預(yù)定關(guān)系確定待測(cè)對(duì)象的每個(gè)像 素點(diǎn)的溫度值：
[0457] ①當(dāng)采用的預(yù)設(shè)矩陣Φ服從±1二值分布時(shí)：
[0458] 根據(jù)、結(jié)合數(shù)學(xué)模型= ，并利用矩陣求逆方法計(jì)算出待 測(cè)物體在波長(zhǎng)h下的二維圖像S1;
[0459] 根據(jù)$=E2(T)2i_rE2(T)2l、結(jié)合數(shù)學(xué)模型Υ?=Φδ 2，并利用矩陣求逆方法計(jì)算出待 測(cè)物體在波長(zhǎng)λ2下的二維圖像&;
[0460] 根據(jù)待測(cè)對(duì)象在波長(zhǎng)λ:和波長(zhǎng)λ2下的二維圖像SjPS2、Xi = Si. /S2以及所述Ti = Β 7 lnd/A'）確定出待測(cè)對(duì)象每個(gè)像素點(diǎn)的溫度值!^，其中，A'、B'為預(yù)設(shè)系數(shù)。
[0461]②當(dāng)采用的預(yù)設(shè)矩陣Φ服從± 1、0三值分布：
[0462] 根據(jù)Y卜?Μ:'：Π 2ι_,-：Ει(Τ)2ι、結(jié)合數(shù)學(xué)模型并利用矩陣求逆方法計(jì)算出待 測(cè)物體在波長(zhǎng)h下的二維圖像S 1;
[0463] 根據(jù)、結(jié)合數(shù)學(xué)模型= 并利用矩陣求逆方法計(jì)算出待 測(cè)物體在波長(zhǎng)λ2下的二維圖像&;
[0464] 根據(jù)待測(cè)對(duì)象在波長(zhǎng)λ:和波長(zhǎng)λ2下的二維圖像SjPS2、Xi = Si. /S2以及所述Ti = Β 7 lnd/A'）確定出待測(cè)對(duì)象每個(gè)像素點(diǎn)的溫度值!^，其中，A'、B'為預(yù)設(shè)系數(shù)。
[0465] ③當(dāng)采用的預(yù)設(shè)矩陣Φ為0-1分布(服從其它分布的0-1矩陣)時(shí)：
[0466]根據(jù)YbEKTh/EdTh、結(jié)合數(shù)學(xué)模型YbOSi，并利用矩陣求逆方法計(jì)算出待測(cè) 物體的二維圖像S;
[0467] 根據(jù)待測(cè)對(duì)象的二維圖像S以及所述1'1 = 8'/111〇1/^'）確定出待測(cè)對(duì)象每個(gè)像素 點(diǎn)的溫度值h，其中，A '、B '為預(yù)設(shè)系數(shù)。
[0468] 二維紅外熱像圖與物體表面的熱分布相對(duì)應(yīng)，也即反映被測(cè)對(duì)象的光輻射(紅外 熱輻射)能量分布，二維紅外熱像圖的上面的不同顏色代表被測(cè)物體不同區(qū)域的不同溫度， 通過二維紅外熱像圖可以觀察到被測(cè)物體的整體溫度分布狀況，研究被測(cè)物體的發(fā)熱情 況。
[0469] 在一些實(shí)施方式中，該方法還包括：
[0470]將所述波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)的光會(huì)聚于第一焦點(diǎn)，并在所述第一焦點(diǎn)處設(shè)置第一點(diǎn)探 測(cè)裝置用以接收所述波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)的多束光并將其轉(zhuǎn)換為多個(gè)相應(yīng)的第一光電信號(hào)參 量；
[0471] 將所述波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)的光會(huì)聚于第二焦點(diǎn)，并在所述第二焦點(diǎn)處設(shè)置第二點(diǎn)探 測(cè)裝置用以接收所述波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)的多束光并將其轉(zhuǎn)換為多個(gè)相應(yīng)的第二光電信號(hào)參 量。
[0472] 在一些實(shí)施方式中，該方法還包括：
[0473] 對(duì)所述波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)的多束光的強(qiáng)度進(jìn)行衰減;及對(duì)所述波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)的多 束光的強(qiáng)度進(jìn)行衰減。
[0474] 在本實(shí)施方式中，所述光輻射為紅外線光輻射。
