本發(fā)明屬于氣體檢測(cè)領(lǐng)域,更具體的涉及一種準(zhǔn)直和光程長(zhǎng)度調(diào)節(jié)氣體檢測(cè)裝置。
背景技術(shù):
氣體工業(yè)名詞術(shù)語(yǔ)。大多數(shù)氣體分子的振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)光譜都在紅外波段。當(dāng)入射紅外輻射的頻率與分子的振動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)特征頻率相同時(shí),紅外輻射就會(huì)被氣體分子所吸收,引起輻射強(qiáng)度的衰減。
利用這種氣體分子對(duì)紅外輻射吸收的原理而制成的紅外氣體分析儀,具有測(cè)量精度高,速度快以及能連續(xù)測(cè)定等特點(diǎn),在鋼鐵,石油化工,化肥,機(jī)械等工業(yè)部門(mén),紅外氣體分析儀是生產(chǎn)流程控制的重要監(jiān)測(cè)手段;在環(huán)境污染成分檢測(cè)和醫(yī)學(xué)生理研究等方面也都有許多成功的應(yīng)用。
紅外線分析儀常用的紅外線波長(zhǎng)為2-12μm。簡(jiǎn)單說(shuō)就是將待測(cè)氣體連續(xù)不斷的通過(guò)一定長(zhǎng)度和容積的容器,從容器可以透光的兩個(gè)端面的中的一個(gè)端面一側(cè)入射一束紅外光,然后在另一個(gè)端面測(cè)定紅外線的輻射強(qiáng)度,然后依據(jù)紅外線的吸收與吸光物質(zhì)的濃度成正比就可知道被測(cè)氣體的濃度。
朗伯—比爾定律——其物理意義是當(dāng)一束平行單色光垂直通過(guò)某一均勻非散射的吸光物質(zhì)時(shí)其吸光度與吸光物質(zhì)的濃度及吸收層厚度成正比。這就是紅外線氣體分析儀的測(cè)量依據(jù)。
衛(wèi)生防疫部門(mén)、環(huán)境檢測(cè)站等部門(mén),對(duì)賓館、商店、影劇院、舞廳、醫(yī)院、車(chē)廂、船艙等公共場(chǎng)合的各種氣體濃度的測(cè)定。也可用于實(shí)驗(yàn)室分析。
根據(jù)用戶(hù)的不同需求,該原理儀器主要用于測(cè)量CO2、CO,CH4、SO2等氣體濃度。
由于檢測(cè)裝置對(duì)于氣室的準(zhǔn)直性要求較高,且目前氣室大多數(shù)固定長(zhǎng)度,對(duì)于不同的光程無(wú)法調(diào)節(jié),適應(yīng)性較差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
1、發(fā)明目的。
本發(fā)明提出了一種準(zhǔn)直和光程長(zhǎng)度調(diào)節(jié)氣體檢測(cè)裝置,可以調(diào)節(jié)氣室的長(zhǎng)度,提高氣室的準(zhǔn)直性,從而提高檢測(cè)的精度。
2、本發(fā)明所采用的技術(shù)方案。
為了能夠?qū)崿F(xiàn)光源及基座和探測(cè)器及基座相對(duì)位置可變,且提高光程準(zhǔn)直性。本發(fā)明提出的一種準(zhǔn)直和光程長(zhǎng)度調(diào)節(jié)氣體檢測(cè)裝置,包括光源及基座、管狀氣室、探測(cè)器及基座、主電路板;光源及基座和探測(cè)器及基座為立方體結(jié)構(gòu)且平行設(shè)置,管狀氣室位于光源及基座和探測(cè)器及基座之間并穿過(guò)光源及基座和探測(cè)器及基座內(nèi)部,光源及基座和探測(cè)器及基座安裝在主電路板上相對(duì)位置可變,在光源及基座和探測(cè)器及基座的內(nèi)部,通過(guò)四根限位導(dǎo)桿對(duì)管狀氣室進(jìn)行準(zhǔn)直,其中兩根限位導(dǎo)桿位于管狀氣室的上下兩側(cè),兩根限位導(dǎo)桿水平設(shè)置位于管狀氣室的左右兩側(cè),且上下兩側(cè)的限位導(dǎo)桿不在一個(gè)垂直線上,水平設(shè)置的限位導(dǎo)桿相對(duì)平行。
為了避免對(duì)氣室的干擾,還包括滑動(dòng)導(dǎo)桿,還包括滑動(dòng)導(dǎo)桿,設(shè)置在光源及基座的外部下方位置。
更進(jìn)一步具體實(shí)施方式中,主電路板設(shè)置與光源及基座下方滑動(dòng)導(dǎo)桿相配合的滑動(dòng)導(dǎo)軌。
為了提高光源及基座和探測(cè)器及基座之間的準(zhǔn)直性,所述的滑動(dòng)導(dǎo)軌為平行的兩個(gè)滑動(dòng)導(dǎo)軌。
為了避免滑動(dòng)導(dǎo)軌對(duì)電路板的干擾,滑動(dòng)導(dǎo)軌的下方設(shè)置固定支架。
為了不只避免滑動(dòng)導(dǎo)軌對(duì)電路板的干擾,進(jìn)一步提高滑動(dòng)導(dǎo)軌的穩(wěn)定性,降低環(huán)境的震動(dòng)對(duì)滑動(dòng)導(dǎo)軌準(zhǔn)直性的影響,設(shè)置4個(gè)支架位于滑動(dòng)導(dǎo)軌的四角。
更進(jìn)一步具體實(shí)施方式中,還包括光源驅(qū)動(dòng)電路板安裝在光源及基座上。
更進(jìn)一步具體實(shí)施方式中,還包括放大電路安裝在探測(cè)器及基座上。
更進(jìn)一步具體實(shí)施方式中,還包括接口安裝在主電路板上。
3、本發(fā)明所產(chǎn)生的技術(shù)效果。
