本技術(shù)涉及半導體,特別是涉及一種混液槽流量控制裝置。
背景技術(shù):
1、在半導體生產(chǎn)設(shè)備中,清洗設(shè)備迭代更新。非單一化學品需要現(xiàn)在混液槽中先進行混合控溫加熱,化學品溫度要求從常溫到一百多度不等。
2、高溫化學品混合時,混液槽溫度高,熱輻射至周圍的電子控制設(shè)備,會導致流量不穩(wěn)定,出現(xiàn)補液時流量偏差,進一步影響到混液槽各混合溶液的濃度,最終影響產(chǎn)品質(zhì)量。
3、為解決上述問題,需要提出一種新型的混液槽流量控制裝置。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點,本實用新型的目的在于提供一種混液槽流量控制裝置,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中高溫化學品混合時,混液槽溫度高,熱輻射至周圍的電子控制設(shè)備,會導致流量不穩(wěn)定,出現(xiàn)補液時流量偏差,進一步影響到混液槽各混合溶液的濃度,最終影響產(chǎn)品質(zhì)量的問題。
2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本實用新型提供一種混液槽流量控制裝置,包括:
3、模組控制模塊,包括輸出氣體壓力控制單元和液體流量控制單元,其分別用于所述混液槽的氣體流量以及液體流量的控制;
4、冷卻氣體輸出模塊,其輸入端用于輸入冷卻氣體,其輸出端朝向于所述氣體壓力控制單元;
5、設(shè)于所述冷卻氣體輸出模塊輸出端處的冷卻氣體控制模塊,其由所述模組控制模塊控制所述冷卻氣體的流通。
6、優(yōu)選地,所述液體流量控制單元包括液體流量監(jiān)控單元和液體流量調(diào)節(jié)單元。
7、優(yōu)選地,所述液體流量監(jiān)控單元包括流量計和流量轉(zhuǎn)化器,所述流量計設(shè)置于液體流路上,所述流量轉(zhuǎn)化器分別與所述模組控制模塊和所述流量計電連接。
8、優(yōu)選地,所述液體流量調(diào)節(jié)單元包括設(shè)置于液體流路上的氣動閥以及設(shè)于所述氣動閥上的電磁閥。
9、優(yōu)選地,所述液體流量控制單元還包括設(shè)于液體流路上的溫度檢測裝置。
10、優(yōu)選地,所述溫度檢測裝置為溫度計。
11、優(yōu)選地,所述冷卻氣體為氮氣。
12、優(yōu)選地,所述冷卻氣體輸出模塊的輸入端為由機臺中的氮氣管路接出的連通管。
13、優(yōu)選地,所述冷卻氣體控制模塊為氣體壓力控制閥。
14、優(yōu)選地,所述混液槽的氣體流量由流量氣動調(diào)節(jié)閥控制。
15、如上所述,本實用新型的混液槽流量控制裝置,具有以下有益效果:
16、本實用新型能夠防止過高的工作溫度導致輸出氣體壓力控制單元的工作穩(wěn)定性降低,避免了流量不穩(wěn)定,出現(xiàn)補液時流量偏差,進一步影響到混合溶液的濃度的問題,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。
1.一種混液槽流量控制裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述液體流量控制單元包括液體流量監(jiān)控單元和液體流量調(diào)節(jié)單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述液體流量監(jiān)控單元包括流量計和流量轉(zhuǎn)化器,所述流量計設(shè)置于液體流路上,所述流量轉(zhuǎn)化器分別與所述模組控制模塊和所述流量計電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述液體流量調(diào)節(jié)單元包括設(shè)置于液體流路上的氣動閥以及設(shè)于所述氣動閥上的電磁閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述液體流量控制單元還包括設(shè)于液體流路上的溫度檢測裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述溫度檢測裝置為溫度計。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述冷卻氣體為氮氣。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述冷卻氣體輸出模塊的輸入端為由機臺中的氮氣管路接出的連通管。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述冷卻氣體控制模塊為氣體壓力控制閥。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混液槽流量控制裝置,其特征在于:所述混液槽的氣體流量由流量氣動調(diào)節(jié)閥控制。