規(guī)則和基于模式的圖案分解技術(shù) 中的這些缺陷。發(fā)明內(nèi)容鑒于前述，本發(fā)明的目的是通過提供簡化的分解工藝克服已知的現(xiàn) 有技術(shù)中的缺陷，該簡化的分解工藝不需要產(chǎn)生大量的精細(xì)的基于規(guī)則 組，并且適合使用于基本上任何目標(biāo)圖案。概言之，本發(fā)明提供一種將包含將被印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案分解為多個圖案的方法。該方法包括步驟(a)限定表示在內(nèi)半徑中 為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b)限定使用多個像素的特征;(c)在多個像素的第一像素上設(shè)置核；(d)在所述多個像素中每個像素 的位置處確定該核的值，為多個像素中每個像素存儲所述值，以限定對 應(yīng)所述多個像素中每個像素的像素值；(e)將與多個像素中的指定像素 有關(guān)的在先被存儲的值同步驟(d)中確定的指定像素的像素值相加；(f) 在多個像素中的另一像素上設(shè)置核，重復(fù)步驟(d) - (f)直至多個像素 中的每個像素都被處理；和(g)根據(jù)該指定像素的像素值，確定在第一 圖案或第二圖案中所述像素的位置。下面進(jìn)行更具體的解釋，本發(fā)明的程序提供許多比現(xiàn)有的分解程序 更好的優(yōu)點(diǎn)。最重要地，該程序提供一種快速有效的分解目標(biāo)圖案的方 法，不需要產(chǎn)生控制圖案分解的復(fù)雜的規(guī)則組。另外，該程序允許指定 特征被分割成多個部分，所述多個部分設(shè)置在單獨(dú)的用于成像的圖案中。通過下面的本發(fā)明示范實(shí)施例的具體說明，本發(fā)明附加的優(yōu)點(diǎn)對本 領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。盡管可以具體參考本文來在ICs制造中使用本發(fā)明，然而，應(yīng)該清 楚地理解本發(fā)明還有許多其他的可能的應(yīng)用。例如，可以用在集成光學(xué) 系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、液晶顯示面板、薄膜磁頭等的制 造中。本領(lǐng)域技術(shù)人員知道，在這些替代應(yīng)用的情況中，文中術(shù)語"掩 模版"、"晶片"或"管芯"應(yīng)該理解為被更一般的術(shù)語"掩模"、"襯底" 和"目標(biāo)圖案"分別所替代。本發(fā)明本身以及其它目的和優(yōu)點(diǎn)可通過參考下面詳細(xì)的說明和附圖 而被更好地理解。附圖簡述

圖1是說明用于將目標(biāo)圖案分解為多個圖案的本發(fā)明分解過程的示例流程圖。圖2示出可用于圖1中所述的基于模式的分解過程中的示例性核。圖3-5e示出相對于示例性目標(biāo)圖案的本發(fā)明的分解過程。圖6-8示出相對于線間隔目標(biāo)圖案的分解過程的應(yīng)用例子。圖9和IO示出應(yīng)用于目標(biāo)圖案的分解過程的其它例子。 圖11是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的能夠執(zhí)行照射優(yōu)化的計算機(jī)系統(tǒng)的 框圖。圖12示意地示出了適于與借助于公開的概念而被設(shè)計的掩模一起使 用的示例性的光刻投影設(shè)備。
具體實(shí)施方式
下面進(jìn)行具體解釋，本發(fā)明的分解過程首先需要限定函數(shù)或核，其 具有相對于核中心和核外半徑之間的幅度的不同符號。重要地，核的負(fù) 幅度應(yīng)該位于離開核中心、與圖案布局時將被避免的間距相對應(yīng)的距離 處。 一旦限定了該核，如下具體解釋，隨后地在目標(biāo)特征的每個像素(也 預(yù)限定了每個像素的尺寸)上放置該核，在每次放置核時，在每個像素 處的核或函數(shù)值與該像素先前的值相加(如果該像素值是負(fù)的則相減)， 以生成與指定像素有關(guān)的數(shù)值。重復(fù)該過程，直至核已經(jīng)位于將被成像 的每個特征的每個像素上。 一旦完成該過程，每個像素隨之會具有一個 相關(guān)的正值、負(fù)值或零值。如下面例子所示，正值像素和負(fù)值像素一起 分組。這些正和負(fù)值接著用于將目標(biāo)特征分離/分解為第一圖案和第二圖 案。