(1)本發(fā)明通過(guò)水平相對(duì)調(diào)節(jié),同時(shí)對(duì)限位導(dǎo)桿的位置進(jìn)行調(diào)整設(shè)置,將水平調(diào)節(jié)以及水平的氣室不穩(wěn)定問(wèn)題,通過(guò)垂直限位導(dǎo)桿不在同一垂直線上配合水平導(dǎo)桿,實(shí)現(xiàn)水平方向氣室的穩(wěn)定性,提高了檢測(cè)的精度。
(2)本發(fā)明滑動(dòng)導(dǎo)桿,設(shè)置在光源及基座的外部,降低了對(duì)氣室的干擾。
(3)本發(fā)明通過(guò)設(shè)置平行的兩個(gè)滑動(dòng)導(dǎo)軌,提高光源及基座和探測(cè)器及基座之間的準(zhǔn)直性。
(4)本發(fā)明滑動(dòng)導(dǎo)軌的下方設(shè)置固定支架,避免滑動(dòng)導(dǎo)軌對(duì)電路板的干擾。
(5)本發(fā)明設(shè)置4個(gè)支架位于滑動(dòng)導(dǎo)軌的四角,進(jìn)一步提高滑動(dòng)導(dǎo)軌的穩(wěn)定性。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)圖。
圖2為本發(fā)明的氣室縮短結(jié)構(gòu)圖。
圖3為本發(fā)明的氣室延長(zhǎng)結(jié)構(gòu)圖。
圖4為本發(fā)明的剖視圖。
圖5為本發(fā)明的附視圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明:
光源驅(qū)動(dòng)電路板1、光源及基座2、管狀氣室3、探測(cè)器及基座4、放大電路5、滑動(dòng)導(dǎo)軌6、主電路板7、接口8、限位導(dǎo)桿9。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
為了能夠?qū)崿F(xiàn)光源及基座和探測(cè)器及基座相對(duì)位置可變,且提高光程準(zhǔn)直性。本發(fā)明提出的一種準(zhǔn)直和光程長(zhǎng)度調(diào)節(jié)氣體檢測(cè)裝置,包括光源及基座2、管狀氣室3、探測(cè)器及基座4、主電路板7;光源及基座2和探測(cè)器及基座4為立方體結(jié)構(gòu)且平行設(shè)置,管狀氣室3位于光源及基座2和探測(cè)器及基座4之間并穿過(guò)光源及基座2和探測(cè)器及基座4內(nèi)部,光源及基座2和探測(cè)器及基座4安裝在主電路板7上相對(duì)位置可變,在光源及基座2和探測(cè)器及基座4的內(nèi)部,通過(guò)四根限位導(dǎo)桿9對(duì)管狀氣室3進(jìn)行準(zhǔn)直,其中兩根限位導(dǎo)桿9位于管狀氣室3的上下兩側(cè),兩根限位導(dǎo)桿9水平設(shè)置位于管狀氣室3的左右兩側(cè),且上下兩側(cè)的限位導(dǎo)桿9不在一個(gè)垂直線上,水平設(shè)置的限位導(dǎo)桿9相對(duì)平行。
實(shí)施例2
本發(fā)明提出的一種準(zhǔn)直和光程長(zhǎng)度調(diào)節(jié)氣體檢測(cè)裝置,包括光源及基座2、管狀氣室3、探測(cè)器及基座4、主電路板7;光源及基座2和探測(cè)器及基座4為立方體結(jié)構(gòu)且平行設(shè)置,管狀氣室3位于光源及基座2和探測(cè)器及基座4之間并穿過(guò)光源及基座2和探測(cè)器及基座4內(nèi)部,光源及基座2和探測(cè)器及基座4安裝在主電路板7上相對(duì)位置可變,滑動(dòng)導(dǎo)桿設(shè)置在光源及基座的外部下方位置。主電路板7設(shè)置與光源及基座2下方滑動(dòng)導(dǎo)桿相配合的滑動(dòng)導(dǎo)軌,所述的滑動(dòng)導(dǎo)軌為平行的兩個(gè)滑動(dòng)導(dǎo)軌。
在光源及基座2和探測(cè)器及基座4的內(nèi)部,通過(guò)四根限位導(dǎo)桿9對(duì)管狀氣室3進(jìn)行準(zhǔn)直,其中兩根限位導(dǎo)桿9位于管狀氣室3的上下兩側(cè),兩根限位導(dǎo)桿9水平設(shè)置位于管狀氣室3的左右兩側(cè),且上下兩側(cè)的限位導(dǎo)桿9不在一個(gè)垂直線上,水平設(shè)置的限位導(dǎo)桿9相對(duì)平行。
為了避免滑動(dòng)導(dǎo)軌對(duì)電路板的干擾,滑動(dòng)導(dǎo)軌的下方設(shè)置固定支架。
為了不只避免滑動(dòng)導(dǎo)軌對(duì)電路板的干擾,進(jìn)一步提高滑動(dòng)導(dǎo)軌的穩(wěn)定性,降低環(huán)境的震動(dòng)對(duì)滑動(dòng)導(dǎo)軌準(zhǔn)直性的影響,設(shè)置4個(gè)支架位于滑動(dòng)導(dǎo)軌的四角。光源驅(qū)動(dòng)電路板1安裝在光源及基座上4。放大電路5安裝在探測(cè)器及基座4上。接口安裝在主電路板1上。
上述實(shí)施例為本發(fā)明較佳的實(shí)施方式,但本發(fā)明的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制,其他的任何未背離本發(fā)明的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡(jiǎn)化,均應(yīng)為等效的置換方式,都包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。