本發(fā)明涉及彈光調(diào)制傅里葉變換光譜技術(shù)領(lǐng)域,更具體而言,涉及一種彈光調(diào)制傅里葉變換光譜的定標(biāo)方法,該光譜的定標(biāo)方法涉及到彈光調(diào)制干涉圖的最大光程差與折射率、波長的關(guān)系;傅里葉變換后的各個離散頻率值以最大光程差參數(shù)獲取,以參考光進(jìn)行定標(biāo)需要進(jìn)行折射率補償?shù)膯栴};以及基于折射率的頻率補償方法。
背景技術(shù):
以彈光調(diào)制器作為干涉儀的彈光調(diào)制傅里葉變換光譜儀具有測量速度快、光譜范圍寬、抗震性能好等優(yōu)點,在瞬態(tài)光譜探測領(lǐng)域具有潛在應(yīng)用價值。彈光調(diào)制器作為彈光調(diào)制干涉儀的主要部件,是由彈光晶體和壓電石英晶體組成。其中,彈光晶體作為通光晶體,其基于彈光效應(yīng)實現(xiàn)光束的調(diào)節(jié),產(chǎn)生干涉圖。
為了基于彈光調(diào)制干涉圖,重建入射信號的光譜信息,需要檢測干涉圖的最大光程差參數(shù)。在常用的時間調(diào)制型傅里葉變換光譜儀中,普遍采用參考激光測量干涉圖的最大光程差。在傅里葉變換中,傅里葉變換的頻率分辨率用頻率采樣間隔δf描述,表示譜分析中能夠分辨的兩個頻譜分量的最小間隔,而此間隔與連續(xù)信號在時域的持續(xù)時間t成反比。連續(xù)信號在時域的持續(xù)時間反映在干涉圖中,則是干涉圖的最大光程差。彈光調(diào)制器的彈光晶體的折射率不是恒定值,它是與入射光的波長、溫度有關(guān)的變量。這就使得在相同的應(yīng)變條件下,針對不同的入射光信號,彈光調(diào)制器產(chǎn)生的相位延遲量是不同的。
通常是用808nm的激光作為參考光源,測量彈光調(diào)制干涉圖的最大光程差,并基于此參數(shù),設(shè)定頻域的離散間隔頻率點將帶來頻譜標(biāo)定誤差。為了準(zhǔn)確的重建彈光調(diào)制干涉圖的光譜圖,實現(xiàn)頻率坐標(biāo)的準(zhǔn)確標(biāo)定,有必要對彈光調(diào)制光譜圖的定標(biāo)方法進(jìn)行改進(jìn)。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中所存在的不足,本發(fā)明提供一種彈光調(diào)制傅里葉變換光譜的定標(biāo)方法,該方法可實現(xiàn)基于彈光調(diào)制器的傅里葉變換干涉圖的光譜重建和頻譜準(zhǔn)確定標(biāo)。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:
一種彈光調(diào)制傅里葉變換光譜的定標(biāo)方法,按照以下步驟進(jìn)行:
步驟一:采用單色激光為光源,彈光調(diào)制器為通光晶體,使用下述公式來計算彈光調(diào)制干涉圖的最大光程差,
上式中,d為彈光調(diào)制器通光方向的厚度,λ為入射光的波長,nr0(λ)為晶體在該波長下的折射率,δ0為最大調(diào)制應(yīng)力,π12,π11為不同通光方向的應(yīng)力彈光系數(shù)張量;
步驟二:以上述得到的最大光程差為參數(shù),獲得離散傅里葉變換光譜橫坐標(biāo)的標(biāo)定參數(shù);
步驟三:離散傅里葉變換光譜橫坐標(biāo)的各個頻率點,是以該離散頻率點的靜態(tài)折射率對離散傅里葉變換光譜橫坐標(biāo)的標(biāo)定參數(shù)進(jìn)行校正獲取。
步驟四:基于校正的頻率點坐標(biāo),實現(xiàn)重建光譜的頻譜定標(biāo)。
所述步驟二中,在離散傅里葉變換中,所計算的各個頻率值為:
上式中,n為離散的頻率點,k為離散傅里葉變換的點數(shù),f(n)為離散的頻率值。