更具體地，在第一圖案中放置具有正值的像素，在第二圖案中放置 具有負(fù)值的像素。在任一圖案中都可放置零值像素。如上所述，核的負(fù)幅度應(yīng)該位于離開核中心、與圖案布局時將被避 免的間距相對應(yīng)的距離處。換句話說，具有正值的核中心可視為對應(yīng)于 該特征的最小可印刷CD，從核中心到負(fù)值的距離(該距離與將被避免的 間距相對應(yīng))可以視為小于用于成像該目標(biāo)圖案的指定光刻工藝的最小 可接受間距的區(qū)域。如此，在第一和第二圖案中所得的間距等于或大于 該最小可接受間距。應(yīng)該注意到，用于將被用來成像圖案的所述工藝的 最小可接受CD和最小可接受間距(和將要避免的間距)可利用經(jīng)驗或10模擬過程而被確定，這在本領(lǐng)域中是公知的。圖1是說明本發(fā)明第一實(shí)施例的示例性流程圖。參考圖1，過程中的 第一步驟(步驟10)限定將被分解為兩個或多個圖案的原始目標(biāo)圖案。 在指定的示例中，該目標(biāo)圖案包括多個如圖3所示的L形線。過程中的下一步驟(步驟12)限定將在分解過程中使用的核或函數(shù)。如上所述，核是相對于核中心和核外半徑之間的幅度具有不同符號的函 數(shù)，其中外半徑顯示了與要避免的間距(即，小于最小可接受間距的間距)相對應(yīng)的幅度變化。圖2顯示在過程中可使用的示例性核。參考圖2， 該核有具有正函數(shù)值的中心部21和具有負(fù)函數(shù)值的外部22。應(yīng)該注意到， 選擇核以便在與要避免的間距相對應(yīng)的距離處放置外部22。還示出，核 的值在核的中心處最高，且隨著離開中心的距離逐漸增加而降低。應(yīng)該 注意到，核的形狀不限于圖2中所示的例子。可以使用在核中心和距離 中心一設(shè)定半徑處之間的幅度具有不同符號的任何函數(shù)。進(jìn)一步，可以 使核中心具有負(fù)幅度，且使與要避免的間距相對應(yīng)的外半徑顯示正值。 這里重要的標(biāo)準(zhǔn)是在兩個位置之間的幅度中符號是變化的。一旦限定了該核，過程中的下一步驟(步驟14)是根據(jù)如圖4中所 示的數(shù)據(jù)格式設(shè)計(例如，GDSII)將目標(biāo)圖案的特征分成具有合適尺寸 的像素。應(yīng)該注意到，像素尺寸可以在從小到設(shè)計網(wǎng)格容許尺寸到最小 設(shè)計線尺寸(即最小CD)的范圍內(nèi)。然而，因為是在一個像素接一個像 素的基礎(chǔ)上完成著色，因此，如果像素尺寸太小，則可能會花費(fèi)較長的 時間來完成分解過程?？蛇x地，如果像素尺寸太大，分解過程會導(dǎo)致沖 突發(fā)生。由此，應(yīng)該選擇像素尺寸以便均勻地分開所述特征。例如，對 于32nm的CD目標(biāo)設(shè)計，像素尺寸可以在20nm量級上。 一旦完成本步 驟，下一步驟(步驟16)需要將目標(biāo)特征的所有像素值初始化為零。接下來，在步驟18中，選擇第一像素。然后，在第一像素上放置/ 定位核中心(步驟20)，對于核直徑內(nèi)的所有像素，確定在相應(yīng)像素位置 處的核值。如圖2所示，核的幅度值隨著離開核中心的距離增加而變化。 此后(步驟24)，對于核直徑內(nèi)的所有像素，將指定像素位置處的核值加 至當(dāng)前的像素強(qiáng)度或值(初始被設(shè)定為零)，或從當(dāng)前的像素強(qiáng)度或值中 減去指定像素位置處的核值(如果該核值為負(fù))。過程接著進(jìn)行至步驟25 ，在此確定是否在每個像素上已經(jīng)放置核。如果回答是否，過程進(jìn)行至步驟26，并且選擇下一個像素，然后重復(fù)步驟20-25直至已經(jīng)處理完所有 像素。應(yīng)該注意到，像素值是累積的并且在每個重復(fù)期間更新。 一旦處 理完所有的像素，在步驟27中根據(jù)指定像素的值是正的還是負(fù)的，將像 素分為第一圖案或第二圖案。該第一和第二圖案接著用于形成第一和第 二掩模，其可在多個照射過程中使用。圖5a-5e顯示了在如圖3所示的示例性目標(biāo)圖案上應(yīng)用前述分解過 程。首先，在圖像上部拐角中的第一像素上放置核，在該目標(biāo)圖案上覆 蓋該核，且使該核位于第一像素的中心上。更新核函數(shù)半徑內(nèi)的所有像 素值。具體地，當(dāng)指定像素位置處的核值是正的時，核值與該像素值相 加，當(dāng)指定像素位置處的核值是負(fù)的時，從像素值中減去該核值。 一旦 完成，該核移動到下一個像素，重復(fù)該過程。