1.一種薄膜厚度測量系統(tǒng)，其特征在于，包括：
照明光學(xué)裝置，用于產(chǎn)生一錐狀光束投射至樣品的薄膜表面上一點；
成像光學(xué)裝置，包括聚焦透鏡和圖像采集模塊；所述聚焦透鏡將從樣品表面反射的光按照入射角從小到大的順序投射到所述圖像采集模塊上，所述圖像采集模塊探測得到樣品表面光束的反射強度信息，并根據(jù)反射強度信息建立反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線；
薄膜厚度解析裝置，利用反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線和斯涅耳定律構(gòu)建反射率與折射角度余弦值的函數(shù)，并通過對所述函數(shù)進行傅里葉變換解析得到樣品的薄膜厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述照明光學(xué)裝置包括光源、偏振片、第一顯微物鏡、針孔、準直透鏡和第二顯微物鏡，其中，所述針孔位于所述準直透鏡的焦平面上；
所述光源發(fā)射的適合波長的光通過所述偏振片得到偏振光，并由所述第一顯微物鏡進行匯聚經(jīng)過所述針孔濾除雜散光，再由所述準直透鏡進行準直輸出平行光束，入射至所述第二顯微物鏡，將平行光束匯聚為錐狀光束，入射至樣品的薄膜表面上一點。
3.如權(quán)利要求1所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述圖像采集模塊為線陣相機。
4.如權(quán)利要求2所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光源為單色光源或是激光光源。
5.如權(quán)利要求2所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述準直透鏡和聚焦透鏡為平凸透鏡。
6.如權(quán)利要求2所述的測量系統(tǒng)，其特征在于，所述第二顯微物鏡的選取準則為：長工作距離、大數(shù)值孔徑物鏡。
7.一種薄膜厚度測量方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S10、選取合適波長的偏振光源，進行擴束、準直、聚焦處理得到一錐狀光束，并投射到樣品的薄膜表面同一位置；
步驟S20、將從樣品表面反射的光按照入射角從小到大的順序投射到圖像采集模塊上，探測得到樣品表面光束的反射強度信息，并根據(jù)反射強度信息建立反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線；
步驟S30、利用反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線和斯涅耳定律構(gòu)建反射率與折射角度余弦值的函數(shù)，并通過對所述函數(shù)進行傅里葉變換解析得到樣品的薄膜厚度。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，
在步驟S20中，根據(jù)反射強度信息建立的曲線為樣品表面S分量光波的反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線；
相應(yīng)的，在步驟S30中，利用所述S分量光波的反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線和斯涅耳定律構(gòu)建的函數(shù)為樣品表面S分量光波的反射率與折射角度余弦值的函數(shù)。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，步驟S30具體包括以下步驟：
步驟S31、利用斯涅耳定律，變換樣品表面S分量光波的反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線對應(yīng)函數(shù)的入射角度變量，得到S分量光波的反射率和折射角余弦值的函數(shù)Rs～cosθ2，
步驟S32、采集樣品的基底材料表面反射強度信息，得到基底材料表面S分量光波的反射率與入射角度之間的關(guān)系曲線，并采用步驟S31同樣的原理得到基底材料表面S分量光波的反射率與折射角余弦值的函數(shù)R0s～cosθ2；
步驟S33、通過使步驟S31與S32中得到的兩個函數(shù)做差，得到薄膜表面S分量光波的反射率與折射角余弦值的函數(shù)R1s～cosθ2；
步驟S34、根據(jù)已知參數(shù)，計算得到薄膜厚度與基頻位置的關(guān)系函數(shù)；
步驟S35、對薄膜表面S分量光波的反射率與折射角余弦值的函數(shù)R1s～cosθ2進行傅里葉變換，獲得歸一化頻譜信息，確定零頻與基頻之間距離；
步驟S36、將步驟S35中得出的基頻與零頻之間的距離作為橫坐標代入步驟S34得到的關(guān)系函數(shù)，計算得到薄膜厚度值。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，步驟S34中所述已知參數(shù)包括空氣折射率n1、薄膜折射率n2和基底材料折射率n3以及入射光波長λ。