本發(fā)明涉及用于檢測物體的位移量或者位移方向的光學(xué)編碼器的光學(xué)編碼器用柵格板以及光學(xué)編碼器用柵格板的制造方法。

背景技術(shù)：

專利文獻1提出了一種光學(xué)編碼器用柵格板的方案，所述光學(xué)編碼器用柵格板由單層結(jié)構(gòu)的金屬板構(gòu)成，所述單層結(jié)構(gòu)的金屬板至少在一面?zhèn)染邆洌簩嵤┝绥R面加工的表面；多個凹部，具有光反射率比該表面低的底面(例如權(quán)利要求1)。

在專利文獻1中，記載有使用不銹鋼制的板作為金屬板(例如第0011段)，并記載有在凹部上通過黑色鉻鍍敷而形成鍍層(例如第0024段)。

專利文獻2提出了一種光學(xué)編碼器用柵格板的方案，所述光學(xué)編碼器用柵格板具備：基材，表面具有導(dǎo)電性并形成了光反射面；吸光性的柵格，所述吸光性的柵格通過鍍敷方法形成于該基材的表面并且在基材上以預(yù)定間距排列(例如權(quán)利要求1)。

在專利文獻2中，記載有使用不銹鋼作為基材，通過黑色鍍敷構(gòu)成吸光性的柵格(例如第0017段)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本國特開2013-117512號公報

專利文獻2：日本國特開2013-108873號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的技術(shù)問題

在專利文獻1中，通過蝕刻形成凹部(例如第0017段)。在像這樣地利用蝕刻形成凹部的情況下，一般難于使得凹部的寬度比50μm稍大、凹部的深度為10μm以下的尺寸。

此外，在通過蝕刻形成凹部的情況下，因為在凹部壁面(成為與鏡面的邊界的壁面)形成了側(cè)邊緣(加工錐度)，所以不能形成垂直面。

因此，在如專利文獻1那樣的利用蝕刻形成凹部的方法中，鏡面和凹部底面的高低差為10μm以上。所以，照射光以30度～75度的角度照射在反射面的情況下，由于10μm以上的凹部壁面的影響，進而由于凹部壁面的側(cè)邊緣(加工錐度)的影響，產(chǎn)生漫反射，因此SN比降低。

雖然在專利文獻2中，記載有使黑色鍍敷形成為10μm以下的薄膜，但是作為電鍍法不過是記載了一般的薄膜厚度。

光學(xué)編碼器使用可視光或者近紅外光作為照射光，照射光以30度～75度的角度照射在反射面，接受由反射面反射的照射光，由此來檢驗物體的位移量或者位移方向。在用于這樣的光學(xué)編碼器中的光學(xué)編碼器柵格板中，需要使高反射面和低反射面的高低差變小，在如專利文獻1那樣地利用蝕刻形成凹部的方法中是存在限度的。

此外，為了形成剝落性強、鍍敷的均鍍良好、較薄的黑色鍍敷層，并實現(xiàn)高SN比，需要考慮基材的表面的粗糙度的影響。

本發(fā)明的目的在于提供一種剝落性強、鍍敷的均鍍良好、并且能夠?qū)崿F(xiàn)高SN比的光學(xué)編碼器用柵格板以及光學(xué)編碼器用柵格板的制造方法。

用于解決上述技術(shù)問題的方案

技術(shù)方案1所述的本發(fā)明的光學(xué)編碼器用柵格板，用于光學(xué)編碼器，所述光學(xué)編碼器使用可視光或者近紅外光作為照射光，接受由反射面反射的反射光，由此檢測物體的位移量或者位移方向，所述光學(xué)編碼器用柵格板具有：將一方的表面作為所述反射面的基材；和在所述表面以預(yù)定的柵格寬度排列的柵格，使用金屬作為所述基材，利用黑色鍍敷層形成所述柵格，所述金屬的所述表面的平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍，所述黑色鍍敷層的厚度比3μm薄。

技術(shù)方案2所述的本發(fā)明，其特征在于，在技術(shù)方案1所述的光學(xué)編碼器柵格板中，所述黑色鍍敷層的所述厚度比0.3μm厚。

技術(shù)方案3所述的本發(fā)明，其特征在于，在技術(shù)方案2所述的光學(xué)編碼器用柵格板中，所述黑色鍍敷層的所述厚度為1.0μm～2.5μm的范圍。

技術(shù)方案4所述的本發(fā)明，其特征在于，在技術(shù)方案1～3的任一項所述的光學(xué)編碼器用柵格板中，在所述金屬的所述表面以預(yù)定的排列形成抗蝕劑，在所述抗蝕劑之間形成所述黑色鍍敷層，通過除去所述抗蝕劑而使所述反射面露出。