參考圖5a-5e，顯示當(dāng)核在 形成目標(biāo)圖案的像素上移動時，部分基于要避免的間距值(該間距值用 于限定核)，特征開始分解或彼此分離。 一旦處理完所有像素，就完全地 分解目標(biāo)圖案。雖然不必要以任何特殊的順序從像素到像素地移動核， 但在指定的例子中，以光柵方式移動核。然而，也可以任何其它合適的 圖案移動核。應(yīng)該注意到，像素和核的值兩者通過利用x-y坐標(biāo)系可以得到維持， 以允許有準(zhǔn)備地對像素和核值進(jìn)行識別和存儲，并且有準(zhǔn)備地對像素上 的核進(jìn)行布置。進(jìn)一步應(yīng)該注意到，然而，實(shí)際上是對所有的像素進(jìn)行 更新，核半徑外的像素只是在目前的像素值上簡單地加上或減去零值。圖6-8示出應(yīng)用到線間隔圖案的分解過程的應(yīng)用的另一個例子。當(dāng)核 初始地定位在最左邊的線上時，示出了各個線的像素值。參考圖6的圖 表，與第一線有關(guān)的像素值是正的，而第二線(緊接著最左邊線的右邊) 的像素值是負(fù)的。再次，如上所述，這是由于選擇的預(yù)定的核強(qiáng)度值， 使得以低于最小可接受間距的間隔設(shè)置的特征放置在分立的圖案中。圖7 和8是該值如何隨著所述核逐個像素的移動而變化的例子。最后，圖9顯示應(yīng)用到轉(zhuǎn)彎圖案的分解過程的結(jié)果。同樣如圖5e所 示，結(jié)果是該圖案分解為多個圖案，包括特征91的第一圖案和包括特征 93的第二圖案。圖10顯示應(yīng)用到具有密集間隔特征101和103以及非密集特征102的線間隔圖案的分解過程的結(jié)果。如所示，結(jié)果是密集間隔特征(即特征101和103)分離為獨(dú)立圖案，而非密集間隔圖案不變化。如上所述，本發(fā)明的過程相對于已知分解過程具有許多的優(yōu)點(diǎn)。最 重要地，該過程提供一種快速和有效的分解目標(biāo)圖案的方法，不需要產(chǎn) 生控制圖案分解的復(fù)雜的規(guī)則組。如上所述的示例性過程的變化也是可能的。例如，可以將光學(xué)鄰近 校正處理(optical proximity correction treatment)應(yīng)用至(J通過本發(fā)明的過 程所得到的分解圖案。進(jìn)一步，在分解圖案上可以使用基于規(guī)則或基于 模式的OPC處理。在另一個變化例中，除了上面公開的函數(shù)之外，可以使用不同的函 數(shù)來表示分解過程中的核。同樣，重要的是對于函數(shù)中心和與不希望 的間距(要避免的)相對應(yīng)的半徑之間的幅度，該函數(shù)具有不同的符號。圖11是顯示可以執(zhí)行上述圖案分解過程的計算機(jī)系統(tǒng)100的框圖。 計算機(jī)系統(tǒng)100包括總線102或其它用于傳送信息的通信機(jī)構(gòu)，和與總 線102連接的用于處理信息的處理器104。計算機(jī)系統(tǒng)100還包括主存儲 器106，例如隨機(jī)存取存儲器(RAM)或其它動態(tài)存儲裝置，其連接到 總線102，用于存儲信息以及將由處理器104執(zhí)行的指令。主存儲器106 還可以在將由處理器104執(zhí)行的指令的執(zhí)行過程中用于存儲臨時變量或 其它中間信息。計算機(jī)系統(tǒng)100還包括與總線102連接的只讀存儲器(ROM) 108 或其它靜態(tài)存儲器，用于存儲用于處理器104的靜態(tài)信息和指令。例如 磁盤或光盤之類的存儲裝置110被提供，并與總線102連接，用于存儲 信息和指令。計算機(jī)系統(tǒng)100可經(jīng)由總線102連接至用于顯示信息給計算機(jī)用戶 的顯示器112，例如陰極射線管(CRT)或平板/觸摸面板顯示器。包括字 母數(shù)字和其它鍵的輸入裝置U4連接至總線102，用于將信息和命令選擇 傳達(dá)到處理器104。另一種類型的用戶輸入裝置為光標(biāo)控制116，例如鼠 標(biāo)、軌跡球或光標(biāo)方向鍵，用于將方向信息和命令選擇傳送到處理器104， 并且用于控制光標(biāo)在顯示器12上的移動。所述輸入裝置典型地在兩軸， 第一軸(例如，x)和第二軸(例如，y)中具有兩個自由度，這使得裝置可以在平面中指定位置。觸摸面板(屏幕)顯示器也可用作輸入裝置。 根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，可通過響應(yīng)執(zhí)行包含在主存儲器106中的一個或多個指令的一個或多個序列的處理器104，由計算機(jī)系統(tǒng)100進(jìn)行著 色過程。