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硅高溫壓力傳感器的制作方法

文檔序號(hào):6088464閱讀:365來源:國知局
專利名稱:硅高溫壓力傳感器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于測(cè)量壓力的半導(dǎo)體敏感器件。
目前,公知的硅壓力傳感器是在硅杯的應(yīng)變膜內(nèi)制作四個(gè)單晶硅壓敏電阻,并用金屬薄膜作引線將其聯(lián)結(jié)成電橋構(gòu)成,四個(gè)單晶硅壓敏電阻之間的電絕緣依靠P-N結(jié)實(shí)現(xiàn)相互隔離(鮑敏杭《矩形模上力敏電阻全橋的設(shè)計(jì)》半導(dǎo)體敏感器件 Vo1.1,P.5~57 1984;牛德芳等《力學(xué)敏感器件及其應(yīng)用》科學(xué)出版社1987)。當(dāng)無壓力存在時(shí),電橋的輸出為零或一個(gè)較小的失調(diào)電壓,當(dāng)有壓力存在時(shí),電橋輸出不為零或大于原來的失調(diào)電壓。在實(shí)際應(yīng)用中,有許多技術(shù)領(lǐng)域要求傳感器必須在較高的溫度下工作,而這種硅壓力傳感器只能在常溫下工作,即工作溫度不能高于100℃,因此不能滿足在較高溫度下測(cè)量和控制壓力的需要。
本實(shí)用新型的目的是提供一種既能在常溫又能在較高溫度(400℃)工作的硅高溫壓力傳感器。
本實(shí)用新型的要點(diǎn)是單晶硅制成的硅杯的應(yīng)變膜上,是一層起電隔離作用的二氧化硅絕緣膜(厚約100nm~200nm),該二氧化硅絕緣膜上是其電阻值相等的四個(gè)多晶硅壓敏電阻,這四個(gè)多晶硅壓敏電阻由多層結(jié)構(gòu)金屬膜(如TiCrAu多層結(jié)構(gòu)金屬膜)制成的四個(gè)金屬電極聯(lián)結(jié)成電橋,構(gòu)成一個(gè)完整的硅高溫壓力傳感器。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。


圖1是本實(shí)用新型的電路原理圖。附圖1表明,多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]聯(lián)結(jié)成電橋,VO是輸出電壓,VB是恒壓源,多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]的電阻值相等,如1千歐姆~2千歐姆。
附圖2是本實(shí)用新型所提供的硅高溫壓力傳感器的結(jié)構(gòu)示意圖,其中(a)是平面結(jié)構(gòu)示意圖,(b)是I-I剖面示意圖。
附圖2(a)和(b)表明,硅杯[6]的應(yīng)變膜[11]與多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]之間是起電隔離作用的二氧化硅絕緣膜[5],多層結(jié)構(gòu)金屬膜制成的四個(gè)金屬電極[7]、[8]、[9]和[10]將四個(gè)多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]聯(lián)結(jié)成了電橋,其中兩個(gè)金屬電極如[7]和[9]用于聯(lián)結(jié)恒壓源VB,另外兩個(gè)金屬電極如[8]和[10]用作輸出電壓(VO)端,當(dāng)應(yīng)變膜[11]兩側(cè)存在壓力差時(shí),在壓力的作用下,多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]中的兩個(gè)如[1]和[3]的電阻值增大,另外兩個(gè)如[2]和[4]的電阻值減小,即電橋失去平衡,輸出電壓VO發(fā)生變化,其變化量的大小與應(yīng)變膜兩側(cè)存在的壓力差的大小成正比,該變化量由輸出電壓(VO)端輸出,即由兩個(gè)金屬電極如[8]和[10]輸出。
本實(shí)用新型所提供的硅高溫壓力傳感器具有如下特點(diǎn)1.既可在常溫下工作又可在較高溫度下工作,其工作溫度可達(dá)400℃;2.結(jié)構(gòu)簡單,體積小巧;3.制造工藝簡便,易于工業(yè)化生產(chǎn)。
由此可見,本實(shí)用新型所提供的硅高溫壓力傳感器結(jié)構(gòu)小巧,制造工藝簡便,整體成本較低,便于工業(yè)化生產(chǎn),優(yōu)于已為人知的硅壓力傳感器,在化工、石油、航天、醫(yī)療、食品和氣象等技術(shù)領(lǐng)域具有重要的實(shí)用價(jià)值。
權(quán)利要求1.一種主要由硅杯及其應(yīng)變膜和聯(lián)結(jié)成電橋的四個(gè)壓敏電阻構(gòu)成的硅高溫壓力傳感器,其特征是硅杯[6]的應(yīng)變膜[11]與多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]之間是二氧化硅絕緣膜[5],金屬電極[7]、[8]、[9]和[10]將所述多晶硅壓敏電阻[1]、[2]、[3]和[4]聯(lián)結(jié)成了電橋。
專利摘要一種硅高溫壓力傳感器。涉及一種測(cè)量壓力的存在及其數(shù)值大小的半導(dǎo)體敏感器件,尤其是在較高溫度下測(cè)量。此實(shí)用新型主要由硅杯及應(yīng)變膜和聯(lián)結(jié)成電橋的四個(gè)壓敏電阻構(gòu)成。硅杯6的應(yīng)變膜11與多晶壓敏電阻1、2、3、4之間是二氧化硅絕緣膜5。這種硅高溫壓力傳感器既可在常溫下工作又可在較高溫度下工作,其工作溫度可達(dá)400℃,而且其結(jié)構(gòu)小巧,制造工藝簡便,易于工業(yè)化生產(chǎn)。在化工、石油、航天、醫(yī)療、食品和氣象等技術(shù)領(lǐng)域具有重要的實(shí)用價(jià)值。
文檔編號(hào)G01L1/18GK2110217SQ9123221
公開日1992年7月15日 申請(qǐng)日期1991年12月13日 優(yōu)先權(quán)日1991年12月13日
發(fā)明者張維新, 朱秀文, 毛贛如 申請(qǐng)人:天津大學(xué)
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