技術(shù)方案5所述的本發(fā)明，其特征在于，在技術(shù)方案4所述的光學(xué)編碼器用柵格板中，所述柵格寬度為10μm～100μm的范圍。

技術(shù)方案6所述的本發(fā)明，其特征在于，在技術(shù)方案1～5的任一項所述的光學(xué)編碼器用柵格板，使用不銹鋼作為所述金屬。

技術(shù)方案7所述的本發(fā)明的光學(xué)編碼器用柵格板的制作方法，用于光學(xué)編碼器，其特征在于：所述光學(xué)編碼器使用可視光或者近紅外光作為照射光，以30度～75度的角度對反射面照射所述照射光，接受從所述反射面反射的反射光，由此檢測物體的位移量或者位移方向，所述光學(xué)編碼器用柵格板具有將一方的表面作為所述反射面的基材、和在所述表面以預(yù)定的柵格寬度排列的柵格，使用金屬作為所述基材，利用黑色鍍敷層形成所述柵格，在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的所述金屬的所述表面，以10μm～100μm的范圍的所述柵格寬度形成抗蝕劑，在所述抗蝕劑之間形成厚度為比0.3μm厚比3μm薄的范圍的所述黑色鍍敷層，通過除去所述抗蝕劑而使所述反射面露出。

發(fā)明效果

本發(fā)明的光學(xué)編碼器用柵格板，剝落性強、鍍敷的均鍍良好，并且能夠?qū)崿F(xiàn)高SN比。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的實施例的光學(xué)編碼器用柵格板的基本構(gòu)成圖。

圖2a是用于旋轉(zhuǎn)編碼器的光學(xué)編碼器用柵格板的俯視圖，圖2b是用于線性編碼器的光學(xué)編碼器用柵格板的俯視圖。

圖3是示出本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板的制造方法的工序圖。

圖4是示出鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的圖。

圖5是示出實施例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖6是示出實施例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖7是示出實施例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖8是示出實施例4的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖9是示出實施例5的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖10是示出實施例6的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖11是示出比較例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖12是示出比較例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖13是示出比較例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖14是示出實施例7的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖15是示出實施例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖16是示出實施例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖17是示出實施例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖18是示出實施例4的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖19是示出實施例5的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖20是示出實施例6的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖21是示出比較例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖22是示出比較例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖23是示出比較例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖24是示出實施例7的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖25是示出實施例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖26是示出實施例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖27是示出實施例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖28是示出實施例4的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖29是示出實施例5的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖30是示出實施例6的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖31是示出比較例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖32是示出比較例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖33是示出比較例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖34是示出實施例7的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的剝落結(jié)果的照片。

圖35是示出實施例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖36是示出實施例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖37是示出實施例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖38是示出實施例4的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖39是示出實施例5的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖40是示出實施例6的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖41是示出比較例1的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖42是示出比較例2的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖43是示出比較例3的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖44是示出實施例7的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖45是示出比較例4的鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的鍍敷表面的狀態(tài)的、在2500倍下拍攝的照片。

圖46是示出基材的表面粗糙度和反射率的圖。

具體實施方式

本發(fā)明的第1實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板，使金屬的表面的平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍、黑色鍍敷層的厚度比3μm薄。根據(jù)本實施方式，在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面即金屬上，形成比3μm薄的黑色鍍敷層，由此剝落性強，在反射面處的反射率為60％以上、在黑色鍍敷層處的反射率為5％以內(nèi)，能夠獲得高SN比。

本發(fā)明的第2實施方式，在第1實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板中，使黑色鍍敷層的厚度比0.3μm厚。根據(jù)本實施方式，在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面即金屬上，形成比0.3μm厚的黑色鍍敷層，由此鍍敷的均鍍良好，在黑色鍍敷層處的反射率為3％以內(nèi)。

本發(fā)明的第3實施方式，在第2實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板中，使黑色鍍敷層的厚度為1.0μm～2.5μm的范圍。根據(jù)本實施方式，在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面即金屬上，形成1.0μm～2.5μm的范圍的厚度的黑色鍍敷層，由此不會產(chǎn)生裂痕，而處于良好鍍敷的狀態(tài)，在黑色鍍敷層處的反射率為3％以內(nèi)。

本發(fā)明的第4實施方式，在第1～第3的任一項實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板中，在金屬的表面以預(yù)定的排列形成抗蝕劑，在抗蝕劑之間形成黑色鍍敷層，通過除去抗蝕劑而使反射面露出。根據(jù)本實施方式，因為不需要在黑色鍍敷層的基底進行粗化處理或者蝕刻，所以能夠提高柵格的精度。