這樣的指令可從另一個計算機(jī)可讀介質(zhì)，例如存儲裝置110，讀 至主存儲器106。包含在主存儲器106中的指令序列的執(zhí)行使得處理器 104執(zhí)行在此介紹的過程步驟。在多過程布置中的一個或多個處理器也可 用于執(zhí)行包含在主存儲器106中的指令序列。在替代實(shí)施例中，硬接線 電路可用于替代或同軟件指令組合來進(jìn)行本發(fā)明。因此，本發(fā)明的實(shí)施 例不限于硬件電路和軟件的任意特定組合。這里使用的術(shù)語"計算機(jī)可讀介質(zhì)"是指參與提供指令給處理器104 以便執(zhí)行的任何介質(zhì)。這樣的介質(zhì)可以采取多種形式，包括但不限于， 非易失性介質(zhì)、易失性介質(zhì)、和傳輸介質(zhì)。非易失性介質(zhì)包括例如光盤 或磁盤，諸如存儲裝置110所示的那樣。易失性介質(zhì)包括動態(tài)存儲器， 例如主存儲器106。傳輸介質(zhì)包括同軸電纜、銅線和光纖，包括構(gòu)成總線 102的線。傳輸介質(zhì)也可采取聲或光波的形式，例如在射頻(RF)和紅 外(IR)數(shù)據(jù)通信過程產(chǎn)生的那些波。普通形式的計算機(jī)可讀介質(zhì)包括 例如軟盤、柔性盤、硬盤、磁帶、任何其它的磁性介質(zhì)、CD-ROM、 DVD、 任何其它的光學(xué)介質(zhì)、穿孔卡、紙帶、任何其他的具有孔洞圖案的物理 介質(zhì)、RAM、 PROM、和EPROM、 FLASH-EPROM、任何其它的存儲器 芯片或編碼磁帶、下文中介紹的載波，或任何其它的計算機(jī)能從中讀出 數(shù)據(jù)的介質(zhì)。計算機(jī)可讀介質(zhì)的各種形式涉及傳送一個或多個指令的一個或多個 序列給處理器104以執(zhí)行。例如，指令最初放在遠(yuǎn)程計算機(jī)的磁盤上。 該遠(yuǎn)程計算機(jī)可以把指令加載到它的動態(tài)存儲器上，經(jīng)過使用調(diào)制解調(diào) 器的電話線發(fā)送指令。計算機(jī)系統(tǒng)100本地的調(diào)制解調(diào)器可以接收電話 線上的數(shù)據(jù)，使用紅外發(fā)射機(jī)將該數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成紅外信號。連接至總線102 的紅外檢測器可接收由紅外信號承載的數(shù)據(jù)，并將該數(shù)據(jù)放在總線102 上?？偩€102承載數(shù)據(jù)到主存儲器106，由處理器104從主存儲器106取 回并且執(zhí)行指令。在處理器104執(zhí)行前或后，由主存儲器106接收的指 令隨機(jī)地存儲在存儲裝置110上。計算機(jī)系統(tǒng)100也優(yōu)選地包括連接至總線102的通信接口 118。通信 接口 118提供連接至網(wǎng)絡(luò)鏈路120的雙向數(shù)據(jù)通信，其中網(wǎng)絡(luò)鏈路120 連接到本地網(wǎng)122。例如，通信接口 118可以是提供數(shù)據(jù)通信連接到相應(yīng) 類型的電話線的綜合業(yè)務(wù)數(shù)字網(wǎng)絡(luò)(ISDN)卡或調(diào)制解調(diào)器。另一個例 子，通信接口 118可以是局域網(wǎng)(LAN)卡，以為兼容LAN提供數(shù)據(jù)通 信連接。也可以實(shí)施無線鏈路。在任何這樣的實(shí)施過程中，通信接口 118 發(fā)送和接收電、電磁和光信號，這些信號攜帶著表示各類信息的數(shù)字?jǐn)?shù) 據(jù)流。網(wǎng)絡(luò)鏈路120典型地通過一個和多個網(wǎng)絡(luò)向其它數(shù)據(jù)設(shè)備提供數(shù)據(jù) 通信。例如，網(wǎng)絡(luò)鏈路120可通過本地網(wǎng)122提供到主機(jī)124或到由國 際互聯(lián)網(wǎng)接入服務(wù)供應(yīng)商(ISP) 126操作的數(shù)據(jù)裝備的連接。反過來， ISP126通過全球數(shù)據(jù)包通信網(wǎng)絡(luò)(目前普遍稱為"因特網(wǎng)"128)來提供 數(shù)據(jù)通信服務(wù)。