專利名稱：技術(shù)主檔資料架構(gòu)、管理系統(tǒng)及方法與半導(dǎo)體產(chǎn)品及其管理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于一種技術(shù)主檔資料(Technology Master Data)架構(gòu)及其管理系統(tǒng)及方法，且特別有關(guān)于一種適用于半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中資料儲(chǔ)存與管理系統(tǒng)的技術(shù)主檔資料架構(gòu)及其管理系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃成長(zhǎng)，半導(dǎo)體制造業(yè)者除了致力于提升產(chǎn)能與合格率來(lái)滿足客戶的需求之外，有效地管理內(nèi)部資源也成為業(yè)者能夠適當(dāng)?shù)亟档统杀镜闹匾ぷ髦?。由于目前半?dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)缺乏健全、穩(wěn)定與標(biāo)準(zhǔn)化的技術(shù)主檔資料、相關(guān)資料架構(gòu)與資料管理系統(tǒng)及方法，因此，半導(dǎo)體制造業(yè)者亦無(wú)法針對(duì)客戶服務(wù)與產(chǎn)能方面達(dá)到滿意的提升。
技術(shù)主檔資料是半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵信息，當(dāng)一個(gè)產(chǎn)品欲于半導(dǎo)體制造廠中大量生產(chǎn)時(shí)，相關(guān)必備的制造條件則可由技術(shù)主檔資料中定義，其中，技術(shù)主檔資料可以是產(chǎn)品資料管理的相關(guān)信息，包括制程技術(shù)、制程屬性、產(chǎn)品與材料特性、設(shè)備條件與工程師制造經(jīng)驗(yàn)等等。
如前所述，半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)缺乏完善的技術(shù)主檔資料架構(gòu)與有效的管理機(jī)制，目前半導(dǎo)體制造廠的資料儲(chǔ)存與管理系統(tǒng)是將所有的資料缺乏系統(tǒng)地全部?jī)?chǔ)存在一起。對(duì)于欲查詢或管理信息的人員與客戶而言，不僅必須花費(fèi)大量的資料搜尋與維護(hù)時(shí)間，此外，由于缺乏標(biāo)準(zhǔn)化的管理機(jī)制，相關(guān)人員亦無(wú)準(zhǔn)則以依循來(lái)對(duì)于資料進(jìn)行管理與維護(hù)。
另一方面，由于整體半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)必須部署大量個(gè)別或整合型系統(tǒng)來(lái)提供產(chǎn)業(yè)中不同部門人員，如業(yè)務(wù)、行銷、管理、制造部門人員對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)程序進(jìn)行分析、預(yù)測(cè)、維護(hù)與生產(chǎn)管理等等功能。因此，不同的系統(tǒng)必須參考技術(shù)主檔資料來(lái)進(jìn)行相關(guān)商業(yè)邏輯判斷與運(yùn)算，然而，由于缺乏完善的技術(shù)主檔資料架構(gòu)與有效的管理機(jī)制，不同的系統(tǒng)會(huì)建置個(gè)別的資料來(lái)進(jìn)行相關(guān)應(yīng)用，從而形成整體半導(dǎo)體制造廠內(nèi)資料的不一致情況出現(xiàn)，且造成資料管理空間的重復(fù)與浪費(fèi)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的為提供一種適用于半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中資料儲(chǔ)存與管理系統(tǒng)的技術(shù)主檔資料架構(gòu)及其管理系統(tǒng)及方法。
本發(fā)明的技術(shù)主檔資料架構(gòu)至少包括一技術(shù)層、一裝置層與一程序?qū)?。技術(shù)層用以記錄半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)或是制造商本身所具有產(chǎn)品技術(shù)類別。裝置層用以描述裝置(產(chǎn)品)的特性。程序?qū)佑靡悦枋鲋瞥?，如材料的特性。此外，本發(fā)明提供的晶圓技術(shù)資料架構(gòu)包括分別繼承技術(shù)主檔資料架構(gòu)的技術(shù)層、裝置層與程序?qū)拥囊痪A技術(shù)第一層、一晶圓技術(shù)第二層與一晶圓技術(shù)第三層，與一晶圓技術(shù)第四層與一晶圓技術(shù)第五層。晶圓技術(shù)第四層用以記錄產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息。晶圓技術(shù)第五層用以記錄用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息，如光罩層與相關(guān)不同廠房的調(diào)整參數(shù)等信息。
本發(fā)明提供的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)包括一資料管理單元、一架構(gòu)管理單元與一資料庫(kù)。架構(gòu)管理單元中具有一技術(shù)層關(guān)系定義模塊，用以定義與管理技術(shù)主檔資料架構(gòu)與不同資料架構(gòu)間的關(guān)聯(lián)與繼承關(guān)系。資料庫(kù)中的技術(shù)主檔資料皆系依據(jù)且遵循架構(gòu)管理單元中所定義的架構(gòu)所建立。資料管理單元中具有一存取權(quán)限定義模塊與一維護(hù)邏輯定義模塊。存取權(quán)限定義模塊中依據(jù)不同應(yīng)用單元的需求，定義其相應(yīng)且所需取得的技術(shù)主檔資料層次、不同使用者的存取與維護(hù)權(quán)限、與不同層次間的技術(shù)主檔資料的存取限制。維護(hù)邏輯定義模塊中定義技術(shù)主檔資料的維護(hù)規(guī)則，包括不同層次間的技術(shù)主檔資料的修改原則與順序等。
