本發(fā)明涉及原子磁力儀制備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有技術(shù)中，為了減小銫原子與吸收室器壁碰撞造成的能級(jí)改變，在吸收室內(nèi)壁鍍高分子材料，例如聚四氟乙烯。此類材料的分子量遠(yuǎn)大于銫原子，與銫原子的碰撞類似彈性碰撞，減小了銫原子通過(guò)碰撞改變能級(jí)的幾率。常用的銫吸收室規(guī)格為25mmx25mm，但是由于銫吸收室內(nèi)壁鍍層的方法工藝復(fù)雜，批量生產(chǎn)時(shí)很難保證鍍層厚度，鍍層質(zhì)量的一致性差。因此，急需一種能夠在吸收室同樣可以達(dá)到內(nèi)部鍍層效果的裝置，而且制造工藝簡(jiǎn)單，實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)中原子吸收室內(nèi)部鍍層工藝復(fù)雜，不能夠批量生產(chǎn)的技術(shù)問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置，包括若干透光的云母片、若干非透光的聚四氟乙烯片和圓桿，所述云母片與所述聚四氟乙烯片均為環(huán)形，在所述云母片的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個(gè)第一矩形槽，所述第一矩形槽沿圓周對(duì)稱分布，所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個(gè)第二矩形槽，所述第二矩形槽沿圓周對(duì)稱分布，所述第一矩形槽與所述第二矩形槽數(shù)目相同，所述云母片與所述聚四氟乙烯片互相交替疊放，所述云母片與所述聚四氟乙烯片外側(cè)圓周開有若干個(gè)連接孔，相鄰的所述云母片與所述聚四氟乙烯片旋轉(zhuǎn)一定角度使所述第一矩形槽與所述第二矩形槽互不重疊，所述連接孔沿垂直方向形成通孔，所述圓桿穿過(guò)所述連接孔后將所述云母片與所述聚四氟乙烯片固定連接。

優(yōu)選的，所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的數(shù)目均為8-12個(gè)，所述云母片和所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓開槽部分的弧長(zhǎng)與內(nèi)圓未開槽部分的弧長(zhǎng)相等；

優(yōu)選的，所述連接孔設(shè)置在所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的外側(cè)；

優(yōu)選的，所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為原子吸收室的內(nèi)徑，所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓的直徑為外圓直徑的2/5～3/5；

優(yōu)選的，所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為25mm，所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓的直徑為10～15mm；

優(yōu)選的，所述云母片與所述聚四氟乙烯片的厚度均為0.2mm，相鄰所述云母片與所述聚四氟乙烯片的間距為0.5mm.

本發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言取得了以下技術(shù)效果：

本發(fā)明通過(guò)云母片與聚四氟乙烯片交錯(cuò)疊放，而且相鄰的云母片與聚四氟乙烯片的開槽位置也互相錯(cuò)開，使得不透光的聚四氟乙烯片在開槽的位置能夠通過(guò)透光云母片將光線照射進(jìn)來(lái)，但是氣體分子不能通過(guò)開槽位置擴(kuò)散，達(dá)到了降低氣體分子擴(kuò)散速度的目的。裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，原材料獲取方便，加工時(shí)間短，便于批量生產(chǎn)，而且在使用過(guò)程中更換方便。本發(fā)明巧妙的將鍍膜的結(jié)構(gòu)擴(kuò)展具體化，通過(guò)材料混合使用，將不透光的材料和透光的材料做成片狀并交錯(cuò)疊加，通過(guò)限制銫原子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)，減小銫原子與吸收室內(nèi)部碰撞的幾率，達(dá)到內(nèi)部鍍層的效果。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置的整體示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例聚四氟乙烯片的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例云母片的結(jié)構(gòu)示意圖；

其中，1-聚四氟乙烯片、2-云母片、3-圓桿、4-第一矩形槽、5-第二矩形槽、6-連接孔。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明的目的是提供一種提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)中原子吸收室內(nèi)部鍍層工藝復(fù)雜，不能夠批量生產(chǎn)的技術(shù)問(wèn)題。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。