[0475] 在本實(shí)施方式中，所述第一波長(zhǎng)與所述第二波長(zhǎng)相差至少10nm。
[0476] 在一些實(shí)施方式中，所述光電信號(hào)參量包括光子數(shù)、電流值、電壓值、電阻值中任 意一種。
[0477] 在一些實(shí)施方式中，所述第一和第二點(diǎn)探測(cè)器選自近紅外、中遠(yuǎn)紅外、遠(yuǎn)紅外波段 的外光電效應(yīng)探測(cè)器組、內(nèi)光電效應(yīng)探測(cè)器組、強(qiáng)光探測(cè)器組和弱光探測(cè)器組中的任意一 種，其中，
[0478] 所述外光電效應(yīng)探測(cè)器組包括：雪崩二極管、真空光電管、充氣光電管、光電倍增 管、變像管、像增強(qiáng)器、攝像管；
[0479] 所述內(nèi)光電效應(yīng)探測(cè)器組包括:本征型光電導(dǎo)探測(cè)器、摻雜型光電導(dǎo)探測(cè)器、光磁 電效應(yīng)探測(cè)器、光生伏特探測(cè)器；
[0480] 所述強(qiáng)光探測(cè)器組包括：內(nèi)置或者外置有模數(shù)轉(zhuǎn)換器的強(qiáng)光探測(cè)器；
[0481 ]所述弱光探測(cè)器組包括：內(nèi)置或者外置有計(jì)數(shù)器的弱光探測(cè)器。
[0482] 在測(cè)溫方法上述實(shí)施例中的技術(shù)效果與測(cè)溫裝置實(shí)施例中的技術(shù)效果相對(duì)應(yīng)，在 此不再贅述。
[0483] 本發(fā)明一種實(shí)施方式的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像方法同樣可以包括如 圖7所示的定標(biāo)的步驟，即在步驟S1201之前還包括：
[0484] S1301:利用光輻射調(diào)制裝置接收基準(zhǔn)光源（例如溫度可調(diào)節(jié)的燈泡，具體可以調(diào) 節(jié)電流、電壓等方式來調(diào)節(jié)）的光輻射，將接收到的光輻射等分(此處等分的概念可以參考 上述測(cè)溫設(shè)備中等分的概念)為第一光輻射和第二光輻射，并使所述第一光輻射沿第一路 徑（如測(cè)溫設(shè)備的左臂方向的路徑)射出、所述第二光輻射沿不同于第一路徑的第二路徑 (如測(cè)溫設(shè)備的右臂方向的路徑)射出。
[0485] S1302:在所述第一路徑上接收所述第一光輻射，并將接收到的第一光輻射過濾為 波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)的光(例如波長(zhǎng)為λι的單波光）。
[0486] S1303:在所述第二路徑上接收所述第二光輻射，并將接收到的第二光輻射過濾為 波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)的光(例如波長(zhǎng)為λ2的單波光）。
[0487] S1304:在所述第一路徑上接收所述波長(zhǎng)為λ:的單波光并將其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一 光電信號(hào)參量Ει(Τ)。
[0488] S1305:在所述第二路徑上接收所述波長(zhǎng)為λ2的單波光并將其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二 光電信號(hào)參量Ε2(Τ)。
[0489] S1306:調(diào)節(jié)燈泡的電流或電壓，使得燈泡發(fā)出光輻射的溫度變?yōu)門d2，并獲取對(duì)應(yīng) 的光電信號(hào)參量Edi(T)2和Ed2(T)2。按此種方法可以獲取燈泡發(fā)出多個(gè)不同溫度Tdi的光福 射，并獲取對(duì)應(yīng)的多個(gè)第一和第二光電信號(hào)參量Edl(T)i和Ed2(T)i。
[0490] S1307:根據(jù)上述不同溫度與第一和第二光電信號(hào)參量的計(jì)量值，確定出所述第一 和第二光電信號(hào)參量與溫度的預(yù)定關(guān)系。
[0491] 在本實(shí)施方式中，所述確定多個(gè)第一和第二光電信號(hào)參量與調(diào)節(jié)的多個(gè)不同溫度 的預(yù)定關(guān)系為：
[0492] Edi(T)i/Ed2(T)i=A，exp(B，/Tdi)，
[0493] 其中，所述多個(gè)為η個(gè)，i為1至η的自然數(shù)；