本發(fā)明提供一種資料讀取方法。首先，接收應(yīng)用單元的讀取要求。其中，讀取要求可以包括欲讀取的資料查詢條件、技術(shù)主檔資料類型與相應(yīng)的層次等信息。接著，將發(fā)送讀取要求的應(yīng)用單元進(jìn)行確認(rèn)。之后，判斷接收的讀取要求中欲讀取的資料層次是否低于相應(yīng)此應(yīng)用單元所內(nèi)定的讀取層次。若讀取要求中欲讀取的資料層次低于相應(yīng)此應(yīng)用單元所內(nèi)定的讀取層次，則拒絕應(yīng)用單元讀取資料。反之，依據(jù)讀取要求將相應(yīng)的資料輸出給應(yīng)用單元，以進(jìn)行相關(guān)應(yīng)用處理。
本發(fā)明提供一種資料維護(hù)方法。首先，接收來(lái)自應(yīng)用單元或維護(hù)者的維護(hù)要求。其中，維護(hù)要求可以包括欲維護(hù)的資料查詢條件、技術(shù)主檔資料類型與相應(yīng)的層次等信息。接著，將發(fā)送維護(hù)要求的應(yīng)用單元或維護(hù)者進(jìn)行身分確認(rèn)。之后，判斷接收的維護(hù)要求中欲讀取的資料層次是否低于相應(yīng)此應(yīng)用單元或維護(hù)者所內(nèi)定的維護(hù)層次。若維護(hù)要求中欲維護(hù)的資料層次低于相應(yīng)應(yīng)用單元或維護(hù)者所內(nèi)定的維護(hù)層次，則拒絕應(yīng)用單元或維護(hù)者維護(hù)資料。反之，則判斷接收的維護(hù)要求是否違反維護(hù)規(guī)則。若維護(hù)要求違反維護(hù)規(guī)則，則拒絕應(yīng)用單元或維護(hù)者維護(hù)資料。若并未違反維護(hù)規(guī)則，則依據(jù)維護(hù)要求提供應(yīng)用單元或維護(hù)者進(jìn)行資料維護(hù)。


圖1為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)主文件資料架構(gòu)示意圖。
圖2顯示一技術(shù)層分類實(shí)例。
圖3為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的晶圓技術(shù)資料架構(gòu)示意圖。
圖4為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光技術(shù)資料架構(gòu)示意圖。
圖5為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的凸塊技術(shù)資料架構(gòu)示意圖。
圖6為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)的系統(tǒng)架構(gòu)示意圖。
圖7為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的資料讀取方法的操作流程圖。
圖8為一依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的資料維護(hù)方法的操作流程圖。
具體實(shí)施例方式
圖1顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)主文件資料架構(gòu)。如圖所示，依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)主檔資料架構(gòu)10以多層結(jié)構(gòu)來(lái)進(jìn)行架構(gòu)，其至少包括一技術(shù)層(Technology Level)11、一裝置層(Device Level)12與一程序?qū)?Process Level)13。值得注意的是，上述技術(shù)主檔資料架構(gòu)是依據(jù)產(chǎn)業(yè)制造特性，尤其是半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)所進(jìn)行設(shè)計(jì)，半導(dǎo)體制造廠中的不同技術(shù)型態(tài)資料可以套用此基本架構(gòu)并延伸其自屬架構(gòu)。此外，上述技術(shù)主檔資料架構(gòu)中提出基本的三層架構(gòu)，然而，本發(fā)明并不限定于此，本發(fā)明的技術(shù)主檔資料架構(gòu)可以彈性進(jìn)行擴(kuò)增。
此外，依據(jù)此架構(gòu)建立的資料系向下包容且一對(duì)多地，舉例來(lái)說(shuō)相應(yīng)一技術(shù)層11的資料可以相對(duì)于多個(gè)相應(yīng)裝置層12的資料，且相應(yīng)一裝置層12的資料可以相對(duì)于多個(gè)相應(yīng)程序?qū)?3的資料。另外，相應(yīng)程序?qū)?3的資料可以包括裝置層12與技術(shù)層11的信息，且相應(yīng)裝置層12的資料可以包括技術(shù)層11的信息。