所述步驟三中,基于折射率的誤差,離散傅里葉變換后各個離散頻率值的校正公式為:
上式中,nr0=2.5242,該值是在23℃的環(huán)境下,znse晶體在808nm波長時的折射率,fc(n)為校正后的離散頻率值;n(n)為校正后第n個離散頻率點的折射率。
在公式中,n0(n)、fc(n)均為未知量,在校正過程中,采用f(n)代替fc(n),通過以下公式計算fc(n)所對應(yīng)的折射率:
在折射率校正后,再以不同波長的單色光為信號源,對算法中引入的誤差進(jìn)行二次校正,修正折射率參數(shù)。
所述彈光調(diào)制器由壓電晶體和znse晶體組成,znse晶體作為通光元件,為橫向彈光效應(yīng)。
所述單色激光采用808nm波長的窄帶激光器。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明所具有的有益效果為:
本發(fā)明基于彈光晶體的靜態(tài)折射率是波長函數(shù),以及以參考激光測量的最大光程差,實現(xiàn)離散傅里葉變換的頻率點的橫坐標(biāo)定標(biāo)。利用該方法,可實現(xiàn)彈光調(diào)制干涉圖在非均勻快速傅里葉變換后,進(jìn)行頻率定標(biāo)。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的多個窄帶激光復(fù)合的彈光調(diào)制干涉圖;
圖2znse晶體在不同波長下的折射率圖;
圖3為本發(fā)明的以參考激光標(biāo)定的重建光譜圖;
圖4為本發(fā)明的折射率校正后的定標(biāo)光譜圖;
圖5為本發(fā)明的校正后的頻率值與真值的比較圖;
圖6為本發(fā)明的誤差補償后的定標(biāo)光譜圖。
具體實施方式:
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
本發(fā)明的彈光調(diào)制器是由壓電晶體和znse晶體組成的,znse晶體作為通光元件,其為橫向彈光效應(yīng)。在應(yīng)力驅(qū)動下,彈光晶體產(chǎn)生雙折射效應(yīng),其折射率差是與受到的應(yīng)力、靜態(tài)折射率n0、應(yīng)力彈光系數(shù)張量有關(guān)。而在晶體材料確定后,應(yīng)力彈光系數(shù)張量是固定參數(shù)。
本發(fā)明的彈光調(diào)制干涉圖的最大光程差是由808nm的激光干涉圖測量的,并應(yīng)用測量的最大光程差作為離散傅里葉變換光譜橫坐標(biāo)的標(biāo)定參數(shù)。
本發(fā)明的離散傅里葉變換的橫坐標(biāo)各個頻率點,應(yīng)以該頻率的靜態(tài)折射率差為參數(shù),測量最大光程差,而不是以808nm的參考波長的靜態(tài)折射率,計算最大光程差。因此,需要對影響最大光程差參數(shù)的靜態(tài)折射率進(jìn)行校正。
本發(fā)明的各離散頻率點校正公式為:
式中,nr=2.5242,是在23℃環(huán)境下,znse晶體在808nm波長時的折射率;n0(n)為各離散頻率點的靜態(tài)折射率。
在上式中,n0(n)、fc(n)均為未知量,在校正過程中,采用f(n)代替fc(n),計算fc(n)所對應(yīng)的折射率。折射率與頻率的關(guān)系為:
校正后,再通過實驗進(jìn)行誤差校正。
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案、特點更加突出,下面將結(jié)合附圖對發(fā)明的具體實施進(jìn)行闡述。
