1.一種全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，包括：
樣品載物臺(tái)，所述樣品載物臺(tái)用于放置待測(cè)樣品；
X射線(xiàn)管與探測(cè)器，所述X射線(xiàn)管用于向所述樣品載物臺(tái)發(fā)射X射線(xiàn)，所述探測(cè)器用于接收經(jīng)過(guò)所述待測(cè)樣品反射出的X熒光；及
吹掃機(jī)構(gòu)，所述吹掃機(jī)構(gòu)用于將抗干擾氣體吹向所述樣品載物臺(tái)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，所述吹掃機(jī)構(gòu)包括輸氣管與氣體流量計(jì)，所述氣體流量計(jì)裝設(shè)在所述輸氣管上，所述氣體流量計(jì)設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥，所述輸氣管的輸出端朝向所述樣品載物臺(tái)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，還包括套筒，所述套筒一端與所述探測(cè)器的X熒光接收端相連，所述套筒另一端朝向所述樣品載物臺(tái)設(shè)置，所述套筒側(cè)壁設(shè)有通孔，所述輸氣管通過(guò)所述通孔與所述套筒相連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，所述吹掃機(jī)構(gòu)包括儲(chǔ)氣瓶，所述儲(chǔ)氣瓶用于裝設(shè)所述抗干擾氣體，所述儲(chǔ)氣瓶的出氣口設(shè)有閥門(mén)，所述儲(chǔ)氣瓶的出氣口與所述輸氣管相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，還包括控制器，所述控制器與所述X射線(xiàn)管、所述閥門(mén)電性連接，所述控制器用于控制所述X射線(xiàn)管是否發(fā)射X射線(xiàn)、以及用于控制所述閥門(mén)開(kāi)啟或關(guān)閉。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，所述控制器與所述流量調(diào)節(jié)閥電性連接，所述控制器用于控制所述流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)所述輸氣管輸出的氣體流量大小。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，所述抗干擾氣體為氮?dú)?、二氧化碳或氧氣?/p>
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，還包括角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)，所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)與所述樣品載物臺(tái)傳動(dòng)相連，所述角度調(diào)節(jié)滑臺(tái)用于調(diào)整所述樣品載物臺(tái)相對(duì)于水平面的傾斜角度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，還包括高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)，所述高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)與所述樣品載物臺(tái)傳動(dòng)相連，所述高度調(diào)節(jié)滑臺(tái)用于驅(qū)動(dòng)所述樣品載物臺(tái)升降動(dòng)作。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全反射X射線(xiàn)熒光分析裝置，其特征在于，所述X射線(xiàn)管的發(fā)射端設(shè)有準(zhǔn)直器。