1.一種全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，包括：

樣品載物臺(tái)，所述樣品載物臺(tái)用于放置待測(cè)樣品；

X射線管，所述X射線管用于向所述樣品載物臺(tái)發(fā)射X射線，所述X射線管為兩個(gè)以上，所述X射線管繞所述樣品載物臺(tái)周向設(shè)置；

探測(cè)器，所述探測(cè)器用于接收經(jīng)過所述待測(cè)樣品反射出的X熒光；及

傾斜角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述傾斜角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與所述樣品載物臺(tái)傳動(dòng)相連，所述傾斜角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于調(diào)整所述樣品載物臺(tái)朝向其中一個(gè)所述X射線管的發(fā)射端傾斜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述傾斜角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)，所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)與所述樣品載物臺(tái)傳動(dòng)相連，所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)用于調(diào)整所述樣品載物臺(tái)相對(duì)于水平面的傾斜角度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，還包括高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)，所述高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)與所述樣品載物臺(tái)傳動(dòng)相連，所述高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)用于驅(qū)動(dòng)所述樣品載物臺(tái)升降動(dòng)作。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線管為兩個(gè)，其中一個(gè)所述X射線管設(shè)置在所述樣品載物臺(tái)的一側(cè)，另一個(gè)所述X射線管設(shè)置在所述樣品載物臺(tái)的另一側(cè)，所述探測(cè)器設(shè)置在所述樣品載物臺(tái)的正上方。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述傾斜角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)還包括轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)與所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)傳動(dòng)相連，所述轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，還包括控制器，所述控制器與所述X射線管、所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)、所述轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)電性連接，所述控制器用于控制所述X射線管是否發(fā)射X射線、用于控制所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)傾斜偏轉(zhuǎn)的角度、以及用于控制所述轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線管的發(fā)射端設(shè)有準(zhǔn)直器。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，還包括吹掃機(jī)構(gòu)，所述吹掃機(jī)構(gòu)用于將抗干擾氣體吹向所述樣品載物臺(tái)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述吹掃機(jī)構(gòu)包括輸氣管與氣體流量計(jì)，所述氣體流量計(jì)裝設(shè)在所述輸氣管上，所述氣體流量計(jì)設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥，所述輸氣管的輸出端朝向所述樣品載物臺(tái)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的全反射X射線熒光分析系統(tǒng)，其特征在于，所述抗干擾氣體為氮?dú)?、二氧化碳或氧氣?/p>