專利名稱：印章核對裝置、印章核對方法及印章核對程序的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將核對對象的印跡作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對的印章核對裝置、印章核對方法及印章核對程序，更詳細地說，涉及當(dāng)重疊了類似的核對印跡圖像與登記印跡圖像時，能夠高效地發(fā)現(xiàn)差異部分并進行核對的印章核對裝置、印章核對方法及印章核對程序。
背景技術(shù)：
迄今，為了使在銀行等中進行的印章核對實現(xiàn)自動化，已設(shè)計出一種印章核對裝置。
所述印章核對裝置通過將從掃描儀等輸入裝置讀入的印章的核對印跡圖像和預(yù)先登記的登記印跡圖像進行比較，能夠自動判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否是從同一個印章得到的印跡。
在所述現(xiàn)有的印章核對裝置中所使用的具體方法之一是利用向量計算進行印章核對(例如，參照專利文獻1)。所述專利文獻1中所公開的印章核對裝置從核對印跡圖像及登記印跡圖像分別形成濃度圖像(濃淡畫像)，并根據(jù)該濃度圖像的濃度值來進行向量計算，算出核對率，從而使得不容易受位置偏移或者印跡模糊等的影響。
此外，在專利文獻2所公開的印章核對裝置中，為了防止核對印跡圖像與登記印跡圖像之間的位置偏移等，將各個圖像分割成多個塊，按每個塊形成相關(guān)圖像之后，只向具有所述相關(guān)圖像的極大值的像素以及所述像素的鄰近像素賦予像素值來形成插值極大值圖像，并關(guān)于各塊相加所述插值極大值圖像來形成累積值圖像，從而根據(jù)所述累積值圖像來核對印章。
專利文獻1日本專利特開2001-202514號公報專利文獻2日本專利特開平9-288734號公報然而，由于現(xiàn)有的印章核對裝置著眼于整體的差異量，因此在局部差異的情況下就無法進行正確的判斷。具體地說，當(dāng)重疊了核對印跡圖像與登記印跡圖像的時候，在局部存在較大的差異量時，在基于整體的差異量來進行判斷的以往的印章核對裝置中，即使局部差異量很大，也由于整體的差異量小，從而會作出核對印跡圖像與登記印跡圖像一致的錯誤判斷。
即，在現(xiàn)有的印章核對裝置中存在印章核對精度低的問題，因此目前非常重要的課題是實現(xiàn)對局部差異的印跡的正確判斷，并提高核對精度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了消除上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷、并解決研究課題而作出的，其目的在于，提供一種通過檢測局部差異來提高核對精度的印章核對裝置、印章核對方法以及印章核對程序。
與本發(fā)明第一方面相關(guān)的印章核對裝置將核對對象的印跡作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測部件，檢測所述重疊圖像中的所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算部分，算出表示所述差異部分的局部特征的特征量；判斷部件，根據(jù)由所述特征量計算部件算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
根據(jù)本發(fā)明第一方面的發(fā)明，印章核對裝置形成核對印跡圖像與登記印跡圖像之間的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)算出的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致。
此外，與本發(fā)明第二方面相關(guān)的印章核對裝置的特征在于，在本發(fā)明第一方面的發(fā)明中，所述特征量計算部件將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，算出各區(qū)域中所述差異部分的像素數(shù)，并依次算出將所述像素數(shù)除以所述區(qū)域中所包含的全部像素數(shù)的差異比例，將所述算出的差異比例作為所述特征量。
根據(jù)本發(fā)明第二方面的發(fā)明，印章核對裝置將重疊圖像分割成多個區(qū)域并算出各區(qū)域內(nèi)差異部分的像素數(shù)，進行依次算出差異比例的掩模(mask)圖案處理，其中，所述差異比例是通過將像素數(shù)除以各區(qū)域內(nèi)的全部像素數(shù)從而得到的。
此外，與本發(fā)明第三方面相關(guān)的印章核對裝置的特征在于，在權(quán)利要求1的發(fā)明中，所述特征量計算部件從所述差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，并將所述差異形狀的面積值作為所述特征量來輸出。
根據(jù)本發(fā)明第三方面的發(fā)明，印章核對裝置從重疊圖像檢測出差異部分，從差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，從而以差異形狀的面積為基礎(chǔ)來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致。
此外，與本發(fā)明第四方面相關(guān)的印章核對方法將核對對象的印跡作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)該重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測步驟，檢測所述重疊圖像中的所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算步驟，計算表示所述差異部分的局部特征的特征量；判斷步驟，根據(jù)由所述特征量計算步驟算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