本地網(wǎng)122和因特網(wǎng)128都使用運(yùn)載數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)流的電、 電磁和光信號。通過各種網(wǎng)絡(luò)的信號、在網(wǎng)絡(luò)鏈路120上的信號和通過 通信接口 118的信號是傳送信息的載波的典型形式，它們將數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)傳 遞至計算機(jī)系統(tǒng)110或者從計算機(jī)系統(tǒng)100傳出。計算機(jī)系統(tǒng)100可通過網(wǎng)絡(luò)、網(wǎng)絡(luò)鏈路120、和通信接口 118發(fā)送信 息和接收數(shù)據(jù)，包括程序代碼。在互聯(lián)網(wǎng)的例子中，服務(wù)器130可通過 互聯(lián)網(wǎng)128、 ISP126、本地網(wǎng)122和通信接口 118傳輸對應(yīng)應(yīng)用程序的請 求代碼。根據(jù)本發(fā)明， 一個這樣的下載應(yīng)用例如提供實(shí)施例的照射優(yōu)化。 當(dāng)接收時，被接收的代碼可由處理器104執(zhí)行，和/或存儲在存儲裝置110 中，或存儲在其它非易失性存儲器，用于稍后執(zhí)行。如此，計算機(jī)系統(tǒng) 100可獲得載波形式的應(yīng)用代碼。圖12示意地描述了適合與借助于目前發(fā)明設(shè)計的掩模一起使用的光 刻投影設(shè)備。該設(shè)備包括-輻射系統(tǒng)Ex， IL，用于提供輻射投影束PB。在本特殊實(shí)例中，輻 射系統(tǒng)也包括輻射源LA;-第一對象臺(掩模臺)MT，設(shè)置有用于保持掩模MA例如，掩模 版)的掩模保持器，并且連接到用以相對于物體PL準(zhǔn)確地定位掩模的第 一定位裝置；-第二對象臺(襯底臺)WT，設(shè)置有用于保持襯底W (例如，涂覆 抗蝕劑的硅晶片)的襯底保持器，并且連接到用以相對于物體PL準(zhǔn)確地 定位襯底的第二定位裝置；-投影系統(tǒng)("透鏡")PL (例如，折射、反射或反射折射光學(xué)系統(tǒng))， 用于將掩模MA的被照射部分成像在襯底W的目標(biāo)部分C (例如，包括 一個或多個管芯)上。如文中所述，所述設(shè)備是透射型的(transmissivetype)(即，具有透 射掩模)。然而，通常上，例如也可以是反射型的(具有反射掩模)?？?選地，所述設(shè)備可以采用另一種圖案形成裝置作為使用掩模的替代；這 樣的例子包括可編程反射鏡陣列或LCD矩陣。源LA (例如，水銀燈或準(zhǔn)分子激光器)產(chǎn)生輻射束。該輻射束直接 地或在穿過調(diào)整裝置(conditioning means)(例如，擴(kuò)束器Ex)后送入到 照射系統(tǒng)(照射器)IL。照射器IL可包括用于設(shè)定該輻射束中強(qiáng)度分布的外部和/和內(nèi)部徑向范圍(通常分別稱為0-外部和C7-內(nèi)部)的調(diào)節(jié)裝置AM。此外，通常包括各種其它元件，例如積分器IN和聚光器CO。 這樣，照射到掩模MA上的該輻射束PB在橫截面上具有希望的均勻性和 強(qiáng)度分布。應(yīng)該注意到，關(guān)于圖12，源LA可以在光刻投影設(shè)備的外殼內(nèi)(例 如，當(dāng)源LA是水銀燈時一般屬于該情況)，但是也可以是遠(yuǎn)離該光刻投 影設(shè)備，產(chǎn)生的輻射束被引導(dǎo)進(jìn)入該設(shè)備(例如，借助于合適的引導(dǎo)鏡)； 當(dāng)源LA是準(zhǔn)分子激光器(例如，基于KrF、 ArF或F2產(chǎn)生激光)時，采 用后一種情況。目前的本發(fā)明包括這兩種的設(shè)想情況。輻射束PB基本上截斷掩模MA，該掩模保持在掩模臺MT上。穿越 掩模MA后，輻射束PB經(jīng)過透鏡PL，該透鏡將輻射束PB聚集到襯底 W的目標(biāo)部分C上。例如，為了在輻射束PB的路徑中定位不同的目標(biāo) 部分C，借助于第二定位裝置(和干涉測試裝置IF)，襯底臺WT可精確 地移動。類似地，例如，在來自掩模庫的掩模MA的機(jī)械修補(bǔ)之后，或 在掃描期間，第一定位裝置可用于相對于輻射束PB的路徑精確地定位掩 模MA。 一般，對象臺MT、 WT的移動借助于長行程模塊(粗定位)和 短行程模塊(精定位)實(shí)現(xiàn)，圖12中沒有明示出它們。