技術(shù)主檔資料架構(gòu)10中最上層為技術(shù)層11，其用以記錄半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)或是制造商本身所具有產(chǎn)品技術(shù)類別。請(qǐng)參考圖2，圖2顯示一技術(shù)層分類100例子，在此技術(shù)層分類100中，半導(dǎo)體制造業(yè)者具有的技術(shù)包括CMOS110與BICMOS 120兩大分類。CMOS 110中區(qū)分為邏輯(Logic)111、混合信號(hào)(Mixed Signal)112、獨(dú)立存儲(chǔ)器(Standalone Memory)113，如DRAM產(chǎn)品、嵌入式存儲(chǔ)器(Embedded Memory)114，如Embedded Flash、影像感應(yīng)(Image Sensor)115、高電壓(High Voltage)116，如IC Driver與汽車相關(guān)產(chǎn)品、微機(jī)電(MEMS)117與微顯示器(Micro-display)118等。另外，BICMOS120中區(qū)分為混合信號(hào)121與高電壓122等。
表格1顯示相應(yīng)技術(shù)層11中CMOS 110技術(shù)資料的代碼(Code)。
表格1

以此類推，對(duì)于技術(shù)層11中的BICMOS 120技術(shù)亦可進(jìn)行相關(guān)編碼。技術(shù)主檔資料架構(gòu)10中的第二層為裝置層12，其用以描述裝置(產(chǎn)品)的特性，如通用型(Generic)、高電壓、低電壓等等。表格2顯示裝置層12中相應(yīng)CMOS邏輯111的裝置特性資料代碼。
表格2

類似地，對(duì)于CMOS 110技術(shù)的其它產(chǎn)品與BICMOS 120技術(shù)的所有產(chǎn)品的裝置特性亦可于裝置層12中定義其相應(yīng)的代碼。技術(shù)主檔資料架構(gòu)10中的第三層為程序?qū)?3，其用以描述制程，如材料(Material)的特性，如鋁、銅等。表格3顯示程序?qū)?3中相應(yīng)CMOS邏輯111相關(guān)產(chǎn)品的制程特性資料代碼。
表格3

類似地，對(duì)于CMOS 110技術(shù)的其它產(chǎn)品與BICMOS 120技術(shù)的所有產(chǎn)品的制程特性亦可于程序?qū)?3中定義其相應(yīng)的代碼。值得注意的是，上述表格1至3僅為一例子，對(duì)于不同的半導(dǎo)體制造業(yè)者或產(chǎn)業(yè)環(huán)境而言，相應(yīng)的表格可以任意進(jìn)行增修。
如前所述，半導(dǎo)體制造廠中的不同技術(shù)型態(tài)資料可以套用此基本架構(gòu)并延伸其自屬架構(gòu)。半導(dǎo)體制造廠中最常使用的資料為晶圓技術(shù)資料，因此，晶圓技術(shù)資料架構(gòu)可以套用本發(fā)明上述的技術(shù)主檔資料架構(gòu)10，并依據(jù)相關(guān)需求進(jìn)行延伸。
圖3顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的晶圓技術(shù)資料架構(gòu)。晶圓技術(shù)資料架構(gòu)20包括晶圓技術(shù)第一層21、晶圓技術(shù)第二層22、晶圓技術(shù)第三層23、晶圓技術(shù)第四層24與晶圓技術(shù)第五層25。其中，晶圓技術(shù)第一層21、晶圓技術(shù)第二層22與晶圓技術(shù)第三層23是分別套用技術(shù)主檔資料架構(gòu)10的技術(shù)層11、裝置層12與程序?qū)?3，并在代碼或資料內(nèi)容加入產(chǎn)品相應(yīng)的幾何(Geometry)，如0.13或0.15制程等。
另外，晶圓技術(shù)第四層24與晶圓技術(shù)第五層25是晶圓技術(shù)資料架構(gòu)20所延伸的架構(gòu)層。晶圓技術(shù)第四層24用以記錄產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息，如電壓，多晶硅(Poly)/金屬(Metal)層與閘極(Gate)材料等。而晶圓技術(shù)第五層25可以記錄用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息，如光罩層與相關(guān)不同廠房的調(diào)整參數(shù)等信息。類似地，相應(yīng)晶圓技術(shù)第五層25的資料可以包括晶圓技術(shù)第一層21至晶圓技術(shù)第四層24的信息；相應(yīng)晶圓技術(shù)第四層24的資料可以包括晶圓技術(shù)第一層21至晶圓技術(shù)第三層23的信息；相應(yīng)晶圓技術(shù)第三層23的資料可以包括晶圓技術(shù)第一層21至晶圓技術(shù)第二層22的信息；且相應(yīng)晶圓技術(shù)第二層22的資料可以包括晶圓技術(shù)第一層21的信息。
晶圓技術(shù)資料架構(gòu)20中的晶圓技術(shù)第一層21的目的可以提供如高層溝通(High Level Communication)、設(shè)備投資與長(zhǎng)期需求預(yù)測(cè)等應(yīng)用來(lái)存取基于技術(shù)層11建置的資料。晶圓技術(shù)第二層22的目的可以提供制作預(yù)測(cè)(Do Forecasting)與技術(shù)說(shuō)明(Roadmap)等應(yīng)用。晶圓技術(shù)第三層23的目的可以提供中期(Mid-term)需求預(yù)測(cè)與結(jié)構(gòu)單元(Frame Cell)維護(hù)等應(yīng)用。晶圓技術(shù)第四層24的目的可以提供技術(shù)文件、估價(jià)、賬單預(yù)測(cè)、光罩引用/預(yù)測(cè)與供應(yīng)鏈管理，如需求計(jì)劃、配置計(jì)劃、與產(chǎn)能模型等應(yīng)用。而晶圓技術(shù)第五層25的目的可以提供輸出計(jì)劃、廠房標(biāo)準(zhǔn)成本計(jì)劃等應(yīng)用使用。
另外，半導(dǎo)體制造廠中亦具有其它的技術(shù)型態(tài)資料，如濾光(ColorFilter)技術(shù)資料與凸塊(Bumping)技術(shù)資料，其相應(yīng)的資料架構(gòu)將分別參考圖4與圖5進(jìn)行說(shuō)明。