[0494] Α'、Β'為預(yù)設(shè)系數(shù)，Tdl為第i個(gè)基準(zhǔn)光源的溫度，Edl(T)i為第i次定標(biāo)的波長(zhǎng)為第 一波長(zhǎng)的光的光電信號(hào)參量，E d2(T)i為第i次定標(biāo)的波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)的光的光電信號(hào)參量。
[0495] 具體實(shí)現(xiàn)方式可以是：
[0496] 在定標(biāo)時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)光源以第一電流、電壓、電阻的光線照射擴(kuò)束準(zhǔn)直透鏡，通過分束 器、透鏡到達(dá)DMD。保持DMD同一幀光輻射不變，其加載的掩膜為1和0數(shù)量相等的0-1矩陣。控 制元件控制DMD中各微鏡的閉合、翻轉(zhuǎn)，使得DMD將接收到的一幀光輻射等分為第一光輻射 和第二光輻射，并使所述第一光輻射沿第一路徑射出、所述第二光輻射沿不同于第一路徑 的第二路徑射出。其中：第一光輻射經(jīng)過第一窄帶濾光片、第一會(huì)聚元件到達(dá)第一點(diǎn)探測(cè) 器，得到第一光電信號(hào)參量EdKTh。第二光輻射經(jīng)過第二窄帶濾光片、第二會(huì)聚元件到達(dá)第 二點(diǎn)探測(cè)器，得到第二光電信號(hào)參量Ed 2(T)1。Ed1(T)1和Ed2(T) 1經(jīng)過除法器得到比值X1，X1 = Edi(T)i/Ed2(T)i；
[0497] 調(diào)節(jié)標(biāo)準(zhǔn)光源的不同等效電流或電壓或電阻可計(jì)算出不同電流或電壓或電阻下 的一系列溫度Ti，T2，T 3. . .Tdi，通過本系統(tǒng)測(cè)得對(duì)應(yīng)的Edi(T)i與Ed2(T)i比值XhX^Xs. . .Xi， 保持DMD固定一幀不變，其DMD上加載的掩膜為1和0數(shù)量相等的0-1矩陣。接著利用公式擬合 得出相應(yīng)系數(shù)，即得到此種環(huán)境下的輻射體(即基準(zhǔn)光源)的光輻射溫度曲線公式。即：確定 擬合系數(shù)(即上述的預(yù)設(shè)系數(shù))A'和B'，其中：
[0498] Edi(T)i/Ed2(T)i=A，exp(B7Tdi)
[0499] Edi(T)2/Ed2(T)2=A，exp(B，/Td2)
[0500 ] Edi (T) 3/Ed2 (T)3=A，exp(B，/Td3)
[0501] ……
[0502] Ε<η(Τ)=Αι(λ1)θχρ(Βι(λ1)/Τ)
[0503] Ed2(T) =Α2(λ2)θχρ(Β2(λ2)/Τ)
[0504] A，，Β，=Β1(λ1)-Β2(λ2)。
[0505] 具體可以是利用公式擬合得出相應(yīng)系數(shù)Α'和Β'，得到此種環(huán)境下的該輻射體的光 輻射溫度曲線公式;然后通過計(jì)算機(jī)程序設(shè)定好此系數(shù)下的計(jì)算公式，即可測(cè)量或者監(jiān)測(cè) 任何情況下的輻射溫度。在實(shí)際測(cè)溫過程中，利用指數(shù)形式的多項(xiàng)式展開，獲得多項(xiàng)式的系 數(shù)，或者利用其它復(fù)雜的擬合方程獲得擬合系數(shù)。
[0506]由此，本實(shí)施方式有效地克服了紅外測(cè)溫中各種物體的"輻射率修正"難題，克服 了測(cè)量條件復(fù)雜、現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量條件波動(dòng)或者水蒸氣等因素的環(huán)境吸收造成的測(cè)量誤差，實(shí)現(xiàn) 了高精度的溫度測(cè)量。
[0507]最后應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制性的。盡管 參照實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，對(duì)本發(fā)明的技 術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本 發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在于，包括： 光輻射調(diào)制裝置，配置為接收待測(cè)對(duì)象的光輻射，且加載預(yù)設(shè)的多個(gè)掩膜，將接收到的 光福射調(diào)制為多束第一光福射和多束第二光福射，并使多束所述第一光福射沿第一路徑射 出、多束所述第二光輻射沿不同于第一路徑的第二路徑射出，所述多個(gè)掩膜由矩陣Φ變換 生成； 布置在所述第一路徑上的第一濾光元件，配置為接收多束所述第一光輻射，并將接收 到的所述第一光輻射過濾為波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)λ?