，得到結(jié)果圖像30f。在結(jié)果圖像30f上，僅清晰地表示出晶體坯1的缺陷部分la。
[0067]這里，通過圖6(a)、(b)、(c)說明本實(shí)施方式的作用效果。
[0068]如圖6 (a)所示，在將漫透射圖像30a的輸出設(shè)為P1、將鏡面透射圖像30b的輸出設(shè)為P2、將漫反射圖像30c的輸出設(shè)為P3時，通過-P1+P2+P3得到合成圖像30d，由此能夠清晰地表示出晶體還1的缺陷部分la。
[0069]另一方面，如圖6 (b)所示，如-P1+P2那樣進(jìn)行計(jì)算而生成合成圖像30d的情況下，在合成圖像30d上不僅是晶體坯1的缺陷部分la，玻璃板2的缺陷部分2a也顯現(xiàn)出來。
[0070]另外，如圖6 (c)所示，如P2+P3這樣進(jìn)行計(jì)算來生成合成圖像30d的情況下，在合成圖像30d上，玻璃板2的缺陷部分2a變淺，但是晶體坯1的缺陷部分la不變淺而保持相同程度不變。因此，能夠清晰地表示出晶體坯1的缺陷部分la。
[0071]這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，通過上述的-P1+P2+P3的計(jì)算式(1)得到合成圖像30d，從而能夠?qū)⒕w坯1的缺陷部分la增強(qiáng)表示。
[0072]另外，如圖1所示，通過從玻璃板2的下方照射難以散射的長波長的紅色光，能夠使紅色光在玻璃板2內(nèi)可靠地透射，導(dǎo)入到晶體坯1內(nèi)，能夠高精度且可靠地得到漫透射圖像30a。另外，通過從晶體坯1的上方照射作為容易散射的短波長的藍(lán)色光，能夠使藍(lán)色光在晶體坯1上可靠地漫反射、高精度地得到漫反射圖像30e。
[0073]再有，在上述實(shí)施方式中，示出了圖像處理裝置30使用-P1+P2+P3的計(jì)算式(1)來生成合成圖像30d的例子，但不限于此，也可以使用
[0074]-klXPl+k2XP2+k3XP4(kl、k2、k3為正數(shù))的計(jì)算式⑵來生成合成圖像。
[0075]例如，在計(jì)算式(2)中，能夠設(shè)為kl = 1.0、k2 = 0.5、k3 = 0.8。
[0076]另外，在計(jì)算式⑵中，在將kl、k2、k3設(shè)為1的情況下，計(jì)算式(2)與計(jì)算式(1)為同一式。
[0077]另外，在上述實(shí)施方式中，假設(shè)拍攝單元20為CCD照相機(jī)，但是只要能夠使用3種不同顏色的光來拍攝漫透射圖像、鏡面透射圖像、漫反射圖像，拍攝單元20也可以包括:具有接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的1個拍攝板或者接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的2個以上的拍攝板的CMOS照相機(jī)。
[0078][標(biāo)號說明]
[0079]1晶體坯
[0080]2玻璃板
[0081]10透明基板的外觀檢查裝置
[0082]11第1照明單元
[0083]12第2照明單元
[0084]13第3照明單元
[0085]20拍攝單元
[0086]30圖像處理裝置
[0087]30a漫透射圖像
[0088]30b鏡面透射圖像
[0089]30c漫反射圖像
[0090]30d合成圖像
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種透明基板的外觀檢查裝置，其特征在于，具備: 透明支持體，其載置透明基板； 拍攝單元，其配置在透明支持體上方，拍攝透明基板以及透明支持體來生成圖像； 第1照明單元，其配置在透明支持體下方，使偏離相對于拍攝單元的鏡面透射光的第1色光對透明支持體和透明基板入光； 第2照明單元，其配置在透明支持體下方，使作為相對于拍攝單元的鏡面透射光的第2色光對透明支持體和透明基板入光； 第3照明單元，其配置在透明支持體上方，使成為反射光的第3色光對透明基板入光；以及 圖像處理裝置，其根據(jù)由拍攝單元得到的基于第1色光的漫透射圖像、基于第2色光的鏡面透射圖像、基于第3色光的漫反射圖像，生成合成圖像，來檢測透明基板的缺陷。2.