本發(fā)明的第5實施方式，在第4實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板中，使柵格寬度為10μm～100μm的范圍。根據(jù)本實施方式，不蝕刻黑色鍍敷層地形成柵格，使得柵格寬度的精度為2μm以下，所以也能夠?qū)?yīng)于10μm的柵格寬度，在100μm以下的柵格寬度中的應(yīng)用效果好。

本發(fā)明的第6實施方式，在第1～第5的任一項實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板中，使用不銹鋼作為金屬。根據(jù)本實施方式，耐腐蝕性優(yōu)良。

本發(fā)明的第7實施方式的光學(xué)編碼器用柵格板的制作方法，在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面即金屬上，以10μm～100μm的范圍的柵格寬度形成抗蝕劑，在抗蝕劑之間形成厚度為比0.3μm厚比3μm薄的范圍的黑色鍍敷層，通過除去抗蝕劑而使反射面露出。根據(jù)本實施方式，因為不對基材或柵格進行蝕刻處理而形成反射面和柵格，所以能夠使反射面和柵格的高低差小，能夠消除在柵格的側(cè)面產(chǎn)生的側(cè)邊緣(加工錐度)。

實施例

以下對本發(fā)明的實施例和附圖進行說明。

圖1是本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板的基本構(gòu)成圖。

本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板10，具有將一方的表面作為反射面的基材20和在基材20的表面以預(yù)定的柵格寬度排列的柵格30。使用金屬作為基材20，利用黑色鍍敷層形成柵格30。作為基材20，例如不銹鋼比較合適，也能夠使用鎳合金。作為不銹鋼，SUS304、SUS430、SUS316或者SUS301特別地合適。在SUS304的情況下，基材20通用性較高，在SUS430的情況下，基材20具有與玻璃材料相近的線膨脹系數(shù)。通過使用這些材料，能夠做成受溫度變化影響小的柵格板。

使用本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板10的光學(xué)編碼器，在發(fā)光源1中使用可視光或者近紅外光作為照射光，以30度～75度的角度對反射面照射照射光，受光元件2接受由反射面反射的反射光，由此檢測物體的位移量或者位移方向。

圖2a是用于旋轉(zhuǎn)編碼器的光學(xué)編碼器用柵格板的俯視圖，圖2b是用于線性編碼器的光學(xué)編碼器用柵格板的俯視圖。

如圖2a所示，本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板10a形成為：從標準圓的中心到柵格30a的外周的半徑為12～13mm、柵格30a的半徑方向長度為0.4～0.8mm、柵格30a的寬度(圓周方向長度)為10μm～100μm、柵格30a之間的反射面的寬度(圓周方向長度)為10μm～100μm的范圍。柵格30a的寬度(圓周方向長度)以及柵格30a之間的反射面的寬度(圓周方向長度)即便在50μm以下，也能夠維持高SN比。

如圖2b所示，本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板10b形成為：柵格30b的長度為0.4～0.8mm、柵格30b的寬度(測量方向長度)為10μm～100μm、柵格30b之間的反射面的寬度(測量方向長度)為10μm～100μm的范圍。柵格30b的寬度(測量方向長度)以及柵格30b之間的反射面的寬度(測量方向長度)即便在50μm以下，也能夠維持高SN比。

在光學(xué)編碼器中，存在反射面的寬度為任意的形式即絕對式編碼器、和反射面的寬度為一定的形式即增量式編碼器。本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板10能夠應(yīng)用于任何的形式。

圖3是示出本實施例的光學(xué)編碼器用柵格板的制造方法的工序圖。

本實施例中使用的基材20以如下的方式加工出鏡面：成為反射面的表面21的平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍，優(yōu)選是0.008μm～0.03μm的范圍。

如圖3b所示，在成為反射面的表面21上形成抗蝕劑22，使得柵格寬度處于10μm～100μm的范圍?？刮g劑22的厚度比形成的黑色鍍敷層的厚度厚即可。

而且，如圖3c所示，在抗蝕劑22之間形成厚度為比0.3μm厚比3μm薄的范圍的黑色鍍敷層作為柵格30。

之后，如圖3d所示，通過除去抗蝕劑22使反射面(表面21)露出。

另外，作為黑色鍍敷，雖然黑鉻鍍敷比較合適，但也可以使用使銅氧化后進行黑化處理得到的產(chǎn)物。

根據(jù)本實施例的制造方法，因為不對基材20或柵格30進行蝕刻處理而形成反射面和柵格30，所以能夠使反射面和柵格30的高低差小，能夠消除在柵格30的側(cè)面產(chǎn)生的側(cè)邊緣(加工錐度)。