然而，在晶片步進(jìn)器(與步進(jìn)一掃描工具相反)的情況下，掩模臺MT可僅僅連接至短行程致動器，或可以被固定。專用的工具可以用在兩種不同的模式中-在步進(jìn)模式中，掩模臺MT基本保持固定，在一次行進(jìn)中(即，單 "閃")將整個掩模圖像投影到目標(biāo)部分C。然后，沿x和/或y方向移動 襯底臺WT，以便不同的目標(biāo)部分C能由輻射束PB照射到。-在掃描模式中，除了指定目標(biāo)部分C不在單"閃"中曝光外，基本 上應(yīng)用相同的方案。替代地，掩模臺MT在指定方向(也叫"掃描方向"， 例如，y方向)上以速度v移動，以便投影束PB在掩模圖像上進(jìn)行掃描； 同時，襯底臺WT在相同或相反方向上以速度V二Mv同時移動，其中M 是透鏡PL的放大率(典型地，M二l/4或1/5)。這樣，不用犧牲分辨率， 就可以曝光相對較大的目標(biāo)部分C。此外，軟件可以執(zhí)行或幫助完成公 開的概念。涉及包括可執(zhí)行代碼的程序的計算機(jī)系統(tǒng)的軟件功能，可用 于執(zhí)行上述成像模式。軟件代碼由通用計算機(jī)來執(zhí)行。運(yùn)行中，代碼和 可能的相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)記錄存儲在通用計算機(jī)平臺中。然而，其它時候軟 件可存儲在其它的位置和/或被傳輸用于加載到合適的通用計算機(jī)系統(tǒng) 中。因此，上面討論的實(shí)施例涉及采用由至少一個機(jī)器可讀介質(zhì)攜帶的 一個或多個代碼模塊形式的一個或多個軟件產(chǎn)品。通過計算機(jī)系統(tǒng)處理 器執(zhí)行這種代碼，可以使得平臺實(shí)現(xiàn)以大體上在這里討論過和介紹過的 實(shí)施例中執(zhí)行的方式編錄和/或軟件下載功能。如這里使用的，例如計算機(jī)或機(jī)器"可讀介質(zhì)"的術(shù)語是指任何參 與提供指令到處理器用于執(zhí)行的介質(zhì)。這樣的介質(zhì)可采用多種形式，包 括但不限于，非易失性介質(zhì)、易失性介質(zhì)、和傳輸介質(zhì)。非易失性介質(zhì) 包括例如光或磁盤，例如作為上述的服務(wù)平臺之一工作的任何計算機(jī)中 的任何存儲裝置。易失性介質(zhì)包括動態(tài)存儲器，例如這種計算機(jī)平臺的 主存儲器。物理傳輸介質(zhì)包括同軸電纜、銅線和光纖，包括構(gòu)成計算機(jī) 系統(tǒng)中總線的線。載波傳輸介質(zhì)也可采取電或電磁信號、或聲或光波的 形式，例如那些產(chǎn)生于射頻(RF)和紅外(IR)數(shù)據(jù)通信期間的波。普 通形式的計算機(jī)可讀介質(zhì)包括，例如，軟盤、柔性盤、硬盤、磁帶、任 何其它的磁性介質(zhì)、CD-ROM、 DVD、任何其它的光學(xué)介質(zhì)、不常使用的介質(zhì)，例如穿孔卡片、紙帶、任何其它的具有孔洞圖案的物理介質(zhì)、RAM、 PROM、和EPROM、 FLASH-EPROM、任何其它的存儲器芯片或 編碼磁帶、傳輸數(shù)據(jù)或指令的載波、傳輸這種載波的電纜或鏈路，或任 何其它計算機(jī)能從中讀出程序代碼和/或數(shù)據(jù)的介質(zhì)。許多計算機(jī)可讀介 質(zhì)的形式可用于將一個或多個指令的一個或多個序列傳送到處理器，用 于執(zhí)行。盡管已經(jīng)具體的介紹和說明本發(fā)明，但是應(yīng)清楚的理解，這些僅作 為說明和例子而不作為限定，本發(fā)明的范圍僅由所附權(quán)利要求進(jìn)行限定。
權(quán)利要求
1、一種將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案分解成多個圖案的方法，包括步驟(a)限定表示在內(nèi)半徑中為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b)使用多個像素限定所述特征；(c)將所述核設(shè)置在所述多個像素的第一像素上；(d)確定所述核在所述多個像素中每個像素的位置處的值，存儲對應(yīng)所述多個像素中每個像素的所述值，以限定對應(yīng)所述多個像素中每個像素的像素值；(e)將與所述多個像素中的指定像素有關(guān)的預(yù)存儲值同步驟(d)中確定的該指定像素的所述像素值相加；(f)在所述多個像素中的另一像素上設(shè)置所述核，重復(fù)步驟(d)-(f)，直至所述多個像素中的每個像素被處理完；和(g)根據(jù)該指定像素的像素值確定在第一圖案或第二圖案中所述像素的位置。