請(qǐng)見(jiàn)圖4，圖4顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光技術(shù)資料架構(gòu)。濾光技術(shù)資料架構(gòu)30包括兩層信息濾光技術(shù)第一層31與濾光技術(shù)第二層32。濾光技術(shù)第一層31可以記錄晶圓尺寸與濾光薄膜信息；且濾光技術(shù)第二層32可以記錄記錄晶圓尺寸、濾光薄膜信息、光罩層與相關(guān)不同廠房的調(diào)整參數(shù)等信息。
請(qǐng)見(jiàn)圖5，圖5顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的凸塊技術(shù)資料架構(gòu)。凸塊技術(shù)資料架構(gòu)40包括兩層信息凸塊技術(shù)第一層41與凸塊技術(shù)第二層42。凸塊技術(shù)第一層41可以記錄晶圓尺寸與凸塊薄膜信息；且凸塊技術(shù)第二層42可以記錄記錄晶圓尺寸、凸塊薄膜信息、光罩層與相關(guān)不同廠房的調(diào)整參數(shù)等信息。
因此，通過(guò)本發(fā)明的技術(shù)主文件資料架構(gòu)10可以延伸至半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的各類型技術(shù)資料架構(gòu)，如晶圓技術(shù)資料架構(gòu)、濾光技術(shù)資料架構(gòu)與凸塊技術(shù)資料架構(gòu)。此外，通過(guò)本發(fā)明所提出的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)可以對(duì)于依據(jù)上述架構(gòu)所建立的資料進(jìn)行有效的管理。
圖6顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)的系統(tǒng)架構(gòu)。如圖所示，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200包括一資料管理單元210、一架構(gòu)管理單元220與一資料庫(kù)230。
架構(gòu)管理單元220中具有一技術(shù)層關(guān)系定義模塊221，用以定義與管理晶圓技術(shù)資料架構(gòu)223、濾光技術(shù)資料架構(gòu)224與凸塊技術(shù)資料架構(gòu)225與技術(shù)主檔資料架構(gòu)222之間的關(guān)聯(lián)、繼承關(guān)系。通過(guò)技術(shù)層關(guān)系定義模塊221可以延伸每一架構(gòu)，以提供系統(tǒng)更具彈性的資料架構(gòu)型態(tài)。另外，資料庫(kù)230中所有的不同類型的資料(技術(shù)主檔資料)皆系依據(jù)且遵循架構(gòu)管理單元220中所定義的技術(shù)主檔資料架構(gòu)222、晶圓技術(shù)資料架構(gòu)223、濾光技術(shù)資料架構(gòu)224與凸塊技術(shù)資料架構(gòu)225所建立。
資料管理單元210中具有一存取權(quán)限定義模塊211與一維護(hù)邏輯定義模塊212。存取權(quán)限定義模塊211中可以依據(jù)不同應(yīng)用單元的需求，定義其相應(yīng)且所需取得的技術(shù)主檔資料層次、不同使用者的存取與維護(hù)權(quán)限、與不同層次間的技術(shù)主檔資料的存取限制。維護(hù)邏輯定義模塊212中可以定義技術(shù)主檔資料的維護(hù)規(guī)則，包括不同層次間的技術(shù)主檔資料的修改原則與順序等。因此，半導(dǎo)體制造過(guò)程中不同外圍的應(yīng)用單元300可以藉由技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200存取技術(shù)主檔資料，并進(jìn)行相關(guān)的應(yīng)用處理。
圖7顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的資料讀取方法的操作流程。首先，如步驟S701，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200接收應(yīng)用單元300的讀取要求。其中，讀取要求可以包括欲讀取的資料查詢條件、技術(shù)主檔資料類型與相應(yīng)的層次等信息。接著，如步驟S702，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200將發(fā)送讀取要求的應(yīng)用單元300進(jìn)行確認(rèn)。注意的是，此時(shí)，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200可以依據(jù)讀取要求的來(lái)源地址或應(yīng)用單元編碼等來(lái)確認(rèn)此應(yīng)用單元300。
之后，如步驟S703，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200藉由檢索資料管理單元210的存取權(quán)限定義模塊211中所定義相應(yīng)此應(yīng)用單元300的存取權(quán)限，來(lái)判斷接收的讀取要求中欲讀取的資料層次是否低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300所內(nèi)定的讀取層次。若讀取要求中欲讀取的資料層次低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300所內(nèi)定的讀取層次(步驟S703的是)，則如步驟S704，拒絕此應(yīng)用單元300讀取資料。反之，若讀取要求中欲讀取的資料層次并未低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300所內(nèi)定的讀取層次(步驟S703的否)，則如步驟S705，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200依據(jù)讀取要求將相應(yīng)的資料輸出給應(yīng)用單元300。