的多束光； 布置在所述第二路徑上的第二濾光元件，配置為接收多束所述第二光輻射，并將接收 到的所述第二光輻射過濾為波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)λ2的多束光； 布置在第一路徑上的第一探測(cè)裝置，配置為接收所述波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)λ?的多束光并將 其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的多個(gè)第一光電信號(hào)參量； 布置在第二路徑上的第二探測(cè)裝置，配置為接收所述波長(zhǎng)為第二波長(zhǎng)λ2的多束光并將 其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的多個(gè)第二光電信號(hào)參量； 溫度確定裝置，配置為接收來自所述第一探測(cè)裝置和所述第二探測(cè)裝置的多個(gè)所述第 一和第二光電信號(hào)參量，并根據(jù)多個(gè)所述第一和第二光電信號(hào)參量與溫度的預(yù)定關(guān)系確定 出所述待測(cè)對(duì)象每一個(gè)像素點(diǎn)的溫度值； 圖像生成裝置，配置為根據(jù)所述待測(cè)對(duì)象每一個(gè)像素點(diǎn)的溫度值以及所述待測(cè)對(duì)象的 二維圖像反演出所述待測(cè)對(duì)象的二維紅外熱圖像。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在于，所述光 輻射調(diào)制裝置加載預(yù)設(shè)的多個(gè)掩膜，所述第一探測(cè)裝置接收所述波長(zhǎng)為第一波長(zhǎng)h的多束 光并將其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的多個(gè)第一光電信號(hào)參量，所述第二探測(cè)裝置接收所述波長(zhǎng)為第二波 長(zhǎng)入 2的多束光并將其轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的多個(gè)第二光電信號(hào)參量包括： 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣Φ矩陣服從± 1二值分布時(shí)： 將預(yù)設(shè)矩陣Φ拆分為兩個(gè)互補(bǔ)的0-1矩陣H+和H-; 所述光輻射調(diào)制裝置加載由H+矩陣的第i行或第i列H+1拉伸變換而得的掩膜，并且所述 光輻射調(diào)制裝置將接收到的光輻射調(diào)制為第一光輻射和第二光輻射，所述第一探測(cè)裝置將 所述第一光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一光電信號(hào)參量ΕΚΤ)^，所述第二探測(cè)裝置將所述第二 光福射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二光電信號(hào)參量E2(T)2i-l; 所述光輻射調(diào)制裝置加載由Η-矩陣的第i行或第i列Hi拉伸變換而得的掩膜，并且所述 光輻射調(diào)制裝置將接收到的光輻射分為第一光輻射和第二光輻射，所述第一探測(cè)裝置將所 述第一光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一光電信號(hào)參量Ei(T) 2l，所述第二探測(cè)裝置將所述第二光輻 射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二光電信號(hào)參量E2(T)2i; 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣φ服從± 1、〇三值分布時(shí)： 將所述預(yù)設(shè)矩陣Φ拆分為兩個(gè)相互獨(dú)立的0-1矩陣H+和H-; 所述光輻射調(diào)制裝置加載由H+矩陣的第i行或第i列H+1拉伸變換而得的掩膜，并且所述 光輻射調(diào)制裝置將接收到的光輻射分為第一光輻射和第二光輻射，所述第一探測(cè)裝置將所 