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案 分解的方法，其中，所述外半徑與間距值相對應(yīng)，該間距值小于用于將 所述多個圖案成像的過程的最小間距。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案 分解的方法，其中，當(dāng)在指定像素上設(shè)置所述核時，該核的中心設(shè)置在 所述指定像素上。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案 分解的方法，其中，與所述多個像素中每個像素有關(guān)的值被初始化為零。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案 分解的方法，其中，具有正值的所述像素分配到所述第一圖案，具有負(fù) 值的像素分配到所述第二圖案。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案 分解的方法，其中，指定特征能夠分割為多個部分，所述被分割的特征的第一部分被分配到所述第一圖案，所述被分割的特征的第二部分被分 配到所述第二圖案。
7、 一種存儲用于將包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案分解成多 個圖案的計算機(jī)程序的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，當(dāng)執(zhí)行時，使計算機(jī)實(shí)施以下步驟(a) 限定表示在內(nèi)半徑中為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b) 使用多個像素限定所述特征；(C)在所述多個像素的第一像素上設(shè)置所述核；(d) 確定所述核在所述多個像素中每個像素的位置處的值，存儲對 應(yīng)所述多個像素中每個像素的所述值，以限定所述多個像素中每個像素 的像素值；(e) 將與所述多個像素中的指定像素有關(guān)的預(yù)存儲值同步驟(d) 中確定的該指定像素的所述像素值相加；(f) 在所述多個像素中的另一像素上設(shè)置核，重復(fù)步驟(d) - (f)， 直至所述多個像素中的每個像素被處理；和(g) 根據(jù)該指定像素的像素值確定在第一圖案或第二圖案中所述像 素的位置。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其中，所述外半徑對應(yīng) 于間距值，該間距值小于用于將所述多個圖案成像的過程的最小間距。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其中，當(dāng)在指定像素上 設(shè)置所述核時，該核的中心設(shè)置在所述指定像素上。
10、 根據(jù)權(quán)利要求7的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其中，與所述多個像 素中每個像素有關(guān)的值被初始化為零。
11、 根據(jù)權(quán)利要求7的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其中，具有正值的所 述像素分配到所述第一圖案，具有負(fù)值的像素分配到所述第二圖案。
12、 根據(jù)權(quán)利要求7的計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其中，指定特征能夠 被分割為多個部分，所述被分割的特征的第一部分被分配到所述第一圖 案，所述被分割的特征的第二部分被分配到所述第二圖案。
13、 一種器件制造方法，包括步驟(a)限定表示在內(nèi)半徑中為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b) 使用多個像素限定所述特征；(c) 在所述多個像素的第一像素上設(shè)置所述核；(d) 確定所述核在所述多個像素中每個像素的位置處的值，存儲所 述多個像素中每個像素的所述值，以限定所述多個像素中每個像素的像 素值；(e) 將與所述多個像素中的指定像素有關(guān)的預(yù)存儲值同步驟(d) 中確定的該指定像素的所述像素值相加；(f) 在所述多個像素中的另一像素上設(shè)置所述核，重復(fù)步驟(d)-(f)，直至所述多個像素中的每個像素被處理；和(g) 根據(jù)該指定像素的像素值確定在第一圖案或第二圖案中所述像 素的位置。
