一種用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display，簡稱:TFT-LCD)生產(chǎn)過程中，濕法蝕刻常被用于蝕刻金屬膜層，在蝕刻過程中蝕刻液由于參加化學(xué)反應(yīng)濃度不斷降低，使得單位時間內(nèi)的蝕刻速率也越來越小，為了延長蝕刻液的使用壽命，增加處理基板的枚數(shù)，需要引入濃度監(jiān)控系統(tǒng)對蝕刻液的濃度進(jìn)行監(jiān)控，以確定何時加入和排放蝕刻液，達(dá)到降低蝕刻液使用成本的目的。
[0003]目前用于蝕刻液濃度監(jiān)控的方式主要分為兩種:一種是近紅外吸收光譜法(NearInfrared,簡稱:NIR)方式，一種是中和滴定的方式；現(xiàn)有的中和滴定方式主要是把蝕刻液溶于乙二醇中用氫氧化鈉溶液進(jìn)行滴定，每次滴定完畢后，需要用去離子水(又稱:超高純度水，De1nized Water，簡稱:DIW)把滴定腔室內(nèi)的蝕刻殘留液清洗干凈，清洗完畢后的腔室內(nèi)會殘留去離子水DIW，需要用壓縮干燥空氣吹干以防止殘留去離子水DIW混入到下次測量的蝕刻液中，從而影響到測試的準(zhǔn)確性。
[0004]現(xiàn)有的滴定裝置只在滴定腔室的一側(cè)安裝有一個壓縮干燥空氣噴頭，且不能伸入到滴定腔室內(nèi)，這樣滴定腔室內(nèi)沒有壓縮干燥空氣噴頭的一側(cè)在干燥時會受到影響，如果未干燥的殘留水分進(jìn)入到下一次測試的蝕刻液內(nèi)就會使測得的蝕刻液濃度比實(shí)際值要小，如果按測試的濃度進(jìn)行補(bǔ)液，則會使蝕刻液的使用量增加，進(jìn)而加大生產(chǎn)成本，因此，對壓縮干燥空氣噴頭的結(jié)構(gòu)及其在滴定腔室內(nèi)分布位置的優(yōu)化勢在必行。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置，解決了提高測量蝕刻液濃度的準(zhǔn)確性，降低蝕刻液使用量的技術(shù)問題。
[0006]為解決上述問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
[0007]一種用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置，所述蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)與中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)通訊連接，所述滴定裝置包括滴定腔室，在滴定腔室的頂部設(shè)有蝕刻液進(jìn)液管、去離子水進(jìn)液管、攪拌器、滴液口、高感度復(fù)合電極，在滴定腔室的底部設(shè)有氣動閥，在滴定腔室頂部的左右兩端還各設(shè)有一個壓縮干燥空氣噴頭，所述壓縮干燥空氣噴頭的壁部和底部密集分布有出氣孔，所述壓縮干燥空氣噴頭的出氣孔均位于滴定腔室內(nèi)。
[0008]進(jìn)一步地，所述蝕刻液進(jìn)液管用于注入蝕刻液和乙二醇溶劑。
[0009]進(jìn)一步地，所述滴液口用于注入氫氧化鈉溶液，注入的氫氧化鈉溶液用于滴定加入乙二醇溶劑的蝕刻液。
[0010]進(jìn)一步地，所述高感度復(fù)合電極用于在滴定過程中測試滴定溶液的PH值，滴定溶液含有所述蝕刻液、乙二醇溶劑和鈉的鹽溶液；
[0011]所述蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)根據(jù)從所述高感度復(fù)合電極獲取的PH值信息計(jì)算出蝕刻液各個成分的濃度，并把濃度信號傳送給所述中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)，所述中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行蝕刻液成分的補(bǔ)充加入。
[0012]進(jìn)一步地，所述壓縮干燥空氣噴頭底部分布的出氣孔口徑比壁部分布的出氣孔口徑大，底部分布的出氣孔比壁部分布的出氣孔排布更加密集。
[0013]本發(fā)明的有益效果在于:與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明改變了滴定腔室內(nèi)壓縮干燥空氣噴頭的結(jié)構(gòu)及其在滴定腔室內(nèi)的分布位置，把壓縮干燥空氣噴頭安裝在滴定腔室的內(nèi)部，且在滴定腔室頂部的左右兩端各安裝一個壓縮干燥空氣噴頭。在干燥腔室的過程中，壓縮干燥空氣分別從密布在壓縮干燥空氣噴頭壁部和底部的出氣孔噴出，噴出來的壓縮干燥空氣可以把處于腔室各個位置的殘留水分徹底吹干，保證了腔室內(nèi)殘留的水分不會進(jìn)入到下次測量的蝕刻液內(nèi)，從而提高測量蝕刻液濃度的準(zhǔn)確性，降低蝕刻液的使用量，減少生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0014]圖1是本發(fā)明的用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2是本發(fā)明中的壓縮干燥空氣噴頭的主視圖；
[0016]圖3是本發(fā)明中的壓縮干燥空氣噴頭的仰視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖具體闡明本發(fā)明的實(shí)施方式，附圖僅供參考和說明使用，不構(gòu)成對本發(fā)明專利保護(hù)范圍的限制。
[0018]實(shí)施例1:
[0019]如圖1所示，本實(shí)施例提供一種用于蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)的滴定裝置，所述蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)與中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)通訊連接，所述滴定裝置包括滴定腔室10，在滴定腔室10的頂部設(shè)有蝕刻液進(jìn)液1、去離子水DIW進(jìn)液管2、攪拌器3、滴液口 4、高感度復(fù)合電極5，在滴定腔室10的底部設(shè)有氣動閥6，在滴定腔室10頂部的左右兩端還各設(shè)有一個壓縮干燥空氣噴頭7，所述壓縮干燥空氣噴頭7的壁部和底部密集分布有出氣孔71，72，所述壓縮干燥空氣噴頭7的出氣孔71，72均位于滴定腔室10內(nèi)。
[0020]在本實(shí)施例中，所述蝕刻液進(jìn)液管I用于注入蝕刻液和乙二醇溶劑。
[0021]在本實(shí)施例中，所述滴液口 4用于注入氫氧化鈉溶液，注入的氫氧化鈉溶液用于滴定加入乙二醇溶劑的蝕刻液。
[0022]在本實(shí)施例中，所述高感度復(fù)合電極5用于在滴定過程中測試滴定溶液的PH值，滴定溶液含有所述蝕刻液、乙二醇溶劑和鈉的鹽溶液；
[0023]在本實(shí)施例中，所述蝕刻液濃度監(jiān)控系統(tǒng)根據(jù)從所述高感度復(fù)合電極5獲取的PH值信息計(jì)算出蝕刻液各個成分的濃度，并把濃度信號傳送給所述中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)，所述中央蝕刻液供應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行蝕刻液成分的補(bǔ)充加入。
[0024]在本實(shí)施例中，所述壓縮干燥空氣噴頭7底部分布的出氣孔72 口徑比壁部分布的出氣孔71 口徑大，底部分布的出氣孔72比壁部分布的出氣孔71排布更加密集。
[0025]在本實(shí)施例中，所述蝕刻液為AL蝕刻液，主要由一定濃度的硝酸、磷酸、醋酸以及添加劑和水構(gòu)成。
[0026]下面對采取中和