[0042]-第二系列中的反射鏡M’i聚焦輻射R至第一系列中的反射鏡Mi上，Mi位于第二系列中的反射鏡M’ i的焦點處，i包括在I至η-1之間；
[0043]-第一系列中的反射鏡Mi聚焦輻射R至第二系列中的反射鏡Μ’i+1上，i包括在I至η-1之間；
[0044]-第二系列中的反射鏡M’i，其中i = n，聚焦輻射R至探測器上；并且
[0045]-第二系列中的反射鏡M’i，其中i = 1，接收來自源的輻射。
[0046]有利地，在第一系列和第二系列中使用的具有兩個焦點的反射鏡為截頂旋轉橢球型。截頂旋轉橢球面形狀使反射鏡具有兩個焦點的特性，因此允許，通過本發(fā)明中布置的優(yōu)點，最大量的輻射聚焦至探測器2，并且在光學腔4內的拐點的數(shù)量被限制。
[0047]優(yōu)選地，第二系列中的第一反射鏡M’ I導向為將福射R聚焦在第一系列中的第一反射鏡Ml上，并定位成與輻射源I垂直，并且使輻射源I位于其第一焦點位置處。優(yōu)選地，最后一個反射鏡Μ’η定位成與探測器2垂直，并且導向為將來自第一系列中的反射鏡Mn-1的輻射聚焦至探測器2上，探測器位于其第二焦點位置處。
[0048]每個反射鏡例如通過在由塑料形成的部分上沉積反射層來產生。反射層例如是通過物理氣相沉積(PVD)或者通過電解沉積的金層。
[0049]有利地，光學腔4由兩個分離的部分42、43形成，它們互相連接，也就是上部43固緊至下部42，從而獲得一個封閉的光學腔。提供例如螺絲44用于將兩部分固緊在一起。第一系列中的反射鏡Mi形成在下部42內，第二系列中的反射鏡M’ i形成在上部43內。下部42包括形成所述輻射的入口的第一孔和形成所述輻射R的出口 41的第二孔。優(yōu)選地，在光學腔的第一部分42和第二部分43內，通過模制的方法獲得橢圓形的反射鏡。從第一系列中的反射鏡至第二系列中的反射鏡之間傳播，產生的輻射每次都必須在腔內部穿過腔室的上部和下部之間的連接平面。第一系列的反射鏡和第二系列的反射鏡因此定位在與上述限定的連接平面平行的兩個分離的平面內。
[0050]根據(jù)本發(fā)明，第一系列和第二系列中的反射鏡M1、M’ i布置成輻射沿著腔內部圓形的光路。這樣的布置特別是能夠獲得可能的最長的光路，同時還限定了裝置的體積。
[0051]根據(jù)本發(fā)明，通過光學腔的第一部分42，光學腔4被直接固緊至電路板3，從而輻射源I和探測器2定位成分別面向光學腔的入口 40和光學腔的出口 41。
[0052]該裝置還可包括集成的處理系統(tǒng)(未示出)，允許對從探測器2輸出的電信號相對于源I發(fā)出的輻射信號進行分析，從而由此推出光學腔4內存在的氣體的濃度。該處理系統(tǒng)還可獨立于裝置，與其分離。
[0053]本發(fā)明的方案因此具有如下幾個優(yōu)點:
[0054]-該裝置特別緊湊，同時允許提供的光路足夠長，使裝置檢測精確；
[0055]-源和探測器相對于光學腔的入口和出口的相對移動，對獲得的作為輸出的信號的影響相對地可以忽略；
[0056]-本發(fā)明的方案限制了輻射經過的拐點的數(shù)量，這些拐點使得傳輸至探測器的光
f目號裝減；
[0057]-特別是由于使用發(fā)光二極管，本發(fā)明的方案具有低的電功率消耗。
【主權項】
1.用于氣體探測裝置的光學腔(4)，包括: -用于反射由輻射源(I)發(fā)出的輻射(R)，并且將所述輻射(R)朝向輻射探測器(2)重新導向的反射部件； 其特征在于: -反射部件包括第一系列相鄰的反射鏡(Mi)和第二系列相鄰的反射鏡(M’ i); -第一系列的反射鏡(Mi)和第二系列的反射鏡(M’ i)具有兩個焦點； -第一系列的反射鏡和第二系列的反射鏡相對于彼此地布置，從而由輻射源(I)發(fā)出的輻射交替地由第二系列的反射鏡(M’i)和第一系列中的反射鏡(Mi)反射，并且限定從輻射源(I)延伸至輻射探測器(2)的光路；并且 -所述光學腔室包括互相固定在一起的兩個部分，第一系列反射鏡(Mi)形成在其中的下部(42)和與下部連接在一起的上不，第二系列反射鏡(Μ’ i)形成在所述上部(43)中。