本實(shí)用新型涉及晶硅太陽(yáng)能制造領(lǐng)域，具體涉及一種噴蠟機(jī)臺(tái)的快速定位裝置。

背景技術(shù)：

太陽(yáng)能作為最環(huán)保與普遍的清潔能源替代原來(lái)的煤炭等高污染能源，成為了現(xiàn)在各方面研究的重點(diǎn)方向之一。晶硅太陽(yáng)能電池是目前利用太陽(yáng)能最廣泛與有效的手段，而SE（選擇性刻蝕）電池因其工藝簡(jiǎn)單，與產(chǎn)線兼容性強(qiáng)，而且能有效的提高光電轉(zhuǎn)換效率成為目前晶硅電池的主流。SE電池生產(chǎn)工藝中最重要的一步即通過(guò)噴蠟制備正面掩膜，在噴蠟過(guò)程中需要對(duì)噴蠟蠟重進(jìn)行點(diǎn)檢，有時(shí)還會(huì)出現(xiàn)圖形偏移、缺失，不同的電池片需要對(duì)噴蠟圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)換。遇到上述幾種情況下，我們就需要把噴蠟的模式改為手動(dòng)噴蠟，并對(duì)硅片進(jìn)行定位，而傳統(tǒng)的定位方式就是員工手持電池片進(jìn)行定位，很難達(dá)到一次定位，浪費(fèi)時(shí)間而且由于噴蠟機(jī)臺(tái)比較大，靠近里面的硅片需要員工爬上噴蠟機(jī)臺(tái)進(jìn)行定位放置，增加危險(xiǎn)性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是提供一種噴蠟機(jī)臺(tái)的快速定位裝置，達(dá)到一次定位的效果，節(jié)約時(shí)間，減少員工操作過(guò)程中的危險(xiǎn)系數(shù)。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)解決方案是：一種噴蠟機(jī)臺(tái)的快速定位裝置，主要由上部硅片放置區(qū)、下部定位區(qū)及把手（3）組成，所述的上部硅片放置區(qū)為開(kāi)口結(jié)構(gòu)，由背板（5）及兩塊側(cè)擋板（1）組成；所述的下部定位區(qū)為開(kāi)口結(jié)構(gòu)，由背板（5）及兩塊側(cè)擋板（2）組成；所述的側(cè)擋板（1）和（2）均為可活動(dòng)結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)為平移、插拔結(jié)構(gòu)中的一種；所述的上部硅片放置區(qū)的下表面（4）為向內(nèi)傾斜結(jié)構(gòu)，傾斜的角度為1到3度；所述的把手（3）為可伸縮結(jié)構(gòu)。

綜上所述，由于采用上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是：在手動(dòng)噴蠟狀態(tài)下，可以一次定位硅片位置，節(jié)約時(shí)間，減少員工操作過(guò)程中的危險(xiǎn)系數(shù)，可活動(dòng)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)使定位裝置可以適用于各種尺寸的硅片及噴墨臺(tái)。

附圖說(shuō)明

圖1 本實(shí)用新型提供的一種噴蠟機(jī)臺(tái)的快速定位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖

圖中：1表示上部硅片放置區(qū)的側(cè)擋板；2表示下部定位區(qū)的側(cè)擋板；3表示把手；4表示上部硅片放置區(qū)的下表面；5表示背板。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

參照?qǐng)D1，一種噴蠟機(jī)臺(tái)的快速定位裝置，包括上部硅片放置區(qū)、下部定位區(qū)及把手（3）；側(cè)擋板（1）的厚度為5mm，與背板（5）形成的最大區(qū)域?yàn)殚L(zhǎng)157mm，寬157mm，下表面（4）向內(nèi)傾斜，傾斜角度為1度；下部定位區(qū)側(cè)擋板厚度為5mm形成最大區(qū)域?yàn)殚L(zhǎng)136mm，寬136mm，高12mm；側(cè)擋板（1）和（2）均可以平移改變形成區(qū)域大??；把手（3）為伸縮桿結(jié)構(gòu)。

最后所應(yīng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍中。