注意的是，如前所述，不同層次間的技術(shù)主檔資料系向下包容地，當(dāng)應(yīng)用單元或查詢?nèi)藛T符合存取權(quán)限時(shí)，查詢?nèi)藛T可以藉由輸入技術(shù)層信息來(lái)檢索裝置層信息或程序?qū)有畔ⅲ愃频?，可以輸入裝置層信息來(lái)檢索程序?qū)有畔?，以此類推。另一方面，查詢?nèi)藛T亦可輸入程序?qū)有畔?lái)檢索對(duì)應(yīng)的裝置層信息，以此類推。
圖8顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的資料維護(hù)方法的操作流程。首先，如步驟S801，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200接收來(lái)自應(yīng)用單元300或維護(hù)者的維護(hù)要求。類似地，維護(hù)要求可以包括欲維護(hù)的資料查詢條件、技術(shù)主檔資料類型與相應(yīng)的層次等信息。接著，如步驟S802，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200將發(fā)送維護(hù)要求的應(yīng)用單元300或維護(hù)者進(jìn)行身分確認(rèn)。相同地，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200可以依據(jù)維護(hù)要求的來(lái)源地址或應(yīng)用單元編碼等來(lái)確認(rèn)此應(yīng)用單元300。
之后，如步驟S803，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200藉由檢索資料管理單元210的存取權(quán)限定義模塊211中所定義相應(yīng)此應(yīng)用單元300與維護(hù)者的維護(hù)權(quán)限，來(lái)判斷接收的維護(hù)要求中欲讀取的資料層次是否低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300或維護(hù)者所內(nèi)定的維護(hù)層次。若維護(hù)要求中欲維護(hù)的資料層次低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300或維護(hù)者所內(nèi)定的維護(hù)層次(步驟S803的是)，則如步驟S804，拒絕此應(yīng)用單元300或維護(hù)者維護(hù)資料。
反之，若維護(hù)要求中欲維護(hù)的資料層次并未低于相應(yīng)此應(yīng)用單元300或維護(hù)者所內(nèi)定的維護(hù)層次(步驟S803的否)，則如步驟S805，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200判斷接收的維護(hù)要求是否違反資料管理單元210的維護(hù)邏輯定義模塊212中所定義的維護(hù)規(guī)則。若維護(hù)要求違反資料管理單元210的維護(hù)邏輯定義模塊212中所定義的維護(hù)規(guī)則(步驟S805的是)，則如步驟S804，拒絕此應(yīng)用單元300或維護(hù)者維護(hù)資料。反之，若接收的維護(hù)要求并未違反維護(hù)規(guī)則(步驟S805的否)，則如步驟S806，技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)200依據(jù)維護(hù)要求提供應(yīng)用單元300或維護(hù)者進(jìn)行資料維護(hù)。
因此，藉由本發(fā)明所提供的技術(shù)主擋資料架構(gòu)及其管理系統(tǒng)及方法，半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中技術(shù)主檔資料的資料儲(chǔ)存與管理將整合地達(dá)成。此外，由于半導(dǎo)體產(chǎn)品研發(fā)歷程耗時(shí)，藉由本發(fā)明的技術(shù)主檔資料架構(gòu)，市場(chǎng)企劃或主管人員可以于產(chǎn)品尚未實(shí)際研發(fā)與制作生產(chǎn)之前，依據(jù)本案的技術(shù)主檔資料架構(gòu)事先建立技術(shù)層的資料，再依據(jù)研發(fā)部門的研發(fā)歷程逐步建立技術(shù)主檔資料架構(gòu)中其它層別的信息。此外，半導(dǎo)體制造廠中所制造的半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)品可以結(jié)合依據(jù)本發(fā)明提出的技術(shù)主檔資料架構(gòu)資料進(jìn)行有效管理與辨識(shí)。另外，半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中大量個(gè)別或整合型系統(tǒng)可以有規(guī)則且效率地存取技術(shù)主檔資料來(lái)進(jìn)行分析、預(yù)測(cè)、維護(hù)、生產(chǎn)管理與相關(guān)應(yīng)用處理，從而減少半導(dǎo)體制造廠內(nèi)資料不一致的情況出現(xiàn)，且減少資料管理空間的重復(fù)與浪費(fèi)。