根據(jù)本發(fā)明第四方面的發(fā)明，印章核對方法形成核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)算出的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致。
此外，與本發(fā)明第五方面相關(guān)的印章核對程序?qū)⒑藢ο蟮挠≯E作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測過程，檢測所述重疊圖像中所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算過程，算出表示所述差異部分的局部特征的特征量；判斷過程，根據(jù)由所述特征量計算步驟算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
根據(jù)本發(fā)明第五方面的發(fā)明，印章核對程序形成核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)算出的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致。
根據(jù)本發(fā)明第一方面的發(fā)明，印章核對裝置形成核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)檢測到的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致，因此，可獲得通過有效檢測出局部差異來高精度地進行核對的印章核對裝置。
此外，根據(jù)本發(fā)明第二方面的發(fā)明，印章核對裝置進行掩模圖案處理，即，將重疊圖像分割成多個區(qū)域來算出各區(qū)域中差異部分的像素數(shù)，并依次算出將像素數(shù)除以各區(qū)域內(nèi)的所有像素數(shù)而獲得差異比例，因此，可獲得通過有效檢測出局部差異來高精度地進行核對的印章核對裝置。
此外，根據(jù)本發(fā)明第三方面的發(fā)明，印章核對裝置從重疊圖像部分檢測出差異部分，從差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，并以差異形狀的面積為基礎(chǔ)來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致，因此，可獲得通過有效檢測出局部差異來高精度地進行核對的印章核對裝置。
此外，根據(jù)本發(fā)明第四方面的發(fā)明，印章核對方法形成核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)算出的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否一致，因此，可獲得通過有效檢測出局部差異來高精度地進行核對的印章核對方法。
此外，根據(jù)本發(fā)明第五方面的發(fā)明，印章核對程序形成核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像，在重疊圖像中檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的差異部分，從檢測到的差異部分算出表示局部特征的特征量，并根據(jù)算出的特征量來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像是否相一致，因此，可獲得通過有效檢測出局部差異來高精度地進行核對的印章核對程序。


圖1是表示本發(fā)明實施例一中的印章核對裝置簡要結(jié)構(gòu)的簡要結(jié)構(gòu)圖。
圖2是在印章核對中所使用的圖像的具體例子的說明圖。
圖3是圖1所示的掩模內(nèi)不一致處檢測部分的處理說明圖。
圖4是圖1所示的差異比例計算部分的處理說明圖。
圖5是說明圖1所示的印章核對裝置的處理動作的流程圖。
圖6是計算差異比例超過規(guī)定值的次數(shù)并根據(jù)所述結(jié)果進行印章核對時的處理動作流程圖。
圖7是說明本發(fā)明實施例二中的印章核對裝置的簡要結(jié)構(gòu)的簡要結(jié)構(gòu)圖。
圖8是根據(jù)圖7所示的差異檢測部分的處理說明圖。
圖9是掩模內(nèi)所包含的核對印跡不一致部分及登記印跡不一致部分的具體例子示意圖。
圖10是圖7所示的印章核對裝置20的處理動作流程圖。
圖11是本發(fā)明實施例三中的印章核對裝置70的簡要結(jié)構(gòu)說明圖。
圖12是使用平滑處理的核對處理的概念說明圖。
圖13是說明圖11所示的印章核對裝置的處理動作的流程圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖，詳細說明本發(fā)明印章核對裝置、印章核對方法以及印章核對程序的適宜的實施方式。
首先說明本發(fā)明實施例一中的印章核對的概念。實施例一所示的印章核對裝置在形成重疊圖像之后，通過對重疊圖像進行掩模圖案處理來檢測出局部差異，其中，所述重疊圖像是重疊作為印章核對對象的核對印跡圖像和預(yù)先登記好的登記印跡圖像而形成的。
圖1是表示本發(fā)明實施例一中的印章核對裝置簡要結(jié)構(gòu)的簡要結(jié)構(gòu)圖。如該圖所示，印章核對裝置1連接在掃描儀2以及顯示器15上，將利用掃描儀2引入的印跡圖像和預(yù)先登記在印章核對裝置1中的印跡圖像進行比較，并將比較結(jié)果顯示在顯示器15上。
