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多級顆粒物切割器的制作方法

文檔序號:11578459閱讀:242來源:國知局
多級顆粒物切割器的制造方法與工藝

本發(fā)明涉及一種顆粒物過濾裝置,具體涉及一種多級顆粒物切割器。



背景技術:

隨著社會經濟的快速發(fā)展和機動車保有量的迅猛增加,我國環(huán)境空氣污染越來越顯著,區(qū)域性大氣污染問題日趨嚴重,發(fā)達地區(qū)大氣pm2.5污染日趨嚴重,已經成未來污染發(fā)展的趨勢,不但造成能見度降低,也導致居民循環(huán)系統(tǒng)和呼吸系統(tǒng)發(fā)病率和死亡率上升,對人體健康產生危害。

目前,以往的顆粒物切割器不但結構復雜、工藝要求高、價格昂貴、操作和運輸不便、易維護難度大、難以推廣,而且切割器上的過濾裝置通常由噴嘴、過濾板、過濾孔等部件組成,在切割器過濾多次后被切割的顆粒留在噴嘴、過濾板上,甚至是過濾孔,若不及時清洗,就無法繼續(xù)正常切割。



技術實現要素:

針對現有技術存在的不足,本發(fā)明提供多級顆粒物切割器,并且能夠克服以上缺陷。

為了達到上述目的,本發(fā)明通過以下技術方案來實現:多級顆粒物切割器,包括進氣罩,進氣罩頂部設有進氣孔,進氣罩內從上至下依次設有相互密封連接的過濾屏、噴嘴、第一切割盒、第二切割盒以及密封圈,第二切割盒與進氣罩內壁密封連接,過濾屏上設有若干個第一過濾孔,噴嘴與過濾屏之間具有形成一個沖擊室,噴嘴內位于沖擊室底部設有第二過濾孔,第一切割盒上表面設有與第二過濾孔上下對應的第一吸附層,第一切割盒上位于第一吸附層的相對一側設有一級過濾孔,第二切割盒上表面設有與一級過濾孔上下對應的第二吸附層,第二切割盒上位于第二吸附層的相對一側設有二級過濾孔。

作為優(yōu)選:所述一級過濾孔設在第一切割盒中部,第一吸附層設在一級過濾孔的邊緣,第二吸附層設在第二切割盒中部,二級過濾孔設在第二吸附層邊緣,第二過濾孔設在噴嘴底部邊緣,第一吸附層和第二吸附層均通過粉末冶金制成且密度分別為5.4kg/m3和4.8kg/m3,第一吸附層、第二吸附層以及過濾屏上涂有有用于吸附顆粒物的可粘性油。

通過在切割盒上鑲嵌第一吸附層和第二吸附層,并且在第一吸附層和第二吸附層可吸收可粘性油,結構合理,顆粒吸附效果好,便于清洗,而且制造方便,第一吸附層和第二吸附層均通過粉末冶金制成。

作為優(yōu)選:所述可粘性油采用硅油,第一吸附層和第二吸附層均由不銹鋼粉末制成。

作為優(yōu)選:所述第二過濾孔設有四個并且均勻環(huán)設在噴嘴底部,所述第一吸附層設在第一切割盒邊緣并設置成環(huán)形結構。

作為優(yōu)選:所述噴嘴采用圓柱形結構且內部設有一凹槽,第二過濾孔設在凹槽底部。

作為優(yōu)選:所述第二切割盒與進氣罩內壁通過密封圈密封連接,第二切割盒5底部設有與密封圈配合的臺階。

作為優(yōu)選:所述過濾屏采用過濾屏2,過濾屏上均勻設有多個多邊形的第一過濾孔,噴嘴底部設有四個多邊形的第二過濾孔。

作為優(yōu)選:所述一級過濾孔為六邊形孔,二級過濾孔采用四個扇形孔并均勻環(huán)設在第二吸附層周圍。

作為優(yōu)選:所述進氣孔設有四個并均勻環(huán)設在進氣罩的頂部邊緣。

本發(fā)明具有有益效果為:

第一,本切割器采用多級切割,切割效果好,上切割盒吸附層、過濾孔和下切割盒上的過濾孔、吸附層分別對應,結構合理,在顆粒的慣性作用下,避免大顆粒對吸附到過濾孔內,從而堵塞過濾孔;第二,吸附層通過對大顆粒物的吸附,吸附效果好,便于后續(xù)對顆粒物的清洗,同時吸附后避免大顆粒物與其他顆粒的撞擊而降低切割效率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的爆炸示意圖;

圖2為本發(fā)明實施例中進氣罩的結構圖;

圖3為本發(fā)明過濾屏的結構示意圖;

圖4為本發(fā)明實施例中噴嘴的結構示意圖;

圖5為本發(fā)明實施例中第一切割盒的結構示意圖;

圖6為本發(fā)明實施例中第二切割盒結構示意圖;

圖7為本發(fā)明實施例中第二切割盒底部的結構示意圖。

附圖說明:1、進氣罩;2、過濾屏;3、噴嘴;4、第一切割盒;5、第二切割盒;6、密封圈;7、臺階;8、第一過濾孔;9、第二過濾孔;10、第一吸附層;11、進氣孔;12、沖擊室;13、一級過濾孔;14、第二吸附層;15、二級過濾孔。

具體實施方式

結合附圖,對本發(fā)明較佳實施例做進一步詳細說明。

實施例1

如圖1-7示,多級顆粒物切割器,包括進氣罩1,進氣罩1頂部設有進氣孔11,進氣罩1內從上至下依次設有相互密封連接的過濾屏2、噴嘴3、第一切割盒4、第二切割盒5以及密封圈6,第二切割盒5與進氣罩1內壁密封連接,過濾屏2上設有若干個第一過濾孔8,噴嘴3與過濾屏2之間具有形成一個沖擊室12,噴嘴3內位于沖擊室12底部設有第二過濾孔9,第一切割盒4上表面設有與第二過濾孔9上下對應的第一吸附層10,第一切割盒4上位于第一吸附層10的相對一側設有一級過濾孔13,第二切割盒5上表面設有與一級過濾孔13上下對應的第二吸附層14,第二切割盒5上位于第二吸附層14的相對一側設有二級過濾孔15;所述一級過濾孔13設在第一切割盒4中部,第一吸附層10設在一級過濾孔13的邊緣,第二吸附層14設在第二切割盒5中部,二級過濾孔15設在第二吸附層14邊緣,第二過濾孔9設在噴嘴3底部邊緣,第一吸附層10和第二吸附層14均通過粉末冶金制成且密度分別為5.4kg/m3和4.8kg/m3,第一吸附層10、第二吸附層14以及過濾屏2上涂有有用于吸附顆粒物的可粘性油;所述可粘性油采用硅油,第一吸附層10和第二吸附層14均由不銹鋼粉末制成;所述第二過濾孔9設有四個并且均勻環(huán)設在噴嘴3底部,所述第一吸附層10設在第一切割盒4邊緣并設置成環(huán)形結構;所述噴嘴3采用圓柱形結構且內部設有一凹槽,第二過濾孔9設在凹槽底部;所述第二切割盒5與進氣罩1內壁通過密封圈6密封連接,第二切割盒5底部設有與密封圈6配合的臺階7;所述過濾屏2采用過濾屏2,過濾屏2上均勻設有多個多邊形的第一過濾孔8,噴嘴3底部設有四個多邊形的第二過濾孔9;所述一級過濾孔13為六邊形孔,二級過濾孔15采用四個扇形孔并均勻環(huán)設在第二吸附層14周圍;所述進氣孔11設有四個并均勻環(huán)設在進氣罩1的頂部邊緣。