14、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的器件制造方法，其中，所述外半徑對應(yīng) 于間距值，該間距值小于用于將所述多個圖案成像的過程的最小間距。
15、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的器件制造方法，其中，當(dāng)在指定像素上 設(shè)置所述核時，該核的中心設(shè)置在所述指定像素上。
16、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的器件制造方法，其中，與所述多個像素中每個像素有關(guān)的值被初始化為零。
17、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的器件制造方法，其中，具有正值的所述像素分配到所述第一圖案，具有負(fù)值的像素分配到所述第二圖案。
18、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的器件制造方法，其中，指定特征可被分 割為多個部分，所述被分割的特征的第一部分被分配到所述第一圖案， 所述被分割的特征的第二部分被分配到所述第二圖案。
19、 一種產(chǎn)生在光刻過程中使用的掩模的方法，所述方法包括步驟:(a) 限定表示在內(nèi)半徑中為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b) 使用多個像素限定所述特征；(c) 在所述多個像素的第一像素上設(shè)置所述核；(d) 確定所述核在所述多個像素中每個像素的位置處的值，存儲所 述多個像素中每個像素的所述值，以限定所述多個像素中每個像素的像 素值；(e) 將與所述多個像素中的指定像素有關(guān)的預(yù)存儲值同步驟(d)中確定的該指定像素的所述像素值相加；(f) 在所述多個像素中的另一像素上設(shè)置所述核，重復(fù)步驟(d)-(f)，直至所述多個像素中的每個像素被處理；(g) 根據(jù)該指定像素的像素值確定在第一圖案或第二圖案中所述像 素的位置；和(h) 產(chǎn)生對應(yīng)于所述第一圖案的第一掩模，和對應(yīng)于所述第二圖案 的第二掩模。
20、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的產(chǎn)生掩模的方法，其中，所述外半徑對 應(yīng)于間距值，該間距值小于用于將所述多個圖案成像的過程的最小間距。
21、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的產(chǎn)生掩模的方法，其中，當(dāng)在指定像素 上設(shè)置所述核時，該核的中心設(shè)置在所述指定像素上。
22、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的產(chǎn)生掩模的方法，其中，與所述多個像素中每個像素有關(guān)的值被初始化為零。
23、 根據(jù)權(quán)利要求19所述的產(chǎn)生掩模的方法，其中，具有正值的所述像素分配到所述第一圖案，具有負(fù)值的像素分配到所述第二圖案。
全文摘要
公開了一種分解包含待印刷在晶片上的特征的目標(biāo)圖案的方法，包括步驟(a)限定表示在內(nèi)半徑中為正值和在外半徑中為負(fù)值的函數(shù)的核；(b)使用多個像素限定所述特征；(c)在多個像素的第一像素上設(shè)置所述核；(d)確定所述核在所述多個像素中每個像素的位置處的值，存儲所述多個像素中每個像素的所述值，以限定所述多個像素中每個像素的像素值；(e)將與所述多個像素中的指定像素有關(guān)的預(yù)存儲值同步驟(d)中確定的該指定像素的所述像素值相加；(f)在所述多個像素中的另一像素上設(shè)置所述核，重復(fù)步驟(d)-(f)直至所述多個像素中的每個像素被處理；和(g)根據(jù)該指定像素的像素值確定在第一圖案或第二圖案中所述像素的位置。
文檔編號G06F17/50GK101271483SQ200710199970
公開日2008年9月24日 申請日期2007年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月13日
發(fā)明者樸正哲 申請人:Asml蒙片工具有限公司