這里，印章核對裝置1在其內(nèi)部具有輸入部分3、預(yù)處理部分4、重疊處理部分5、登記圖像存儲部分6、差異檢測部分7、判斷部分8、掩模圖案處理部分9以及輸出部分10。
輸入部分3讀入由掃描儀2引入的作為核對對象的印章的印跡圖像，并將讀入的印跡圖像輸出到預(yù)處理部分4中。預(yù)處理部分4對輸入的圖像進行印跡部分的剪切處理，生成如圖2所示的核對印跡圖像50。并且，預(yù)處理部分4將生成的核對印跡圖像50輸出到重疊處理部分5中。
登記圖像存儲部分6將預(yù)先登記的印跡圖像作為登記印跡圖像存儲。
當(dāng)從預(yù)處理部分4輸入了核對印跡圖像50時，重疊處理部分5從登記圖像存儲部分6中讀取與輸入的核對印跡圖像50相對應(yīng)的登記印跡圖像51，并形成重疊了核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的重疊圖像52。
差異檢測部分7在其內(nèi)部具有一致處檢測部分7a以及不一致處檢測部分7b。一致處檢測部分7a進行從重疊圖像52剪切核對印跡圖像50與登記印跡圖像51一致的一致部分53的處理。此外，不一致處檢測部分7b進行從重疊圖像52剪切核對印跡圖像50與登記印跡圖像51有差異的不一致部分54的處理。
判斷部分8將通過差異檢測部分7剪切的一致部分53以及不一致部分54為基礎(chǔ)，進行判斷核對印跡圖像50與登記印跡圖像51是否一致的處理。具體地說，判斷部分8在其內(nèi)部具有一致率計算部分8a以及一致處消除部分8b。
一致率計算部分8a從一致部分53算出一致像素數(shù)，同時從不一致部分54算出不一致像素數(shù)。而且，一致率計算部分8a將一致像素數(shù)除以相加一致像素數(shù)與不一致像素數(shù)而得到的相加值，算出一致率。即，所述一致率是表示一致部分在印跡整體中的比率的值。當(dāng)所述一致率不足規(guī)定值時，判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像51不一致的判斷，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果輸出到顯示器15上。
另一方面，如果一致率為規(guī)定值以上，則一致處消除部分8b從重疊圖像52消除由一致處檢測部分8剪切的一致部分53，生成如圖2所示的不一致圖像55，輸出到掩模圖案處理部分9中。
掩模圖案處理部分9在其內(nèi)部具有掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a以及差異比例計算部分9b。掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a進行如下處理，即，對不一致圖像55設(shè)定恒定大小的掩模，依次移動所述掩模的位置并計算各掩模位置中不一致圖像55的像素數(shù)。此外，差異比例計算部分9b算出差異比例，并將其輸出到判斷部分8中，其中，所述差異比例是將由掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a檢測到的像素數(shù)除以掩模66內(nèi)所包含的全部像素數(shù)而得到的。
即，差異比例是表示恒定掩模內(nèi)不一致部分的大小的值。
若該值很大，則表示差異集中存在于該掩模位置。判斷部分8以該差異比例為基礎(chǔ)，再次判斷核對印跡圖像50與登記印跡圖像51是否一致，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上。
這里，舉出具體例子來說明掩模圖案處理部分9的掩模圖案處理。圖3是掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a的處理說明圖，圖4是差異比例計算部分9b的處理說明圖。如圖3所示，掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a針對不一致圖像55設(shè)定規(guī)定大小的掩模66，并計算掩模內(nèi)的像素數(shù)。如果掩模內(nèi)的像素數(shù)的計算結(jié)束，則如圖3所示，掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a依次橫向移動掩模位置，并計算各掩模內(nèi)的像素數(shù)。
并且，如果掩模的橫向移動結(jié)束，則掩模內(nèi)不一致處檢測部分9a如圖3所示將掩模位置向縱向偏移后，重復(fù)進行相同的處理。這樣，通過橫向及縱向依次移動掩模位置，能夠?qū)τ谡麄€不一致圖像55檢測出局部差異。
另外，如圖4所示，差異比例計算部分9b通過將掩模內(nèi)不一致像素67的個數(shù)除以掩模66中所包含的所有像素數(shù)來算出不一致比例。在圖4中，由于掩模66的大小為每邊12像素，因此，整個掩模66的像素數(shù)為144像素。另一方面，掩模66中所包含的不一致像素的個數(shù)為84像素，所以差異比例從84/144得到為58％。
接著，對印章核對裝置1的處理動作進行說明。圖5是說明印章核對裝置1的處理動作的流程圖。如該圖所示，如果輸入部分3引入了由掃描儀2讀取的印章的印跡圖像(步驟S101)，則預(yù)處理部分4進行輸入的印跡圖像的印跡區(qū)域的剪切處理，并將生成的核對印跡圖像50輸出到重疊處理部分5中(步驟S102)。
之后，重疊處理部分5選擇與輸入的印跡圖像50相對應(yīng)的登記印跡圖像51(步驟S103)，生成重疊了核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的重疊圖像52(步驟S104)。接著，差異檢測部分7進行一致部分53以及不一致部分54的剪切(步驟S105)。