述第一光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一光電信號(hào)參量，所述第二探測(cè)裝置將所述第二光 福射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二光電信號(hào)參量E2(T)2i-l; 所述光輻射調(diào)制裝置加載由Η-矩陣的第i行或第i列Hi拉伸變換而得的掩膜，并且所述 光輻射調(diào)制裝置將接收到的光輻射分為第一光輻射和第二光輻射，所述第一探測(cè)裝置將所 述第一光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一光電信號(hào)參量Ei(T)2l，所述第二探測(cè)裝置將所述第二光輻 射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二光電信號(hào)參量E2(T)2i; 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣φ服從0-1分布時(shí)： 所述光輻射調(diào)制裝置順序加載由預(yù)設(shè)矩陣Φ的每一行（或列）直接拉伸變換而得的掩 膜，并且所述光輻射調(diào)制裝置將接收到的光輻射分為第一光輻射和第二光輻射，所述第一 探測(cè)裝置將所述第一光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一光電信號(hào)參量EKTh，所述第二探測(cè)裝置將 所述第二光輻射轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第二光電信號(hào)參量E 2(T)1; 其中，i = l，2,3,4......N，N為所述待測(cè)對(duì)象的總像素?cái)?shù)，所述預(yù)設(shè)矩陣Φ的階2k 2 N。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在于，所述溫 度確定裝置根據(jù)如下的所述預(yù)定關(guān)系確定所述待測(cè)對(duì)象每一個(gè)像素點(diǎn)的溫度值： 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣Φ服從± 1二值分布時(shí)： 所述溫度確定裝置根據(jù)、結(jié)合數(shù)學(xué)模，并利用矩陣求逆 方法計(jì)算出待測(cè)物體在波長(zhǎng)h下的二維圖像S1; 所述溫度確定裝置根據(jù)Ea(T)2i、結(jié)合數(shù)學(xué)模型￥==〇^2_·并利用矩陣求逆 方法計(jì)算出待測(cè)物體在波長(zhǎng)λ2下的二維圖像&; 所述溫度確定裝置根據(jù)待測(cè)對(duì)象在波長(zhǎng)h和波長(zhǎng)λ2下的二維圖像 及所述hiB'/lnUi/A'）確定出待測(cè)對(duì)象每個(gè)像素點(diǎn)的溫度值T1; 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣Φ服從± 1、〇三值分布時(shí)： 所述溫度確定裝置根、結(jié)合數(shù)學(xué)模型Υ十〇Si，并利用矩陣求逆 方法計(jì)算出待測(cè)物體在波長(zhǎng)h下的二維圖像S1; 所述溫度確定裝置根據(jù)Υ^Ε2ΓΓ)2?_Γ Ε2(Τ)2ι、結(jié)合數(shù)學(xué)模型并利用矩陣求逆 方法計(jì)算出待測(cè)物體在波長(zhǎng)λ2下的二維圖像&; 所述溫度確定裝置根據(jù)待測(cè)對(duì)象在波長(zhǎng)h和波長(zhǎng)λ2下的二維圖像 及所述hiB'/lnUi/A'）確定出待測(cè)對(duì)象每個(gè)像素點(diǎn)的溫度值T1; 當(dāng)所述預(yù)設(shè)矩陣Φ服從0-1分布時(shí)： 所述溫度確定裝置根據(jù)YiiEKTh/EdTh、結(jié)合數(shù)學(xué)模型riOSi，并利用矩陣求逆方 法計(jì)算出待測(cè)物體的二維圖像S; 所述溫度確定裝置根據(jù)待測(cè)對(duì)象的二維圖像S以及所述1'1 = 8'/11101/^'）確定出待測(cè) 對(duì)象每個(gè)像素點(diǎn)的溫度值Ti; 其中，A'、B'為預(yù)設(shè)系數(shù)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征 在于，所述光輻射調(diào)制裝置包括： 空間光調(diào)制器，配置為根據(jù)預(yù)設(shè)矩陣Φ變換生成的多個(gè)掩膜，以將接收到的待測(cè)對(duì)象 的光輻射調(diào)制為所述第一光輻射和第二光輻射，并使所述第一光輻射沿第一路徑射出、所 述第二光輻射沿不同于第一路徑的第二路徑射出； 控制元件，配置為控制所述空間光調(diào)制器依次加載由所述預(yù)設(shè)矩陣Φ變換生成的多個(gè) 掩膜。