技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種基于光譜干涉裝置的測量方法，主要解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的測量精度不足的技術(shù)問題，本發(fā)明通過采用所述測量系統(tǒng)包括光源，與光源依次連接的擴(kuò)束準(zhǔn)直透鏡、起偏器、檢偏器、自聚焦透鏡、光譜儀及數(shù)據(jù)處理單元；待測雙折射晶體連接于所述起偏器與檢偏器之間；所述起偏器用于將經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直透鏡輸出的平行光起偏為線偏振光；所述起偏器(的偏振軸與待測雙折射晶體的任意偏振軸有夾角θ；檢偏器與待測雙折射晶體的任意偏振軸夾角為45度的技術(shù)方案，較好的解決了該問題，可用于雙折射晶體厚度測量。

技術(shù)研發(fā)人員：不公告發(fā)明人
受保護(hù)的技術(shù)使用者：張家港市歐微自動化研發(fā)有限公司
文檔號碼：201710257791
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.19
技術(shù)公布日：2017.06.30