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此項(xiàng)技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可做些許更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書(shū)所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)，其特征在于包括一架構(gòu)管理單元，包括一技術(shù)層關(guān)系定義模塊，用以定義至少具有一技術(shù)層、一裝置層與一程序?qū)拥囊患夹g(shù)主檔資料架構(gòu)，并定義該技術(shù)層、該裝置層與該程序?qū)拥睦^承關(guān)系；一資料庫(kù)，用以儲(chǔ)存依據(jù)該技術(shù)主檔資料架構(gòu)建置的技術(shù)主檔資料，其中該技術(shù)主檔資料中相應(yīng)該程序?qū)拥馁Y料包括相應(yīng)該裝置層與該技術(shù)層的資料，且該技術(shù)主檔資料中相應(yīng)該裝置層的資料包括相應(yīng)該技術(shù)層的資料；以及一資料管理單元，包括一存取權(quán)限定義模塊，用以定義相應(yīng)至少一應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的層次、存取權(quán)限與維護(hù)權(quán)限；以及一維護(hù)邏輯定義模塊，用以定義該技術(shù)主檔資料的維護(hù)規(guī)則。
2.如權(quán)利要求1所述的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)，其特征在于所述資料管理單元更包括對(duì)于該應(yīng)用單元的一讀取要求依據(jù)相應(yīng)該應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的該層次、該存取權(quán)限與該維護(hù)權(quán)限，由該資料庫(kù)檢索相應(yīng)該讀取要求的該技術(shù)主檔資料并輸出至該應(yīng)用單元，或?qū)τ谠搼?yīng)用單元的一維護(hù)要求依據(jù)相應(yīng)該應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的該層次、該存取權(quán)限與該維護(hù)權(quán)限，由該資料庫(kù)檢索相應(yīng)該維護(hù)要求的該技術(shù)主檔資料并提供該應(yīng)用單元進(jìn)行維護(hù)。
3.如權(quán)利要求1所述的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)，其特征在于所述技術(shù)主檔資料架構(gòu)的技術(shù)層用以描述產(chǎn)品技術(shù)，裝置層用以描述裝置特性，程序?qū)佑靡悦枋鲋瞥烫匦浴?br> 4.如權(quán)利要求3所述的技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)，其特征在于所述技術(shù)層關(guān)系定義模塊更定義一晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一晶圓技術(shù)第一層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的技術(shù)層；一晶圓技術(shù)第二層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的裝置層；一晶圓技術(shù)第三層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的程序?qū)?；一晶圓技術(shù)第四層，用以記錄產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息；以及一晶圓技術(shù)第五層，用以記錄用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息，且該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料更依據(jù)該晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)進(jìn)行建置，或一濾光技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一濾光技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與濾光薄膜信息；以及一濾光技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、濾光薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)，且該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料更依據(jù)該濾光技術(shù)資料結(jié)構(gòu)進(jìn)行建置，或一凸塊技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一凸塊技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與凸塊薄膜信息；以及一凸塊技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、凸塊薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)，且該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料更依據(jù)該凸塊技術(shù)資料結(jié)構(gòu)進(jìn)行建置。