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在于，所述空 間光調(diào)制器為選自數(shù)字微鏡器件、光強(qiáng)數(shù)字調(diào)制器或液晶光閥。6. 根據(jù)權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在 于，所述第一探測(cè)裝置為第一點(diǎn)探測(cè)器，所述第二探測(cè)裝置為第二點(diǎn)探測(cè)器，并且 所述基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備還包括布置在所述第一路徑上、位于所述 第一點(diǎn)探測(cè)器與所述空間光調(diào)制器之間的第一會(huì)聚元件，和布置在所述第二路徑上、位于 所述第二點(diǎn)探測(cè)器與空間光調(diào)制器之間的第二會(huì)聚元件， 所述第一點(diǎn)探測(cè)器位于所述第一會(huì)聚元件的光焦點(diǎn)處； 所述第二點(diǎn)探測(cè)器位于所述第二會(huì)聚元件的光焦點(diǎn)處。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征在于，還包 括： 布置在所述第一路徑上、位于所述第一點(diǎn)探測(cè)器與所述空間光調(diào)制器之間的第一光強(qiáng) 衰減元件，和 布置在所述第二路徑上、位于所述第二點(diǎn)探測(cè)器與空間光調(diào)制器之間的第二光強(qiáng)衰減 元件。8. 根據(jù)權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征 在于，所述第一濾光元件和所述第二濾光元件為中心波長(zhǎng)相差至少l〇nm的第一窄帶濾光片 和第二窄帶濾光片，所述第一窄帶濾光片和第二窄帶濾光片的半高寬參數(shù)至少為10nm。9. 根據(jù)權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特征 在于，所述光電信號(hào)參量包括光子數(shù)、電流值、電壓值、電阻值中任意一種。10. 根據(jù)權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，其特 征在于，所述光輻射為紅外波段的光輻射。
【專利摘要】本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N基于編碼變換的雙波長(zhǎng)溫度場(chǎng)成像設(shè)備，包括光輻射調(diào)制裝置，配置為接收待測(cè)對(duì)象的光輻射，且加載根據(jù)預(yù)設(shè)矩陣Φ變換生成的多個(gè)掩膜，將接收到的光輻射調(diào)制為多束第一光輻射和多束第二光輻射，并使多束所述第一光輻射沿第一路徑射出、多束所述第二光輻射沿不同于第一路徑的第二路徑射出；布置在所述第一路徑上的第一濾光元件和第一探測(cè)裝置；布置在所述第二路徑上的第二濾光元件和第二探測(cè)裝置；溫度確定裝置以及圖像生成裝置。本申請(qǐng)還提供了基于該設(shè)備的系統(tǒng)和方法。本發(fā)明將雙波長(zhǎng)測(cè)溫技術(shù)、調(diào)制技術(shù)和編碼技術(shù)相結(jié)合，重建出待測(cè)對(duì)象的二維紅外熱圖像，其能夠廣泛地應(yīng)用在深空探測(cè)、遙感、材料檢測(cè)、夜視觀測(cè)等相關(guān)科技領(lǐng)域。
【IPC分類】G01J5/10
【公開號(hào)】CN105606228
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610080112
【發(fā)明人】俞文凱, 趙清, 葛墨林, 翟光杰, 劉雪峰, 姚旭日
【申請(qǐng)人】北京理工大學(xué)
【公開日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2016年2月4日