2.根據(jù)權利要求1所述的光學腔，其特征在于，第二系列中有η個反射鏡，第一系列中有η-1個反射鏡，η大于或等于3，反射鏡布置成: -第二系列中的反射鏡M’ i布置成將輻射聚焦至第一系列中的反射鏡Mi上，反射鏡Mi定位在第二系列中的反射鏡M’ i的焦點上，i包括在I至η-1之間； -第一系列中的反射鏡Mi，所述反射鏡被定位在反射鏡M’ i的焦點處，布置成將輻射聚焦至第二系列中的反射鏡Μ’ i+1上，i包括在I至η-1之間； -第二系列中的反射鏡M’ i，其中i = n，布置成聚焦輻射至探測器上；并且 -第二系列中的反射鏡M’ i，其中i = 1，布置成接收來自輻射源的輻射。3.根據(jù)權利要求1或者2所述的光學腔，其特征在于第一系列中的反射鏡(Mi)和第二系列中的反射鏡(Μ’ i)為截頂旋轉橢球型。4.根據(jù)權利要求1所述的光學腔，其特征在于，第一系列中的反射鏡(Mi)和第二系列中的反射鏡(Μ’ i)具有橢球形狀，并且，每個橢球形狀是通過在光學腔的第一部分(42)和第二部分(43)中模制成型而獲得的。5.根據(jù)權利要求4所述的光學腔，其特征在于，每個反射鏡包括通過在橢球形狀上沉積反射層產生的反射表面。6.根據(jù)權利要求5所述的光學腔，其特征在于，所述反射層是通過PVD或者電解沉積的。7.根據(jù)權利要求5或者6所述的光學腔，其特征在于，所述反射層包含金。8.根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的光學腔，其特征在于，其包括用來定位成面向輻射源的入口(40)和用來定位成面向輻射探測器的出口(41)。9.探測裝置，其包括布置成發(fā)出輻射(R)的輻射源(I)、輻射探測器⑵和待分析的氣體位于其中的光學腔(4)，所述腔(4)布置成從所述輻射源傳輸輻射(R)至所述輻射探測器(2)，其特征在于，所述光學腔(4)為如權利要求1-8之一所限定的。10.如權利要求9所述的裝置，其特征在于，所述輻射源⑴和所述輻射探測器(2)并排設置。11.如權利要求10所述的裝置，其特征在于所述輻射源⑴和所述輻射探測器(2)固緊至同一個電路板(3)。12.如權利要求9-11之一所述的裝置，其特征在于所述輻射源(I)包括至少一個發(fā)光二極管。13.如權利要求9-12所述的裝置，其特征在于所述輻射探測器(2)包括至少一個光電二極管。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于氣體探測裝置的光學腔(4)，其包括用于反射由輻射源(1)發(fā)出的輻射(R)，并且將所述輻射(R)朝向輻射探測器(2)重新導向的反射部件，反射部件包括第一系列相鄰的反射鏡(Mi)和第二系列相鄰的反射鏡(M’i)。第一系列中的反射鏡(Mi)和第二系列中的反射鏡(M’i)為截頂旋轉橢球型。第一系列反射鏡和第二系列反射鏡相對布置，從而由輻射源(1)發(fā)出的輻射交替地由第二系列的反射鏡(M，i)和第一系列中的反射鏡(Mi)反射，從而限定了在輻射源(1)至輻射探測器(2)之間延伸的光路。
【IPC分類】G01N21/03, G01N21/3504
【公開號】CN105223151
【申請?zhí)枴緾N201510581542
【發(fā)明人】L·奇西, H·雷西格爾, G·沙巴尼斯, P·勞倫斯, M·阿萊利
【申請人】施耐德電器工業(yè)公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年6月26日
【公告號】EP2960642A1, US20150377767