如權(quán)利要求1所述的透明基板的外觀檢查裝置，其特征在于， 第1照明單元照射紅色光作為第1色光，第2照明單元照射綠色光作為第2色光，第3照明單元照射藍(lán)色光作為第3色光。3.如權(quán)利要求1或2所述的透明基板的外觀檢查裝置，其特征在于， 圖像處理裝置，在將漫透射圖像的輸出設(shè)為P1、將鏡面透射圖像的輸出設(shè)為P2、將漫反射圖像的輸出設(shè)為P3的情況下，根據(jù)-klXPl+k2XP2+k3XP3的計(jì)算式，來檢測透明基板的缺陷， 其中，kl、k2、k3為正數(shù)。4.如權(quán)利要求3所述的透明基板的外觀檢查裝置，其特征在于， 圖像處理裝置根據(jù)-P1+P2+P3的計(jì)算式，來檢測透明基板的缺陷。5.如權(quán)利要求1所述的透明基板的外觀檢查裝置，其特征在于， 拍攝單元具有(XD照相機(jī)或CMOS照相機(jī)，該(XD照相機(jī)或CMOS照相機(jī)具備:接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的1個拍攝板或者接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的2個以上的拍攝板。6.一種透明基板的外觀檢查方法，其特征在于， 包括: 將透明基板載置在透明支持體上的步驟； 從配置在透明支持體下方的第1照明單元，使偏離相對于配置在透明支持體上方的拍攝單元的鏡面透射光的第1色光對透明支持體和透明基板入光，由拍攝單元生成圖像的步驟； 從配置在透明支持體下方的第2照明單元，使作為相對于拍攝單元的鏡面透射光的第2色光對透明支持體和透明基板入光，由拍攝單元生成圖像的步驟； 從配置在透明支持體上方的第3照明單元，使成為反射光的第3色光對透明基板入光，由拍攝單元生成圖像的步驟；以及 根據(jù)由拍攝單元得到的基于第1色光的漫透射圖像、基于第2色光的鏡面透射圖像、基于第3色光的漫反射圖像，由圖像處理裝置生成合成圖像，來檢測透明基板的缺陷的步驟。7.如權(quán)利要求6所述的透明基板的外觀檢查方法，其特征在于， 第1照明單元照射紅色光作為第1色光，第2照明單元照射綠色光作為第2色光，第3照明單元照射藍(lán)色光作為第3色光。8.如權(quán)利要求6或7所述的透明基板的外觀檢查方法，其特征在于， 圖像處理裝置，在將漫透射圖像的輸出設(shè)為P1、將鏡面透射圖像的輸出設(shè)為P2、將漫反射圖像的輸出設(shè)為P3的情況下，根據(jù)-klXPl+k2XP2+k3XP3的計(jì)算式，來檢測透明基板的缺陷， 其中，kl、k2、k3為正數(shù)。9.如權(quán)利要求8所述的透明基板的外觀檢查方法，其特征在于， 圖像處理裝置根據(jù)-P1+P2+P3的計(jì)算式，來檢測透明基板的缺陷。10.如權(quán)利要求6所述的透明基板的外觀檢查方法，其特征在于， 拍攝單元具有(XD照相機(jī)或CMOS照相機(jī)，該(XD照相機(jī)或CMOS照相機(jī)具備:接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的1個拍攝板或者接受第1色光、第2色光以及第3色光來生成圖像的2個以上的拍攝板。
【專利摘要】本發(fā)明提供能夠高精度地檢測晶體坯的缺陷的透明基板的外觀檢查裝置及外觀檢查方法。在玻璃板(2)上載置晶體坯(1)，對玻璃板(2)和晶體坯(1)，從玻璃板(2)的下方照射偏離鏡面透射光的紅色光，并且照射作為鏡面透射光的綠色光。從玻璃板(2)的上方照射作為反射光的藍(lán)色光。由拍攝單元(20)生成基于紅色光的漫透射圖像(30a)、基于綠色光的鏡面透射圖像(30b)、基于藍(lán)色光的漫反射圖像(30c)，在圖像處理裝置(30)中，將這些漫透射圖像(30a)、鏡面透射圖像(30b)以及漫反射圖像(30c)進(jìn)行合成，得到合成圖像(30d)。通過該合成圖像(30d)，檢測晶體坯(1)的缺陷部分(1a)。
【IPC分類】G01N21/958
【公開號】CN105372267
【申請?zhí)枴緾N201510477777
【發(fā)明人】秋本孝之
【申請人】東京威爾斯股份有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年8月6日