實際操作時,pm1.0:空氣中的顆粒物通過進氣罩側面的四個進氣孔11進入到切割器內,顆粒物首先經過過濾屏2,過濾屏2上多個大小一樣的五邊形的第一過濾孔8,由于過濾屏2表面涂有具有硅油,當顆粒物的直徑≥1.4毫米時,就會留在過濾屏2上,不會進入到切割器下一個部件,硅油具有一定的吸附性,會把一些毛發(fā)、毛屑吸附在過濾屏2表面,直徑<1.4毫米的顆粒物往下經過噴嘴,噴嘴3邊緣均勻環(huán)設有有4個六邊形的第二過濾孔9,第二過濾孔9孔的平面到過濾屏22的面有一定的距離,形成一個顆粒物的沖擊室12,當顆粒物從第一過濾孔8進入到噴嘴3后,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物的直徑≥0.2毫米時會留在噴嘴3內,不會進入到切割器的下一部件,直徑<0.2毫米的顆粒物通過噴嘴中間的4個六邊形第二過濾孔9進入到第一切割盒4第一切割盒4由塑料制成,中間鑲有不銹鋼粉末壓制成型的第一吸附層10,由于不銹鋼合金材料密度較低,密度分別為5.4kg/m3,成型后會有很多用于吸收硅油的細小的孔,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>2.5微米時,撞擊在第一切割盒4上,會被第一切割盒4表面的硅油吸附住,直徑≤2.5微米的顆粒物通過第一切割盒4中間的六邊形的一級過濾孔13進入到第二切割盒5第二切割盒5由塑料制成,中間鑲有有不銹鋼粉末壓制成型的第二吸附層14,合金材料密度較低(密度為4.8kg/m3),成型后會有很多吸收硅油的細小的孔,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>1.0微米時,撞擊在第二切割盒5上,會被第二切割盒5表面的硅油吸附住,直徑≤1.0微米的顆粒物通過第二切割盒5中間四個扇形孔進入到儀器內部,進行檢測,切割器的最底部裝有密封圈6,以保證切割器內部塑料件的外壁和進氣罩內壁之間間隙留入的顆粒物不會進入到儀器內部。

實施例2

pm2.5:與實施例1的區(qū)別是,當顆粒進入到噴嘴后,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物的直徑≥0.4毫米時會留在噴嘴的內,不會進入到切割器的下一部件,直徑<0.4毫米的顆粒物通過噴嘴中間的4個六邊形的第二過濾孔9進入到第一切割盒4,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>4微米時,撞擊在第一切割盒4上,會被第一切割盒4表面的硅油吸附住,直徑≤4微米的顆粒物通過第一切割盒4中間的六邊形孔進入到第二切割盒5,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>2.5微米時,撞擊在第二切割盒5上,會被第二切割盒5表面的硅油吸附住,直徑≤2.5微米的顆粒物通過第二切割盒5中間四個扇形孔進入到儀器內部,進行檢測。

實施例3

pm10:與實施例1的區(qū)別是,當顆粒物從四周進入到噴嘴后,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物的直徑≥1毫米時會留在噴嘴內,不會進入到切割器的下一部件,直徑<1毫米的顆粒物通過噴嘴3中間的4個六邊形的第二過濾孔9進入到第一切割盒4,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>12微米時,撞擊在第一切割盒4上,會被第一切割盒4表面的硅油吸附住,直徑≤12微米的顆粒物通過第一切割盒4中間的六邊形孔進入到第二切割盒5,由于氣流慣性會產生一定的重量,當顆粒物直徑>10微米時,撞擊在第二切割盒5上,會被第二切割盒5表面的硅油吸附住,直徑≤10微米的顆粒物通過第二切割盒5中間四個扇形孔進入到儀器內部,進行檢測。

上述實施例僅用于解釋說明本發(fā)明的發(fā)明構思,而非對本發(fā)明權利保護的限定,凡利用此構思對本發(fā)明進行非實質性的改動,均應落入本發(fā)明的保護范圍。

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