然后，判斷部分8從一致部分53以及不一致部分54算出一致率，進行一致率與規(guī)定值的比較(步驟S106)。當(dāng)一致率不足規(guī)定值時(步驟S106，否)，判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像51不一致的判斷，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S107)，結(jié)束處理。
另一方面，當(dāng)一致率為規(guī)定值以上時(步驟S106，是)，一致處消除部分8b從重疊圖像52消除一致部分53從而形成不一致圖像55，并輸出到掩模圖案處理部分9中(步驟S108)。進而，掩模圖案處理部分9針對不一致圖像55設(shè)定掩模66，計算掩模66內(nèi)的不一致像素(步驟S109)，算出差異比例并將其輸出到判斷部分8中(步驟S110)。
如果差異比例為規(guī)定值以上(步驟S111，是)，則判斷部分8判斷核對印跡圖像50與登記印跡圖像51不一致，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S107)，結(jié)束處理。
另一方面，如果差異比例不足規(guī)定值(步驟S111，否)，則掩模圖案處理部分9判斷對于不一致圖像55全部范圍的差異比例的計算是否結(jié)束(步驟S112)，當(dāng)差異比例的計算還沒有結(jié)束時(步驟S112，否)，移動掩模66的位置(步驟S113)，計算不一致像素數(shù)(步驟S109)。
與此相反，如果對于不一致圖像55全部范圍的差異比例的計算結(jié)束(步驟S112，是)，則判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像51一致的判斷，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S114)，結(jié)束處理。
如此，從核對印跡圖像50及登記印跡圖像51形成不一致圖像55，對不一致圖像55進行掩模圖案處理，從而能夠檢測核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的局部差異來正確地判斷核對印跡圖像50與登記印跡圖像51是否一致。
然而，在圖5所示的處理流程中，只要檢測到一次差異比例為規(guī)定值以上時就判斷印跡不一致，但是，例如也可以在檢測到差異比例為規(guī)定值以上的次數(shù)超過預(yù)先設(shè)定的次數(shù)時，判斷為不一致。
在圖6中示出了計算差異比例為規(guī)定值以上的次數(shù)并根據(jù)該計算結(jié)果來進行印章核對時的處理動作。如該圖所示，如果輸入部分3引入了由掃描儀2讀取的印章的印跡圖像(步驟S201)，則預(yù)處理部分4進行輸入的印跡圖像的印跡區(qū)域的剪切處理，并將生成的核對印跡圖像50輸出到重疊處理部分5中(步驟S202)。
然后，重疊處理部分5選擇與輸入的核對印跡圖像50相對應(yīng)的登記印跡圖像51(步驟S203)，生成重疊了核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的重疊圖像52(步驟S204)。接著，差異檢測部分7進行一致部分53及不一致部分54的剪切(步驟S205)。
然后，判斷部分8從一致部分53及不一致部分54算出一致率，進行一致率與規(guī)定值的比較(步驟S206)。當(dāng)一致率不足規(guī)定值時(步驟S206，否)，判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像51為不一致的判斷，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S207)，結(jié)束處理。
另一方面，當(dāng)一致率為規(guī)定值以上時(步驟S206，是)，一致處消除部分8b從重疊圖像52消除一致部分53從而形成不一致圖像55，并將其輸出到掩模圖案處理部分9中(步驟S208)。另外，掩模圖案處理部分9針對不一致圖像55設(shè)定掩模66，并計算掩模66內(nèi)的不一致像素數(shù)(步驟S209)，從而算出差異比例并將其輸出到判斷部分8中(步驟S210)。
如果差異比例為規(guī)定值以上，則判斷部分8確認差異比例超過規(guī)定值的次數(shù)(步驟S212)。如果差異比例超過規(guī)定值的次數(shù)達到了n次(步驟S212，是)，則判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像51不一致的判斷，并將判斷結(jié)果通過輸出部分10顯示在顯示器15上(步驟S207)，結(jié)束處理。
另一方面，當(dāng)差異比例不足規(guī)定值(步驟S211，否)或者差異比例超過規(guī)定值的次數(shù)不足n次(步驟S212，否)時，掩模圖案處理部分9判斷對于不一致圖像55全部范圍的差異比例的計算是否已結(jié)束(步驟S213)。當(dāng)差異比例的計算沒有結(jié)束時(步驟S213，否)，掩模圖案處理部分9移動掩模66的位置(步驟S214)，計算不一致像素數(shù)(步驟S209)。
與此相對，如果對于不一致圖像55全部范圍的差異比例的計算結(jié)束了(步驟S213，是)，則判斷部分8作出核對印跡圖像50與登記印跡圖像5 1相一致的判斷，并通過輸出部分10將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S215)，結(jié)束處理。
如上所述，在本實施例一的印章核對裝置1中，從核對印跡圖像50以及登記印跡圖像51形成不一致圖像55，對不一致圖像55進行掩模圖案處理，從而檢測核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的局部差異。因此，即使在核對印跡圖像50與登記印跡圖像51的整體一致率很高的情況下，也可以高精度地檢測出局部差異，從而能夠提高印跡的核對精度。