5.一種技術(shù)主檔資料架構(gòu)，用以架構(gòu)一資料儲(chǔ)存與管理系統(tǒng)中的技術(shù)主檔資料，其特征在于至少包括一技術(shù)層，用以描述產(chǎn)品技術(shù)；一裝置層，用以描述裝置特性；以及一程序?qū)樱靡悦枋鲋瞥烫匦浴?br> 6.如權(quán)利要求5所述的技術(shù)主檔資料架構(gòu)，其特征在于更包括一晶圓技術(shù)第四層，用以記錄產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息；以及一晶圓技術(shù)第五層，用以記錄用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息，或一濾光技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與濾光薄膜信息；以及一濾光技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、濾光薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)，或一凸塊技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與凸塊薄膜信息；以及一凸塊技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、凸塊薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)。
7.一種技術(shù)主檔資料管理方法，包括下列步驟提供一架構(gòu)管理單元，用以定義至少具有一技術(shù)層、一裝置層與一程序?qū)拥囊患夹g(shù)主檔資料架構(gòu)；提供一資料庫(kù)，用以儲(chǔ)存依據(jù)該技術(shù)主檔資料架構(gòu)建置的技術(shù)主檔資料；提供具有一存取權(quán)限定義模塊與一維護(hù)邏輯定義模塊的一資料管理單元，其中該存取權(quán)限定義模塊用以定義相應(yīng)至少一應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的層次、存取權(quán)限與維護(hù)權(quán)限，且該維護(hù)邏輯定義模塊用以定義該技術(shù)主檔資料的維護(hù)規(guī)則；接收該應(yīng)用單元的一讀取要求；以及依據(jù)相應(yīng)該應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的該層次、該存取權(quán)限與該維護(hù)權(quán)限，由該資料庫(kù)檢索相應(yīng)該讀取要求的該技術(shù)主檔資料并輸出至該應(yīng)用單元。
8.如權(quán)利要求7所述的技術(shù)主檔資料管理方法，其特征在于更包括接收該應(yīng)用單元的一維護(hù)要求，并依據(jù)相應(yīng)該應(yīng)用單元存取該技術(shù)主檔資料的該層次、該存取權(quán)限與該維護(hù)權(quán)限，由該資料庫(kù)檢索相應(yīng)該維護(hù)要求的該技術(shù)主檔資料并提供該應(yīng)用單元進(jìn)行維護(hù)。
9.如權(quán)利要求7所述的技術(shù)主檔資料管理方法，其特征在于所述技術(shù)主檔資料架構(gòu)的技術(shù)層用以描述產(chǎn)品技術(shù)，裝置層用以描述裝置特性，程序?qū)佑靡悦枋鲋瞥烫匦浴?br> 10.如權(quán)利要求9所述的技術(shù)主檔資料管理方法，其特征在于更包括該架構(gòu)管理單元定義一晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一晶圓技術(shù)第一層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該技術(shù)層；一晶圓技術(shù)第二層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該裝置層；一晶圓技術(shù)第三層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該程序?qū)樱灰痪A技術(shù)第四層，用以記錄產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息；以及一晶圓技術(shù)第五層，用以記錄用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息，且更包括依據(jù)該晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)建置該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料，或一濾光技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一濾光技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與濾光薄膜信息；以及一濾光技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、濾光薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)，且更包括依據(jù)該濾光技術(shù)資料結(jié)構(gòu)建置該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料，或一凸塊技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一凸塊技術(shù)第一層，用以記錄晶圓尺寸與凸塊薄膜信息；以及一凸塊技術(shù)第二層，用以記錄晶圓尺寸、凸塊薄膜信息、光罩層與廠房調(diào)整參數(shù)，且更包括依據(jù)該凸塊技術(shù)資料結(jié)構(gòu)建置該資料庫(kù)中的該技術(shù)主檔資料。