在彈光調(diào)制傅里葉變換光譜儀中,彈光調(diào)制器作為其靜態(tài)干涉儀,當(dāng)輻射光源經(jīng)起偏器,產(chǎn)生兩束o光和e光,這兩束光在通過調(diào)制器時,產(chǎn)生相位延遲、實現(xiàn)雙光束干涉,產(chǎn)生彈光調(diào)制干涉圖。
彈光調(diào)制器是產(chǎn)生干涉圖的關(guān)鍵器件,對其特性的分析有助于理解彈光調(diào)制干涉圖。
彈光調(diào)制器是由彈光晶體znse和石英晶體構(gòu)成的諧振器件。其工作原理是:壓電晶體在外界電信號的作用下,基于逆壓電效應(yīng)產(chǎn)生應(yīng)變,該應(yīng)變引起彈光晶體的逆介電張量ηij的微變化。
znse晶體屬于立方晶系
硒化鋅晶體的應(yīng)力彈光系數(shù)矩陣可寫為:
假定對硒化鋅晶體沿x1軸方向產(chǎn)生應(yīng)變σ1,介電隔離率張量與應(yīng)力張量的關(guān)系為:
δβm=βm-β0m=πmnσn,(m,n=1,2,…,6)(2)
由式(1)和(2),可以得:
由于硒化鋅晶體屬于
該式表明,晶體折射率橢球由原先的球體變?yōu)槿S橢球體,亦即晶體由光學(xué)各向同性體變成了雙軸晶,但三個主軸方向沒有改變。
利用式(4)可以解得三個主折射率分別為
如果沿x1軸方向通光(縱向效應(yīng)),則相位差為
其中,d為晶體通光方向的厚度,λ為入射光的波長;
如果沿x2和x3軸方向通光(橫向效應(yīng)),相位差分別為
對于均質(zhì)材料硒化鋅有π12=π13,因而其不存在縱向彈光效應(yīng)。
在本方案中,選用x3軸方向通光,最終的折射率差以及位相差為:
對于正八角形彈光晶體結(jié)構(gòu),其諧振模態(tài)為二維面內(nèi)振動,其應(yīng)變是一維振動的兩倍,因而折射率差以及位相差是一維情況的兩倍,即:
(10)、(11)給出折射率差以及位相差與應(yīng)力的關(guān)系。
從式(10)可知,彈光調(diào)制器的折射率差是與受到的應(yīng)力、折射率n0、應(yīng)力彈光系數(shù)張量是有關(guān)的。
同時,晶體的折射率是波長的函數(shù)n0(λ),對于不同波長的入射光,其折射率是不相同的;而在晶體材料已定后,應(yīng)力彈光系數(shù)張量是固定的參數(shù)。
對于一維的彈光調(diào)制器,其應(yīng)力分布為:
δ(x,t)=δ0cos(πx/l)sin(ωt-ψ)(12)
其中,δ0是最大調(diào)制應(yīng)力,t是時間,ψ是初相位,l是彈光晶體的長度,空間變量x的范圍從0到l。
在彈光晶體的中心點,產(chǎn)生的應(yīng)變最小、應(yīng)力最大。設(shè)初相位為零,則有:
δ(t)=δ0sin(ωt)
將上式代入(10)、(11),同時考慮折射率是波長的函數(shù),則有:
從相位延遲公式(11)中可以看出,在彈光晶體的厚度一定時,彈光調(diào)制器的瞬態(tài)雙折射率差δn越大的,相位延遲量是越大。產(chǎn)生干涉圖的最大光程差也越大,以致于重建光譜的光譜分辨率得到提高。
單色光經(jīng)彈光調(diào)制干涉儀調(diào)制后,產(chǎn)生的干涉圖可用如下公式表示為:
當(dāng)入射光為復(fù)色光時,經(jīng)彈光調(diào)制干涉儀,產(chǎn)生干涉圖可表示為:
由公式(16)可知,假設(shè)折射率為定值,則干涉圖僅與入射光信號、驅(qū)動應(yīng)力信號有關(guān)。
以808nm(波數(shù)12376)的激光為參考,將波數(shù)為2020、3000、5000、8000、15000的六種窄帶光進(jìn)行復(fù)合,產(chǎn)生的干涉圖如圖1。
為了由干涉圖重建輻射源的光譜圖,需采用離散傅里葉逆變換算法實現(xiàn)。