(實施例二)接著，對本發(fā)明的實施例二進行說明。在本實施例二中，當(dāng)檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像的差異時，通過識別核對印跡圖像相對于登記印跡圖像的差異以及登記印跡圖像相對于核對印跡圖像的差異來判斷整體的一致和不一致。
圖7是用于說明本發(fā)明實施例二中的印章核對裝置20的簡要結(jié)構(gòu)的簡要結(jié)構(gòu)圖。如該圖所示，在印章核對裝置20中，差異檢測部分21具有一致處檢測部分21a、核對印跡不一致處檢測部分21b以及登記印跡不一致處檢測部分21c。
此外，掩模圖案處理部分23具有掩模內(nèi)核對印跡不一致處檢測部分23a、掩模內(nèi)登記印跡不一致處檢測部分23b以及比率比例計算部分23c。由于其他部分的結(jié)構(gòu)及動作與實施例一中所示的印章核對裝置1相同，因此對相同的構(gòu)成部分標(biāo)注相同的標(biāo)號并省略說明。
首先，對差異檢測部分21的處理進行說明。圖8是差異檢測部分21的處理說明圖。當(dāng)由重疊處理部分5輸出重疊了核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像60時，一致處檢測部分21a進行剪切核對印跡圖像與登記印跡圖像相一致的部分即一致部分61的處理。
另一方面，核對印跡不一致處檢測部分21b進行從重疊圖像60剪切核對印跡圖像相對于印跡圖像有差異的部分即核對印跡不一致部分62的處理。此外，核對印跡不一致處檢測部分21c進行從重疊圖像60剪切登記印跡圖像相對于核對印跡圖像有差異的部分即登記印跡不一致部分63的處理。
當(dāng)掩模圖案處理部分23對不一致圖像進行掩模圖案處理時，對掩模內(nèi)所包含的核對印跡不一致部分62的像素數(shù)與登記印跡不一致部分63的像素數(shù)進行比較。圖9是掩模內(nèi)所包含的核對印跡不一致部分62及登記印跡不一致部分63的具體例子示意圖。
掩模內(nèi)核對印跡不一致處檢測部分23a計算掩模64內(nèi)所包含的核對印跡不一致部分62的像素數(shù)，并將其作為核對印跡不一致像素數(shù)62a輸出。此外，掩模內(nèi)登記印跡不一致處檢測部分23b計算掩模64內(nèi)所包含的登記印跡不一致部分63的像素數(shù)，并將其作為登記印跡不一致像素數(shù)63a輸出。
另一方面，比率比例計算部分23c計算核對印跡不一致像素數(shù)62a與登記印跡不一致像素數(shù)63a之差的絕對值，進而將算出的差絕對值除以核對印跡不一致像素數(shù)62a與登記印跡不一致像素數(shù)63a之和，并將得到的值作為比率比例。
所述比率比例的分母(核對印跡不一致像素數(shù)62a與登記印跡不一致像素數(shù)63a之和)是掩模64的內(nèi)部存在的不一致部分的總量，不一致部分越大該值就越大。并且，核對印跡不一致像素數(shù)62a越接近登記印跡不一致像素數(shù)63a，比率比例的分子(核對印跡不一致像素數(shù)62a與登記印跡不一致像素數(shù)63a之差的絕對值)所取的值就越小。
因此，不一致部分越是集中于核對印跡不一致部分62與登記印跡不一致像素數(shù)63中的一個上，比率比例所取的值就越大，它是表示不一致的偏倚指標(biāo)。
利用所述比率比例，可以嚴格地區(qū)別掩模內(nèi)存在的差異是由核對印跡圖像的偏移、字跡模糊、污染等導(dǎo)致的，還是由核對印跡圖像與登記印跡圖像之間的形狀差別而導(dǎo)致的。
例如，當(dāng)核對印跡圖像的形狀與登記印跡圖像的形狀不同時，就會分別產(chǎn)生核對印跡圖像相對于登記印跡圖像的差異和登記印跡圖像相對于核對印跡圖像的差異。其結(jié)果比率比例的值變小。
另一方面，當(dāng)核對印跡圖像產(chǎn)生了偏移、字跡模糊、污染等時，就會顯著地產(chǎn)生核對印跡圖像相對于登記印跡圖像的差異、和登記印跡圖像相對于核對印跡圖像的差異中的某一個。其結(jié)果比率比例取較大值。
因此，通過從核對印跡圖像以及登記印跡圖像算出比率比例，并基于該數(shù)值來判斷印跡整體的一致和不一致，由此，可以嚴格地區(qū)別開由印跡的模糊或污染等所導(dǎo)致的差異和由印跡的形狀差別所導(dǎo)致的差異，從而能夠檢測出局部形狀差異來進行核對。
接著，說明印章核對裝置20的處理動作。圖10是用于說明印章核對裝置20的處理動作的流程圖。如該圖所示，如果輸入部分3引入了由掃描儀2讀取的印章的印跡圖像(步驟S301)，則預(yù)處理部分4進行印跡圖像的印跡區(qū)域的剪切處理，并將生成的核對印跡圖像輸出到重疊處理部分5中(步驟S302)。
然后，重疊處理部分5選擇與輸入的核對印跡圖像相對應(yīng)的登記印跡圖像(步驟S303)，生成重疊了核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像60(步驟S304)。接著，差異檢測部分21進行一致部分61、核對印跡不一致部分62以及登記印跡不一致部分63的剪切(步驟S305)。
然后，判斷部分8從一致部分61、核對印跡不一致部分62以及登記印跡不一致部分63算出一致率，并進行一致率與規(guī)定值的比較(步驟S306)。當(dāng)一致率不足規(guī)定值時(步驟S306，否)，判斷部分8作出核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S307)，結(jié)束處理。
另一方面，當(dāng)一致率為規(guī)定值以上時(步驟S306，是)，一致處消除部分8b從重疊圖像60消除一致部分61從而形成不一致圖像，并將其輸出到掩模圖案處理部分23中(步驟S308)。進而，掩模圖案處理部分23針對不一致圖像設(shè)定掩模64，并計算掩模64內(nèi)的核對印跡不一致像素數(shù)62a(步驟S309)，同時計算掩模64內(nèi)的登記印跡不一致像素數(shù)63a(步驟S310)。