如圖1所示，本發(fā)明提供一種提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置，包括若干透光的云母片2、若干非透光的聚四氟乙烯片1和圓桿3，所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1均為環(huán)形，在所述云母片2的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個(gè)第一矩形槽4，所述第一矩形槽4沿圓周對(duì)稱分布，所述聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個(gè)第二矩形槽5，所述第二矩形槽5沿圓周對(duì)稱分布，所述第一矩形槽4與所述第二矩形槽5數(shù)目相同，所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1互相交替疊放，所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1外側(cè)圓周開有若干個(gè)連接孔6，相鄰的所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1旋轉(zhuǎn)一定角度使所述第一矩形槽4與所述第二矩形槽5互不重疊，所述連接孔6沿垂直方向形成通孔，所述圓桿3穿過(guò)所述連接孔6后將所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1固定連接。

本發(fā)明的裝置是由高分子材料構(gòu)成的支架結(jié)構(gòu)，原有技術(shù)中是在銫原子吸收室內(nèi)部鍍一層高分子材料，通常為聚四氟乙烯，此類材料的分子量遠(yuǎn)大于銫原子，與銫原子的碰撞類似彈性碰撞，減小了銫原子通過(guò)碰撞改變能級(jí)的幾率；而本發(fā)明的支架結(jié)構(gòu)同樣是放在銫原子吸收室內(nèi)部，但是是套接在內(nèi)部，通過(guò)將高分子材料制成片狀結(jié)構(gòu)，進(jìn)而疊放成中間具有通孔的立體支架結(jié)構(gòu)，這種特殊結(jié)構(gòu)，通過(guò)限制銫原子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)，減小銫原子與吸收室內(nèi)部碰撞的幾率，同樣可以達(dá)到內(nèi)部鍍層的效果，且工藝簡(jiǎn)單，便于批量生產(chǎn)。

如圖2和3，所述第一矩形槽4和所述第二矩形槽5的數(shù)目均為8-12個(gè)，開槽的數(shù)目小于8個(gè)則達(dá)不到組織原子擴(kuò)散的目的，所述云母片2和所述聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓開槽部分的弧長(zhǎng)與內(nèi)圓未開槽部分的弧長(zhǎng)相等；所述連接孔6設(shè)置在所述第一矩形槽4和所述第二矩形槽5的外側(cè)。

云母片2與聚四氟乙烯片1的外圓直徑為原子吸收室的內(nèi)徑，云母片2與聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓的直徑為外圓直徑的2/5～3/5。

比如，對(duì)于常用的25mmx25mm的銫吸收室，云母片2與聚四氟乙烯片1的外圓直徑為25mm，云母片2與聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓的直徑為10～15mm；云母片2與聚四氟乙烯片1的厚度均為0.2mm，而且相鄰的云母片2與聚四氟乙烯片1的間距為0.5mm。

本發(fā)明提高原子磁力儀弛豫時(shí)間的裝置為支架結(jié)構(gòu)，在組裝支架時(shí)，將云母片2與聚四氟乙烯片1交錯(cuò)疊放在一起，而且相鄰的兩個(gè)薄片需要通過(guò)未開槽的部分掩蓋住開槽的位置，這樣一個(gè)透光材料相鄰一個(gè)不透光的材料，但是開槽的部位由于透光材料云母片2的原因，光依然可以照射進(jìn)來(lái)，但是原子在徑向擴(kuò)散的時(shí)候卻起到一定的抑制作用，但是如果云母片2不開槽，雖然聚四氟乙烯片1開槽部分能夠透光，但是這樣原子將無(wú)法擴(kuò)散，因此，聚四氟乙烯片1與云母片2需要同時(shí)開槽，而且開槽的數(shù)目和形狀相同，這樣旋轉(zhuǎn)一定角度后未開槽部分與開槽部分才能夠互相遮蓋，疊放完成后，圓桿3穿過(guò)連接孔6將疊好的薄片連接起來(lái)，進(jìn)而固定好成為支架。在使用過(guò)程中將支架放入原子吸收室，即可達(dá)到在原子吸收室鍍高分子材料的同等效果，更換更加容易，而且適用于批量生產(chǎn)，大大解決了現(xiàn)有技術(shù)中鍍高分子材料存在的鍍層不均勻，質(zhì)量差的問(wèn)題。

本發(fā)明中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處。綜上所述，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。