在傅里葉變換中,傅里葉變換的頻率分辨率用頻率采樣間隔δf描述,表示譜分析中能夠分辨的兩個頻譜分量的最小間隔,而此間隔與連續(xù)信號的在時域的持續(xù)時間t成反比。連續(xù)信號在時域的持續(xù)時間反映在干涉圖中,則是干涉圖的最大光程差。
為了實現(xiàn)橫坐標(biāo)的頻率標(biāo)定,則需要測量干涉圖的最大光程差。
在本發(fā)明所述的光譜定標(biāo)方法中,采用波長為808nm的窄帶激光器作為參考光源,測量干涉圖的瞬態(tài)最大光程差。
彈光調(diào)制干涉圖的瞬態(tài)光程差為:
式中d為晶體通光方向的厚度,λ為入射光的波長;n0(λ)為晶體在該波長的折射率;δ0是最大調(diào)制應(yīng)力;π12,π11不同通光方向的應(yīng)力彈光系數(shù)張量。
彈光調(diào)制干涉圖的最大光程差為:
公式中nr0(λ)為參考激光在該晶體中的折射率。
在傅里葉變換頻譜中,其頻率分辨率為:
在離散傅里葉變換中,各頻率點的指標(biāo)為:
公式中,n為離散的頻率點,k為離散傅里葉變換的點數(shù),f(n)為離散的頻率值。
由公式(20)可知,在驅(qū)動電壓、晶體尺寸一定條件下,各頻率點的坐標(biāo)是與不同波長(波數(shù))下折射率的三次方是相關(guān)的。而且晶體在不同波長下的折射率是一個變量,如圖2所示。
在彈光調(diào)制傅里葉變換光譜儀中,采用波長為808nm的激光測量最大光程差,并實現(xiàn)頻譜定標(biāo)。圖3是以808nm的激光定標(biāo)的光譜圖。因在此定標(biāo)中引入了折射率誤差,所以重建的光譜圖波數(shù)是錯誤的。
為了克服折射率引入的橫坐標(biāo)誤差,需利用各頻率點的折射率參數(shù)進(jìn)行校正。
znse晶體作為通光晶體,其光譜窗口為0.54~18.2μm(波數(shù)為549.45~18518),折射率與波長的關(guān)系為:
式中,α1=4.45813734,α2=0.467216334,α3=2.89566290,β1=0.200859853,β2=0.391371166,β3=47.1362108
轉(zhuǎn)換為折射率與波數(shù)的關(guān)系為:
式中,k=10000。根據(jù)公式(22),可計算出不同波數(shù)下的折射率。
由公式(12)可知,離散傅里葉變換的各個頻率坐標(biāo)是與折射率的三次方成反比,為了消除由參考激光折射率引入的誤差,可采用公式(24)進(jìn)行校正。
式中,nr0=2.5242,是在23℃環(huán)境下,znse晶體在808nm波長時的折射率;fc(n)為校正后的離散頻率值;n(n)為校正后第n個離散頻率點的折射率。
在公式(24)中,n(n)、fc(n)均為未知量,鑒于折射率是緩變的過程,在校正過程中,采用f(n),利用公式(23)計算其對應(yīng)的折射率。代替公式中的校正點的折射率n(n)。
基于公式(24)的校正方法,得到校正后的光譜圖,如圖4所示。因存在兩個未知數(shù),會引入一些定標(biāo)的誤差,如圖5所示。在近紅外波段,校正后的誤差是比較小的,滿足彈光調(diào)制傅里葉變換光譜儀的指標(biāo)要求;而在可見光波段誤差比較大。需要進(jìn)行二次校正。
二次校正,采用實驗校正的方法,對折射率進(jìn)行修正,使得整個工作波段滿足要求,如圖6所示。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施技術(shù)和數(shù)據(jù)處理方法,并不僅限于本發(fā)明。對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明的實施原理的前提下,做出的改進(jìn)、潤色,也屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。