然后，比率比例計算部分23c從核對印跡不一致像素數(shù)62a以及登記印跡不一致像素數(shù)63a算出比率比例，輸出到判斷部分8中(步驟S311)。
如果比率比例為規(guī)定值以下(步驟S312，是)，則判斷部分8作出核對印跡圖像與登記印跡圖像不一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S307)，結(jié)束處理。
另一方面，如果比率比例大于規(guī)定值(步驟S312，否)，則掩模圖案處理部分23判斷對于不一致圖像全部范圍的比率比例的計算是否結(jié)束(步驟S313)，當(dāng)比率比例的計算還沒有結(jié)束時(步驟S313，否)，移動掩模的位置(步驟S314)，計算核對印跡不一致像素數(shù)62a(步驟S309)。
與此相反，如果對于不一致圖像全部范圍的比率比例的計算已經(jīng)結(jié)束(步驟S313，是)，則判斷部分8作出核對印跡圖像與登記印跡圖像相一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S315)，結(jié)束處理。
如上所述，在所述實施例二的印章核對裝置20中，從重疊了核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像檢測出核對印跡圖像相對于登記印跡圖像的差異、和登記印跡圖像相對于核對印跡圖像的差異，并在進行掩模圖案處理時利用作為不一致的偏倚指標(biāo)的比率比例，由此檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像之間的局部形狀差異。
因此，即使在核對印跡圖像存在偏移、模糊、污染等的情況下，也可以嚴格地區(qū)別開由印跡模糊等導(dǎo)致的差異和由形狀差別導(dǎo)致的差異，從而可提高印跡的核對精度。
另外，在所述實施例二中，在掩模圖案處理中只有檢測到一次比率比例為規(guī)定值以下，就判斷印跡不一致，但是與實施例一所示的差異比例的情況一樣，當(dāng)然也可以在檢測到比率比例為規(guī)定值以下的次數(shù)超過預(yù)先設(shè)定的次數(shù)時，判斷其不一致。
此外，在實施例一及實施例二中，在進行掩模圖案處理時，對于各個掩模位置都進行了差異比例或者比率比例的值與規(guī)定值的比較，并且在差異比例的值為規(guī)定值以上時、或者在比率比例為規(guī)定以下時結(jié)束了處理，但是本發(fā)明并不局限于此，例如也可以對不一致圖像整體進行掩模圖案處理，并將差異比例的最大值或者比率比例的最小值與規(guī)定值進行比較。
另外，實施例一所示的差異比例和實施例二所示的比率比例不必一定要單獨使用，當(dāng)然也可以同時使用差異比例與比率比例來進行核對。
(實施例三)下面，說明對本發(fā)明實施例三。在上述實施例一及實施例二中，通過掩模圖案處理來檢測核對印跡圖像與登記印跡圖像之間的局部差異，但是在本實施例三中，將說明利用平滑處理來檢測局部差異的印章核對裝置。
圖11是本發(fā)明實施例三中的印章核對裝置70的簡要結(jié)構(gòu)說明圖。如該圖所示，印章核對裝置70在判斷部分71的內(nèi)部除了具有一致率計算部分71a和一致處消除部分71b之外，還具有平滑處理部分71c，而沒有掩模圖案處理部分。由于其他部分的結(jié)構(gòu)及動作與實施例一所示的印章核對裝置1相同，因此對相同的構(gòu)成部分標(biāo)注相同的標(biāo)號并省略說明。
參照圖12來說明根據(jù)所述印章核對裝置70的核對處理的概念。如圖12所示，印章核對裝置70首先形成重疊了核對印跡圖像80與登記印跡圖像81的重疊圖像82。重疊圖像82具有一致部分83與不一致部分84，因此，可通過從重疊圖像82消除一致部分83來獲得不一致圖像85。
進而，如果對不一致圖像85進行平滑處理，則細微的差異將被消除，從而只剩下較大的不一致部分(被平滑的不一致部分86)。因此，通過求出所述平滑處理后的被平滑的不一致部分86的大小(面積)，并將被平滑的不一致部分86的大小與規(guī)定值進行比較，可以根據(jù)核對印跡圖像80與登記印跡圖像81之間的局部差異來進行核對。
下面，說明印章核對裝置70的處理動作。圖13是說明印章核對裝置70的處理動作的流程圖。如該圖所示，如果輸入部分3引入了由掃描儀2讀取的印章的印跡圖像(步驟S401)，則預(yù)處理部分4進行輸入的印跡圖像的印跡區(qū)域的剪切處理，并將生成的核對印跡圖像80輸出到重疊處理部分5中(步驟S402)。
然后，重疊處理部分5選擇與輸入的核對印跡圖像80相對應(yīng)的登記印跡圖像81(步驟S403)，并生成重疊了核對印跡圖像80與登記印跡圖像81的重疊圖像82(步驟S404)。接著，差異檢測部分7進行重疊圖像82中一致部分83及不一致部分84的剪切處理(步驟S405)。
然后，判斷部分71從一致部分83及不一致部分84算出一致率，并進行一致率與規(guī)定值的比較(步驟S406)。當(dāng)一致率不足規(guī)定值時(步驟S406，否)，判斷部分71作出核對印跡圖像80與登記印跡圖像81不一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S407)，結(jié)束處理。
另一方面，當(dāng)一致率超過規(guī)定值時(步驟S406，是)，一致處消除部分71b從重疊圖像82消除一致部分83從而形成不一致圖像85(步驟S408)。平滑處理部分71c對所述不一致圖像85進行平滑處理，形成被平滑的不一致部分86(步驟S409)。之后，判斷部分71算出被平滑的不一致部分86的大小，并將算出的大小值與規(guī)定值進行比較(步驟S411)。