此外，根據(jù)本實施例的制造方法，柵格板10形成為：在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面21即基材20上，形成比3μm薄的黑色鍍敷層作為柵格30。由此，剝落性強，在反射面處反射率為60％以上，在黑色鍍敷層處反射率為5％以內(nèi)，能夠得到高SN比。

此外，根據(jù)本實施例的制造方法，柵格板10形成為：在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面21即基材20上形成比0.3μm厚的黑色鍍敷層作為柵格30。由此鍍敷的均鍍良好，黑色鍍敷層處的反射率為3％以內(nèi)。

此外，根據(jù)本實施例的制造方法，柵格板10形成為：在平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍的表面21即基材20上，形成厚度范圍為1.0μm～2.5μm的黑色鍍敷層作為柵格30。由此，不會產(chǎn)生裂痕，而處于良好鍍敷的狀態(tài)，黑色鍍敷層處的反射率為3％以內(nèi)。

圖4是示出鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的圖。

從實施例1到實施例6以及比較例1到比較例3，使用以下的經(jīng)鏡面加工處理后的SUS304作為基材20，：板厚t＝0.1mm，平均粗糙度Ra＝0.01μm，十點平均粗糙度Rz＝0.062μm，最大高度Ry＝0.074μm。

實施例1，在15A、3.8V、31A/dm²、2分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為0.344μm。另外，在膜厚測量中，使用表面粗糙度測量儀(株式會社三豐SV-524)，將在5點測量的平均值作為平均膜厚。以下的膜厚測量也同樣。

實施例2，在15A、4.3V、31A/dm²、4分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為0.519μm。

實施例3，在15A、4.1V、31A/dm²、5分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為0.966μm。

實施例4，在15A、4.3V、31A/dm²、6分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為1.395μm。

實施例5，在15A、4.3V、31A/dm²、10分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為1.994μm。

實施例6，在15A、3.9V、31A/dm²、12分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為2.346μm。

比較例1，在15A、4.3V、31A/dm²、12分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為3.247μm。

比較例2，在15A、4.0V、31A/dm²、14分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為5.154μm。

比較例3，在15A、4.1V、31A/dm²、17分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為6.362μm。

從圖5到圖14是示出鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的反射率的特性圖。

圖5是示出實施例1的反射率的特性圖，圖6是示出實施例2的反射率的特性圖，圖7是示出實施例3的反射率的特性圖，圖8是示出實施例4的反射率的特性圖，圖9是示出實施例5的反射率的特性圖，圖10是示出實施例6的反射率的特性圖，圖11是示出比較例1的反射率的特性圖，圖12是示出比較例2的反射率的特性圖，圖13是示出比較例3的反射率的特性圖，圖14是示出實施例7的反射率的特性圖。

實施例7使用了以下的經(jīng)鏡面加工處理后的SUS430作為基材20：板厚t＝0.1mm，平均粗糙度Ra＝0.035μm，十點平均粗糙度Rz＝0.105μm，最大高度Ry＝0.235μm。另外，表面粗糙度使用接觸式測量儀進行測量。

實施例7在160A、4.6V、35A/dm²、15分的條件下進行了鍍敷處理。平均膜厚為0.75μm。

在鍍敷層的反射率的測量中，使用分光反射計(奧林巴斯制工學(xué)測量裝置USPM-RU)。測量波長區(qū)域為380nm～780nm。

實施例1～實施例7以及比較例1～3的反射率都在5％以內(nèi)。因為在使用玻璃基板作為基材20而進行鉻掩膜的情況下，反射率為5％，所以包含比較例在內(nèi)，低反射功能都較為充分。另外，在實施例2以及實施例3中，因為反射率為1.5％以內(nèi)，所以在平均膜厚0.5μm～1.0μm中低反射功能特別優(yōu)良。

圖15至圖24是示出鍍敷層的膜厚試驗結(jié)果的裂痕的照片。

圖15是示出實施例1的裂痕的照片，圖16是示出實施例2的裂痕的照片，圖17是示出實施例3的裂痕的照片，圖18是示出實施例4的裂痕的照片，圖19是示出實施例5的裂痕的照片，圖20是示出實施例6的裂痕的照片，圖21是示出比較例1的裂痕的照片，圖22是示出比較例2的裂痕的照片，圖23是示出比較例3的裂痕的照片，圖24是示出實施例7的裂痕的照片。

