技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了一種全反射X射線熒光分析裝置，包括：樣品載物臺(tái)、X射線管與探測(cè)器及吹掃機(jī)構(gòu)。所述樣品載物臺(tái)用于放置待測(cè)樣品。所述X射線管用于向所述樣品載物臺(tái)發(fā)射X射線，所述探測(cè)器用于接收經(jīng)過所述待測(cè)樣品反射出的X熒光。所述吹掃機(jī)構(gòu)用于將抗干擾氣體吹向所述樣品載物臺(tái)。上述的全反射X射線熒光分析裝置，當(dāng)X射線管向樣品載物臺(tái)上的待測(cè)樣品發(fā)射X射線時(shí)，通過吹掃機(jī)構(gòu)將抗干擾氣體吹向樣品載物臺(tái)，這樣抗干擾氣體便可以將待測(cè)樣品外圍環(huán)境中的氣體驅(qū)離，能避免X射線將對(duì)試驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生影響的元素激發(fā)，從而便可以保證待測(cè)元素的檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。

技術(shù)研發(fā)人員：石平;何廣田
受保護(hù)的技術(shù)使用者：廣州市怡文環(huán)境科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201621048659
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.09
技術(shù)公布日：2017.03.15