如果被平滑的不一致部分86的大小為規(guī)定值以上(步驟S411，是)，則判斷部分71作出核對印跡圖像80與登記印跡圖像81不一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S407)，結(jié)束處理。
另一方面，如果被平滑的不一致部分86的大小不足規(guī)定值(步驟S411，否)，則判斷部分71作出核對印跡圖像80與登記印跡圖像81相一致的判斷，并通過輸出部分14將判斷結(jié)果顯示在顯示器15上(步驟S412)，結(jié)束處理。
另外，當(dāng)通過平滑處理而獲得了多個被平滑的不一致部分時，既可以算出各個被平滑的不一致部分的大小并將算出的大小的最大值與規(guī)定值進行比較，也可以將被平滑的不一致部分的大小的合計值與規(guī)定值進行比較。
如上所述，在所述實施例三的印章核對裝置70中，從核對印跡圖像80及登記印跡圖像81形成不一致圖像85，并對不一致圖像85進行平滑處理，由此檢測出核對印跡圖像80與登記印跡圖像81之間的局部差異。
因此，即使在核對印跡圖像80與登記印跡圖像81的整體一致率較高的情況、或者在細微差異較多的情況下，也能夠高精度地檢測出局部差異，從而能夠提高印跡的核對精度。此外，由于可通過相對于圖像整體的處理來檢測局部差異，所以能夠簡化裝置結(jié)構(gòu)，減少處理工作量。
另外，在上述實施例一、實施例二及實施例三中，作為核對結(jié)果輸出“一致”、“不一致”中的任一個，但是本發(fā)明的應(yīng)用并不局限于此，例如也可以將核對印跡圖像與登記印跡圖像的核對結(jié)果作為“核對率”以百分比等形式進行表示。
另外，當(dāng)利用百分比來輸出核對結(jié)果時，例如也可以作為初級處理(一次處理)來形成圖像整體的核對率，然后，通過進行求解上述局部差異的處理來修正經(jīng)過初級處理所獲得的核對率。
作為初級處理的例子，例如將重疊圖像中的一致像素數(shù)除以通過重疊處理而獲得的重疊圖像整體的像素數(shù)即可。具體地說，當(dāng)重疊圖像整體的像素數(shù)為5496像素，并且，其中核對印跡圖像與登記印跡圖像相一致的像素數(shù)為4376像素時，初級處理的核對率由“4376÷5496”可得“79.6％”。對于所述初級處理的核對率“79.6％”，使用局部差異的比率來進行修正，由此可簡單并準確地進行印章的核對。
工業(yè)實用性如上所述，本發(fā)明的印章核對裝置、印章核對方法及印章核對程序適用于要求高核對精度的印章核對。
權(quán)利要求
1.一種印章核對裝置，所述裝置將核對對象的印跡作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測部件，檢測所述重疊圖像中的所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算部件，算出表示所述差異部分的局部特征的特征量；和判斷部件，根據(jù)由所述特征量計算部件算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
2.如權(quán)利要求1所述的印章核對裝置，其特征在于，所述特征量計算部件將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，計算各區(qū)域中所述差異部分的像素數(shù)，并依次算出將所述像素數(shù)除以所述區(qū)域中所包含的全部像素數(shù)的差異比例，將所述算出的差異比例作為所述特征量。
3.如權(quán)利要求1所述的印章核對裝置，其特征在于，所述差異部分檢測部件分別檢測所述核對印跡圖像相對于所述登記印跡圖像有差異的部分即第一差異處，和所述登記印跡圖像相對于所述核對印跡圖像有差異的部分即第二差異處；所述差異計算部件將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，算出各區(qū)域中的表示第一差異處的像素數(shù)的第一差異像素數(shù)，和表示第二差異處的像素數(shù)的第二差異像素數(shù)，并依次算出將所述第一像素數(shù)與所述第二像素數(shù)之差的絕對值除以所述第一差異像素數(shù)與所述第二差異像素數(shù)的相加值的差異比率，將所述差異比率作為所述特征量。
4.如權(quán)利要求1所述的印章核對裝置，其特征在于，所述特征量計算部件從所述差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，并將所述差異形狀的面積值作為所述特征量來輸出。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的印章核對裝置，其特征在于，所述差異部分檢測部件還檢測所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像相重疊的一致部分，所述特征量計算部件算出表示所述一致部分的像素數(shù)的一致像素數(shù)，當(dāng)所述一致像素數(shù)為閾值以下時，所述判斷部件作出所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像不一致的判斷。
6.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的印章核對裝置，其特征在于，還包括整體一致率計算部件，所述整體一致率計算部件算出所述核對印跡圖像整體與所述登記印跡圖像整體的一致率來作為整體一致率；所述判斷部件根據(jù)由所述特征量計算部件算出的特征量與所述整體一致率來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