在試驗中，在數(shù)碼顯微鏡(基恩士制)下觀察鍍敷層。圖15～圖22、圖24是在2500倍下拍攝的照片，圖23是在250倍下拍攝的照片。

如圖23所示，在膜厚為6.3μm的比較例3中，即便在250倍率下也能明顯地觀察到產(chǎn)生了裂痕。此外，如比較例1所示，若膜厚超過3μm，則在2500倍觀察下可知產(chǎn)生了裂痕。

圖25至圖34是示出鍍敷層的膜厚試驗的剝落結(jié)果的照片。

圖25是示出實施例1的剝落結(jié)果的照片，圖26是示出實施例2的剝落結(jié)果的照片，圖27是示出實施例3的剝落結(jié)果的照片，圖28是示出實施例4的剝落結(jié)果的照片，圖29是示出實施例5的剝落結(jié)果的照片，圖30是示出實施例6的剝落結(jié)果的照片，圖31是示出比較例1的剝落結(jié)果的照片，圖32是示出比較例2的剝落結(jié)果的照片，圖33是示出比較例3的剝落結(jié)果的照片，圖34是示出實施例7的剝落結(jié)果的照片。

試驗中，用劃線針在鍍敷層上劃傷，在劃線處貼上有粘性的膠布后撕下膠布，觀察鍍敷層的剝落。在數(shù)碼顯微鏡(基恩士制)下觀察剝落的狀態(tài)。圖25～圖34是在300倍下拍攝的照片。

實施例1～實施例7的鍍敷層的剝落都極小，但是比較例1～3都因粘性膠布產(chǎn)生了剝落。

圖35～圖45是示出鍍敷層的膜厚試驗的鍍敷表面的狀態(tài)的照片。

圖35是示出實施例1的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖36是示出實施例2的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖37是示出實施例3的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖38是示出實施例4的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖39是示出實施例5的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖40是示出實施例6的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖41是示出比較例1的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖42是示出比較例2的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖43是示出比較例3的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖44是示出實施例7的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片，圖45是示出比較例4的鍍敷表面狀態(tài)而在2500倍下拍攝的照片。

比較例4使用了以下的經(jīng)鏡面加工處理后的SUS304作為基材20：板厚t＝0.1mm，平均粗糙度Ra＝0.01μm，十點平均粗糙度Rz＝0.062μm，最大高度Ry＝0.074μm。通過蝕刻機將基材20在深度為10μm到15μm的范圍進行蝕刻，進而在10％鹽酸中浸泡30秒，對表面21進行粗糙化處理。經(jīng)粗糙化處理，平均粗糙度Ra＝0.2μm。

比較例4是在25A、5V、5分的條件下進行鍍敷處理。鍍敷膜厚為1.5μm。

試驗中，在數(shù)碼顯微鏡(株式會社基恩士VHX-2000)下觀察鍍敷層。

關(guān)于鍍敷層的顏色，雖然在照片中難以辨別，但是在實施例1～實施例3、比較例4中為黑色，在實施例4～實施例7中為深棕色，比較例1～比較例3中為茶色。

關(guān)于鍍敷狀態(tài)，在比較例1～比較例3中，一部分存在內(nèi)部發(fā)粘，能夠觀察到鍍敷層的剝落。特別是在比較例2以及比較例3中，在縫隙部產(chǎn)生了鍍敷層的剝落。另外，在比較例1中，縫隙部的鍍敷狀態(tài)良好。

在實施例1～實施例7中，并沒有像比較例1～比較例3那樣觀察到了鍍敷層的剝落。但是，在實施例1以及實施例2中，能夠觀察到一部分處于鍍敷沒有充分貼附的狀態(tài)。

雖然比較例4鍍敷的均鍍良好，但是在縫隙部產(chǎn)生了凹凸。

圖46是示出基材的表面粗糙度和反射率的圖。

如圖46b的作為“基材5”示出的那樣，若不銹鋼的表面21的平均粗糙度Ra為0.07μm，則在反射面的平均反射率降低至42％。

在不銹鋼的表面21的平均粗糙度Ra為0.008μm～0.05μm的范圍，能夠得到60％以上的平均反射率。

如上所述，根據(jù)本實施例，能夠使得黑色鍍敷層處的反射率為3％以下，反射面處的反射率為60％以上，不蝕刻地形成黑色鍍敷層，由此能夠得到高SN比。

工業(yè)實用性

本發(fā)明的光學(xué)編碼器用柵格板能夠用于旋轉(zhuǎn)編碼器或者線性編碼器。

附圖標記說明

1 發(fā)光源

2 受光元件

10 光學(xué)編碼器用柵格板

20 基材

21 表面

22 抗蝕劑

30 柵格