11.一種半導(dǎo)體產(chǎn)品，包括一技術(shù)主檔資料，用以依據(jù)一技術(shù)主檔資料架構(gòu)進(jìn)行建置，其中該技術(shù)主檔資料架構(gòu)，包括一技術(shù)層，用以描述相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的產(chǎn)品技術(shù)；一裝置層，用以描述相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的裝置特性；以及一程序?qū)?，用以描述相?yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的制程特性；依據(jù)該技術(shù)主檔資料架構(gòu)建置的該技術(shù)主檔資料進(jìn)行管理。
12.如權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體產(chǎn)品，其特征在于所述技術(shù)主檔資料更依據(jù)一晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)進(jìn)行建置，其中該晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一晶圓技術(shù)第一層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該技術(shù)層；一晶圓技術(shù)第二層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該裝置層；一晶圓技術(shù)第三層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該程序?qū)樱灰痪A技術(shù)第四層，用以記錄相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息；以及一晶圓技術(shù)第五層，用以記錄相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息。
13.一種半導(dǎo)體產(chǎn)品管理方法，包括下列步驟提供具有一技術(shù)主檔資料的一半導(dǎo)體產(chǎn)品，其中該技術(shù)主檔資料依據(jù)一技術(shù)主檔資料架構(gòu)進(jìn)行建置，其中該技術(shù)主檔資料架構(gòu)，包括一技術(shù)層，用以描述相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品的產(chǎn)品技術(shù)；一裝置層，用以描述相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品于該產(chǎn)品技術(shù)下的裝置特性；以及一程序?qū)樱靡悦枋鱿鄳?yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品于該產(chǎn)品技術(shù)與該裝置特性下的制程特性；以及依據(jù)該技術(shù)主檔資料對(duì)于該半導(dǎo)體產(chǎn)品進(jìn)行管理。
14.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體產(chǎn)品管理方法，其特征在于所述技術(shù)主檔資料更依據(jù)一晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)進(jìn)行建置，其中該晶圓技術(shù)資料結(jié)構(gòu)，包括一晶圓技術(shù)第一層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該技術(shù)層；一晶圓技術(shù)第二層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該裝置層；一晶圓技術(shù)第三層，繼承該技術(shù)主檔資料架構(gòu)的該程序?qū)?；一晶圓技術(shù)第四層，用以記錄相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品于該產(chǎn)品技術(shù)、該裝置特性與該制程特性下產(chǎn)品制造時(shí)的相關(guān)制程信息；以及一晶圓技術(shù)第五層，用以記錄相應(yīng)該半導(dǎo)體產(chǎn)品于該產(chǎn)品技術(shù)、該裝置特性、該制程特性、與該制程信息下用于制造目的所需的詳細(xì)技術(shù)特征與信息。
全文摘要
一種技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)對(duì)于依據(jù)具有一技術(shù)層、一裝置層與一程序?qū)拥募夹g(shù)主檔資料架構(gòu)建置的技術(shù)主檔資料進(jìn)行管理。技術(shù)層用以記錄半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)或是制造商本身所具有產(chǎn)品技術(shù)類別。裝置層用以描述裝置特性。程序?qū)佑靡悦枋鲋瞥烫匦浴?yīng)用單元可以通過(guò)技術(shù)主檔資料管理系統(tǒng)對(duì)于依據(jù)技術(shù)主檔資料架構(gòu)建置的資料進(jìn)行讀取、維護(hù)與相關(guān)應(yīng)用處理。
文檔編號(hào)G06F17/30GK1534531SQ200410029690
公開(kāi)日2004年10月6日 申請(qǐng)日期2004年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月31日
發(fā)明者楊化雨, 馮淑玲 申請(qǐng)人:臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司