7.一種印章核對方法，所述方法將核對對象的印跡作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測步驟，檢測所述重疊圖像中所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算步驟，算出表示所述差異部分的局部特征的特征量；和判斷步驟，根據(jù)所述特征量計算步驟算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
8.如權(quán)利要求7所述的印章核對方法，其特征在于，所述特征量計算步驟將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，計算各區(qū)域中所述差異部分的像素數(shù)，并依次算出將所述像素數(shù)除以所述區(qū)域中所包含的全部像素數(shù)的差異比例，將所述算出的差異比例作為所述特征量。
9.如權(quán)利要求7所述的印章核對方法，其特征在于，所述差異部分檢測步驟分別檢測所述核對印跡圖像相對于所述登記印跡圖像有差異的部分即第一差異處，和所述登記印跡圖像相對于所述核對印跡圖像有差異的部分即第二差異處；所述差異計算步驟將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，算出各區(qū)域中的表示第一差異處的像素數(shù)的第一差異像素數(shù)，和表示第二差異處的像素數(shù)的第二差異像素數(shù)，并依次算出將所述第一像素數(shù)與所述第二像素數(shù)之差的絕對值除以所述第一差異像素數(shù)與所述第二差異像素數(shù)的相加值的差異比率，將所述差異比率作為所述特征量。
10.如權(quán)利要求7所述的印章核對方法，其特征在于，所述特征量計算步驟從所述差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，并將所述差異形狀的面積值作為所述特征量來輸出。
11.如權(quán)利要求7至10中任一項所述的印章核對方法，其特征在于，還包括整體一致率計算步驟，所述整體一致率計算步驟算出所述核對印跡圖像整體與所述登記印跡圖像整體的一致率來作為整體一致率；所述判斷步驟根據(jù)由所述特征量計算步驟算出的特征量與所述整體一致率來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
12.一種印章核對程序，所述程序?qū)⒑藢ο蟮挠≯E作為核對印跡圖像輸入，形成重疊了預(yù)先登記好的登記印跡圖像與所述核對印跡圖像的重疊圖像，并根據(jù)所述重疊圖像來進行核對，其特征在于包括差異部分檢測過程，檢測所述重疊圖像中所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像的差異部分；特征量計算過程，算出表示所述差異部分的局部特征的特征量；和判斷過程，根據(jù)所述特征量計算步驟算出的特征量來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
13.如權(quán)利要求12所述的印章核對程序，其特征在于，所述特征量計算過程將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，計算各區(qū)域中所述差異部分的像素數(shù)，并依次算出將所述像素數(shù)除以所述區(qū)域中所包含的全部像素數(shù)的差異比例，將所述算出的差異比例作為所述特征量。
14.如權(quán)利要求12所述的印章核對程序，其特征在于，所述差異部分檢測過程分別檢測所述核對印跡圖像相對于所述登記印跡圖像有差異的部分即第一差異處，和所述登記印跡圖像相對于所述核對印跡圖像有差異的部分即第二差異處；所述差異計算過程將所述重疊圖像分割成多個區(qū)域，算出各區(qū)域中的表示第一差異處的像素數(shù)的第一差異像素數(shù)，和表示第二差異處的像素數(shù)的第二差異像素數(shù)，并依次算出將所述第一像素數(shù)與所述第二像素數(shù)之差的絕對值除以所述第一差異像素數(shù)與所述第二差異像素數(shù)的相加值的差異比率，將所述差異比率作為所述特征量。
15.如權(quán)利要求12所述的印章核對程序，其特征在于，所述特征量計算過程從所述差異部分提取具有規(guī)定以上面積的差異形狀，將所述差異形狀的面積值作為所述特征量來輸出。
16.如權(quán)利要求12至15中任一項所述的印章核對程序，其特征在于，還包括整體一致率計算過程，所述整體一致率計算過程算出所述核對印跡圖像整體與所述登記印跡圖像整體的一致率來作為整體一致率；所述判斷過程根據(jù)由所述特征量計算過程算出的特征量與所述整體一致率來判斷所述核對印跡圖像與所述登記印跡圖像是否相一致。
全文摘要
在本發(fā)明中，掃描儀(2)輸入印章的印跡圖像，預(yù)處理部分(4)生成剪切印跡圖像而獲得的核對印跡圖像，重疊處理部分(5)從登記圖像存儲部分(6)中讀取與核對印跡圖像對應(yīng)的登記印跡圖像。重疊處理部分(5)生成重疊了核對印跡圖像與登記印跡圖像的重疊圖像。然后，差異檢測部分(7)基于重疊圖像檢測出核對印跡圖像與登記印跡圖像的形狀不一致的差異部分。此外，掩模圖案處理部分(9)將差異部分分割成多個區(qū)域，并依次算出表示各區(qū)域中差異部分的比率的差異比例，判斷部分(8)基于所述差異比例來判斷核對印跡圖像與登記印跡圖像的一致和不一致。由此，檢測出核對印跡圖像與登記印跡圖像的局部差異，從而提高印章核對的精度。
文檔編號G06K9/62GK1622119SQ200410037350
公開日2005年6月1日 申請日期2004年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月28日
發(fā)明者稻岡秀行, 岸野琢已, 勝又裕 申請人:富士通株式會社, 富士通先端科技